SmartNIL是行業(yè)**的NIL技術(shù),，可對小于40 nm *的極小特征進行圖案化,，并可以對各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀進行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術(shù)相結(jié)合,，可實現(xiàn)****的吞吐量,，并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢，同時保留了可擴展性和易于維護的操作,。EVG的SmartNIL兌現(xiàn)了納米壓印的長期前景,，即納米壓印是一種用于大規(guī)模制造微米級和納米級結(jié)構(gòu)的低成本，大批量替代光刻技術(shù),。

*分辨率取決于過程和模板

如果需要詳細的信息,，請聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司。 納米壓印設(shè)備哪個好,？預墨印章可用于將材料以明顯的圖案轉(zhuǎn)移到基材上,。本地納米壓印推薦型號

EVG610特征：

頂部和底部對準能力

高精度對準臺

自動楔形誤差補償機制

電動和程序控制的曝光間隙

支持***的UV-LED技術(shù)

**小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求

分步流程指導

遠程技術(shù)支持

多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權(quán)限,，不同的用戶界面語言）

敏捷處理和光刻工藝之間的轉(zhuǎn)換

臺式或帶防震花崗巖臺的單機版

EVG610附加功能：

鍵對準

紅外對準

納米壓印光刻 

μ接觸印刷

EVG610技術(shù)數(shù)據(jù)：

晶圓直徑（基板尺寸）

標準光刻：比較大150毫米的碎片

柔軟的UV-NIL：比較大150毫米的碎片

解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：柔軟的UV-NIL

曝光源：汞光源或紫外線LED光源

自動分離：不支持

工作印章制作：外部

EVG720納米壓印技術(shù)支持EVG ? 6200 NT是SmartNIL UV紫外光納米壓印光刻系統(tǒng),。

    ”EV集團的技術(shù)研發(fā)與IP主管MarkusWimplinger說，“通過與供應(yīng)鏈的關(guān)鍵企業(yè)的合作,，例如DELO,，我們能夠進一步提高效率，作為與工藝和設(shè)備**們一同研究并建立關(guān)鍵的新生產(chǎn)線制造步驟的中心,?！薄癊VG和DELO分別是晶圓級光學儀器與NIL設(shè)備與光學材料的技術(shù)與市場**企業(yè)。雙方在將技術(shù)與工藝流程應(yīng)用于大規(guī)模生產(chǎn)方面有可靠的經(jīng)驗,”DELO的董事總經(jīng)理RobertSaller說道,?！巴ㄟ^合作，我們將提供自己獨特的技術(shù)，將晶圓級工藝技術(shù)應(yīng)用于光學器件和光電器件制造中,，EVG也成為我們***產(chǎn)品開發(fā)的理想合作伙伴,。這種合作還將使我們以應(yīng)用**和前列合作伙伴的身份為客戶服務(wù)。"晶圓級光學元件的應(yīng)用解決方案EVG的晶圓級光學器件解決方案為移動式消費電子產(chǎn)品提供多種新型的光學傳感設(shè)備,。主要的例子是：3D感應(yīng),，飛行時間，結(jié)構(gòu)光,，生物特征身份認證,，面部識別,虹膜掃描，光學指紋,，頻譜檢測,，環(huán)境感應(yīng)與紅外線成像。其它應(yīng)用領(lǐng)域包括汽車照明,，光地毯,，平視顯示器，車內(nèi)感應(yīng),，激光雷達,，內(nèi)窺鏡照相機醫(yī)學成像，眼科設(shè)備與手術(shù)機器人,。EVG的晶圓級光學儀器解決方案得到公司的NILPhotonics解決方案支援中心的支持,。DELO創(chuàng)新的多功能材料幾乎可以在世界上每部手機上找到。

曲面基底上的納米結(jié)構(gòu)在許多領(lǐng)域都有著重要應(yīng)用,，例如仿生學,、柔性電子學和光學器件等。傳統(tǒng)的納米壓印技術(shù)通常采用剛性模板,，可以實現(xiàn)亞10nm的分辨率,，但是模板不能彎折，無法在曲面基底上壓印制備納米結(jié)構(gòu),。而采用彈性模板的軟壓印技術(shù)可以在無外界提供壓力下與曲面保形接觸,，實現(xiàn)結(jié)構(gòu)在非平面基底上的壓印復制，但是由于彈性模板的楊氏模量較低,，所以壓印結(jié)構(gòu)的分辨率和精度都受到限制,。基于目前納米壓印的發(fā)展現(xiàn)狀,，結(jié)合傳統(tǒng)的納米壓印技術(shù)和軟壓印技術(shù),，中國科學院光電技術(shù)研究所團隊發(fā)展了一種基于紫外光固化巰基-烯材料的亞100nm分辨率的復合軟壓印模板的制備方法，該模板包含剛性結(jié)構(gòu)層和彈性基底層,。（來自網(wǎng)絡(luò),，侵權(quán)請聯(lián)系我們進行刪除,，謝謝！） EVG620 NT支持多種標準光刻工藝,，例如真空,，軟，硬和接近曝光模式,，以及背面對準選項,。

EVG ® 7200 LA大面積SmartNIL

® UV納米壓印光刻系統(tǒng)

用于大面積****的共形納米壓印光刻,。

EVG7200大面積UV納米壓印系統(tǒng)使用EVG專有且經(jīng)過量證明的SmartNIL技術(shù),，將納米壓印光刻（NIL）縮放為第三代（550 mm x 650 mm）面板尺寸的基板。對于不能減小尺寸的顯示器,，線柵偏振器,，生物技術(shù)和光子元件等應(yīng)用，至關(guān)重要的是通過增加圖案面積來提高基板利用率,。NIL已被證明是能夠在大面積上制造納米圖案的**經(jīng)濟有效的方法,，因為它不受光學系統(tǒng)的限制，并且可以為**小的結(jié)構(gòu)提供比較好的圖案保真度,。

SmartNIL利用非常強大且可控的加工工藝,，提供了低至40 nm *的出色保形壓印結(jié)果。憑借獨特且經(jīng)過驗證的設(shè)備功能（包括****的易用性）以及高水平的工藝專業(yè)知識,，EVG通過將納米壓印提升到一個新的水平來滿足行業(yè)需求,。

*分辨率取決于過程和模板 高 效，強大的SmartNIL工藝提供高圖案保真度,，擁有高度均勻圖案層和**少殘留層,，易于擴展的晶圓尺寸和產(chǎn)量。EVG720納米壓印技術(shù)支持

EVG的納米壓印光刻（NIL） - SmartNIL ? 是用于大批量生產(chǎn)的大面積軟UV納米壓印光刻工藝,。本地納米壓印推薦型號

    在EVG的NILPhotonics?解決方案支援中心,，雙方合作研發(fā)用于制造光學傳感器的新材料，以及適用于大眾化市場的晶圓級光學元件,。（奧地利）與WINDACH（德國）,，2019年11月27日――EV集團(EVG)這一全球**的為微機電系統(tǒng)、納米技術(shù)與半導體市場提供晶圓鍵合與光刻設(shè)備的供應(yīng)商,，***宣布與高科技工業(yè)粘合劑制造商DELO在晶圓級光學元件(WLO)領(lǐng)域開展合作,。這兩家公司均在光學傳感器制造領(lǐng)域處于**地位。它們的合作將充分利用EVG的透鏡注塑成型與納米壓印光刻(NIL)加工設(shè)備與DELO先進的粘合劑與抗蝕材料,，在工業(yè),，汽車，消費類電子產(chǎn)品市場開發(fā)與應(yīng)用新型光學設(shè)備,，例如生物特征身份認證,，面部識別,。目前雙方正在EVG的NILPhotonics?解決方案支援中心（位于EVG總部，奧地利Florian）以及DELO在德國Windach的總部展開合作,。雙方致力于改善與加快材料研發(fā)周期,。EVG的NILPhotonics解決方案支援中心為NIL供應(yīng)鏈的客戶與合作伙伴提供了開放的創(chuàng)新孵化器，旨在通過合作來縮短創(chuàng)新設(shè)備與應(yīng)用的研發(fā)與推廣周期,。該中心的基礎(chǔ)設(shè)施包括**技術(shù)的潔凈室與支持NIL制造的主要步驟的設(shè)備,，例如分步重復母版，透鏡模制,，以及EVG的SmartNIL?技術(shù),，晶圓鍵合與必要的測量設(shè)備。本地納米壓印推薦型號