首先準備一塊柔性薄膜作為彈性基底層,，然后將巰基-烯預聚物旋涂在具有表面結(jié)構(gòu)的母板上，彈性薄膜壓印在巰基-烯層上,，與材料均勻接觸,。巰基-烯材料可以在自然環(huán)境中固化通過“點擊反應”形成交聯(lián)聚合物，不受氧氣和水的阻聚作用,。順利分離開母板后,，彈性薄膜與固化后的巰基-烯層緊密連接在一起，獲得雙層結(jié)構(gòu)的復合柔性模板,。由于良好的材料特性,，剛性巰基-烯結(jié)構(gòu)層可以實現(xiàn)較高的分辨率。因此,，利用該方法可以制備高 分辨的復合柔性模板,，經(jīng)過表面防粘處理后可以作為軟壓印模板使用。該研究利用新方法制備了以PDMS和PET為彈性基底的亞100nm線寬的光柵結(jié)構(gòu)復合軟壓印模板,。相關研究成果發(fā)表于《納米科技與納米技術雜志》（JournalofNanoscienceandNanotechnology）,。（來自網(wǎng)絡。步進重復納米壓印光刻可以從比較大50 mm x 50 mm的小模具到比較大300 mm基板尺寸的大面積均勻復制模板,。半導體設備納米壓印推薦產(chǎn)品

HERCULES ® NIL完全模塊化和集成SmartNIL ® UV-NIL系統(tǒng)達300毫米

結(jié)合EVG的SmartNIL一個完全模塊化平臺®技術支持AR / VR,，3D傳感器，光子和生物技術生產(chǎn)應用

EVG的HERCULES NIL 300 mm是一個完全集成的跟 蹤系統(tǒng),，將清潔,，抗蝕劑涂層和烘烤預處理步驟與EVG專有的SmartNIL大面積納米壓印光刻（NIL）工藝結(jié)合在一個平臺上，用于直徑比較大為300 mm的晶圓,。它是***個基于EVG的全模塊化設備平臺和可交換模塊的NIL系統(tǒng),，可為客戶提供比較大的自由度來配置他們的系統(tǒng),，以比較好地滿足其生產(chǎn)需求，包括200 mm和300 mm晶圓的橋接功能,。

湖北納米壓印一級代理EVG ? 610也可以設計成紫外線納米壓印光刻系統(tǒng),。

    具體說來就是，MOSFET能夠有效地產(chǎn)生電流流動,，因為標準的半導體制造技術旺旺不能精確控制住摻雜的水平（硅中摻雜以帶來或正或負的電荷）,，以確保跨各組件的通道性能的一致性,。通常MOSFET是在一層二氧化硅（SiO2）襯底上,，然后沉積一層金屬或多晶硅制成的。然而這種方法可以不精確且難以完全掌控,，摻雜有時會泄到別的不需要的地方,，那樣就創(chuàng)造出了所謂的“短溝道效應”區(qū)域，并導致性能下降,。一個典型MOSFET不同層級的剖面圖,。不過威斯康星大學麥迪遜分校已經(jīng)同全美多個合作伙伴攜手（包括密歇根大學、德克薩斯大學,、以及加州大學伯克利分校等）,，開發(fā)出了能夠降低摻雜劑泄露以提升半導體品質(zhì)的新技術。研究人員通過電子束光刻工藝在表面上形成定制形狀和塑形,，從而帶來更加“物理可控”的生產(chǎn)過程,。（來自網(wǎng)絡。

EVG ® 6200 NT特征：

頂部和底部對準能力

高精度對準臺

自動楔形補償序列

電動和程序控制的曝光間隙

支持***的UV-LED技術

**小化系統(tǒng)占地面積和設施要求

分步流程指導

遠程技術支持

多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,，可分配的訪問權限,，不同的用戶界面語言）

敏捷處理和轉(zhuǎn)換工具

臺式或帶防震花崗巖臺的單機版

EVG ® 6200 NT附加功能：

鍵對準

紅外對準

智能NIL ®

μ接觸印刷技術數(shù)據(jù)

晶圓直徑（基板尺寸）

標準光刻：75至200 mm

柔軟的UV-NIL：75至200毫米

SmartNIL ®：**多至150mm

解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：軟UV-NIL＆SmartNIL

®

曝光源：汞光源或紫外線LED光源

對準：軟NIL：≤±0.5 μm；SmartNIL ®：≤±3微米

自動分離：柔紫外線NIL：不支持,；SmartNIL

®：支持

工作印章制作：柔軟的UV-NIL：外部,；SmartNIL ®：支持

HERCULES NIL 300 mm提供市場上**納米壓印功能，具有較低的力和保形壓印,，快速高功率曝光和平滑壓模分離,。

EVG ® 510 HE熱壓印系統(tǒng)

應用：高度靈活的熱壓印系統(tǒng)，用于研發(fā)和小批量生產(chǎn)

EVG510 HE半自動熱壓印系統(tǒng)設計用于對熱塑性基材進行高精度壓印,。該設備配置有通用壓花室以及真空和接觸力功能,，并管理適用于熱壓印的全部聚合物。結(jié)合高縱橫比壓印和多種脫壓選項,，提供了許多用于高質(zhì)量納米圖案轉(zhuǎn)印的工藝,。

EVG ® 510 HE特征：

用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印應用

自動化壓花工藝

EVG專有的**對準工藝，用于光學對準的壓印和壓印

完全由軟件控制的流程執(zhí)行

閉環(huán)冷卻水供應選項

外部浮雕和冷卻站 EVG紫外光納米壓印系統(tǒng)還有：EVG?7200LA，HERCULES?NIL,，EVG?770,，IQAligner?等。半導體設備納米壓印推薦產(chǎn)品

納米壓印是一種用于大規(guī)模制造微米級和納米級結(jié)構(gòu)的低成本的技術,，大批量替代光刻技術,。半導體設備納米壓印推薦產(chǎn)品

客戶示范

■工藝開發(fā)

■材料測試

■與合作伙伴共同研發(fā)

■資助項目

■小批量試生產(chǎn)

■IP管理

■過程技術許可證

■流程培訓

→世界前列的潔凈室基礎設施

→**的設備

→技術**

→**計量

→工藝知識

→應用知識

→與NIL的工作印模材料和表面化學有關的化學專業(yè)知識

新應用程序的開發(fā)通常與設備功能的提高緊密相關。 EVG的NIL解決方案能夠產(chǎn)生具有納米分辨率的多種不同尺寸和形狀的圖案,，并在顯示器,，生物技術和光子應用中實現(xiàn)了許多新的創(chuàng)新。

岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商,，歡迎各位聯(lián)系我們,，探討納米壓印光刻的相關知識,。我們愿意與您共同進步,。

半導體設備納米壓印推薦產(chǎn)品