納米壓印應(yīng)用二：面板尺寸的大面積納米壓印

EVG專有的且經(jīng)過大量證明的SmartNIL技術(shù)的***進(jìn)展,，已使納米圖案能夠在面板尺寸比較大為Gen 3（550 mm x 650 mm）的基板上實(shí)現(xiàn)。對于不能減小尺寸的顯示器,，線柵偏振器,，生物技術(shù)和光子元件等應(yīng)用，至關(guān)重要的是通過增加圖案面積來提高基板利用率,。 NIL已被證明是能夠在大面積上制造納米圖案的**經(jīng)濟(jì),、高 效的方法，因?yàn)樗皇芄鈱W(xué)系統(tǒng)的限制,，并且可以為**小的結(jié)構(gòu)提供比較好的圖案保真度,。岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商，歡迎各位聯(lián)系我們,，探討納米壓印光刻的相關(guān)知識,。

SmartNIL集成多次使用的軟標(biāo)記處理功能，并具有顯著的擁有成本的優(yōu)勢,，同時保留可擴(kuò)展性和易于維護(hù)的特點(diǎn),。低溫納米壓印技術(shù)支持

EVG ® 770特征：

微透鏡用于晶片級光學(xué)器件的高 效率制造主下降到納米結(jié)構(gòu)為SmartNIL ®

簡單實(shí)施不同種類的大師

可變抗蝕劑分配模式

分配，壓印和脫模過程中的實(shí)時圖像

用于壓印和脫模的原位力控制

可選的光學(xué)楔形誤差補(bǔ)償

可選的自動盒帶間處理

EVG ® 770技術(shù)數(shù)據(jù)：

晶圓直徑（基板尺寸）：100至300毫米

解析度：≤50 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：柔軟的UV-NIL

曝光源：大功率LED（i線）> 100 mW /cm2

對準(zhǔn)：頂側(cè)顯微鏡,，用于實(shí)時重疊校準(zhǔn)≤±500 nm和精細(xì)校準(zhǔn)≤±300 nm

較早印刷模具到模具的放置精度：≤1微米

有效印記區(qū)域：長達(dá)50 x 50毫米

自動分離：支持的

前處理：涂層：液滴分配（可選）

中國香港納米壓印技術(shù)支持納米壓印設(shè)備可用來進(jìn)行熱壓花,、加壓加熱、印章,、聚合物,、基板、附加沖壓成型脫模,。

納米壓印應(yīng)用三：連續(xù)性UV納米壓印

EVG770是用于步進(jìn)重復(fù)納米壓印光刻的通用平臺,，可用于有效地進(jìn)行母版制作或?qū)迳系膹?fù)雜結(jié)構(gòu)進(jìn)行直接圖案化。這種方法允許從比較大50 mm x 50 mm的小模具到比較大300 mm基板尺寸的大面積均勻復(fù)制模板,。與鉆石車削或直接寫入方法相結(jié)合,，分步重復(fù)刻印通常用于高 效地制造晶圓級光學(xué)器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版,。岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商，歡迎各位聯(lián)系我們,，探討納米壓印光刻的相關(guān)知識,。我們愿意與您共同進(jìn)步。

關(guān)于WaveOptics       

      WaveOptics是衍射波導(dǎo)的全球**設(shè)計商和制造商,，衍射波導(dǎo)是可穿戴AR設(shè)備中的關(guān)鍵光學(xué)組件,。

      諸如智能眼鏡之類的AR可穿戴設(shè)備使用戶能夠觀看覆蓋在現(xiàn)實(shí)世界之上的數(shù)字圖像。有兩個關(guān)鍵元素可讓您看到這些圖像-微型投影儀之類的光源,，以及將圖像從投影儀傳遞到用戶眼睛中的一種方式,。

WaveOptics的波導(dǎo)技術(shù)可傳輸來自光源的光波并將其投射到用戶的眼睛中。該技術(shù)可產(chǎn)生大的眼框,，雙目觀察和高視野,。眼圖框（查看窗口）是從中可以看到完整圖像的AR顯示器的尺寸-請參見下圖。WaveOptics的波導(dǎo)提供清晰,，無失真的文本以及穩(wěn)定的圖像,。

      WaveOptics技術(shù)旨在用于工業(yè)，企業(yè)和消費(fèi)者市場的沉浸式AR體驗(yàn),。該公司的目標(biāo)是,，憑借其獨(dú)特的技術(shù)和專業(yè)知識，其波導(dǎo)將成為所有AR可穿戴設(shè)備中使用的he心光學(xué)組件,，以實(shí)現(xiàn)****的制造可擴(kuò)展性和視覺性能,，并為眾多應(yīng)用提供多功能性。 **小外形尺寸和大體積創(chuàng)新型光子結(jié)構(gòu)提供了更多的自由度,，這對于實(shí)現(xiàn)衍射光學(xué)元件（DOE）至關(guān)重要,。

    納米壓印微影技術(shù)可望優(yōu)先導(dǎo)入LCD面板領(lǐng)域原本計劃應(yīng)用在半導(dǎo)體生產(chǎn)制程的納米壓印微影技術(shù)(Nano-ImpLithography；NIL),，現(xiàn)將率先應(yīng)用在液晶顯示器(LCD)制程中,。NIL為次世代圖樣形成技術(shù)。據(jù)ETNews報導(dǎo),，南韓顯示器面板企業(yè)LCD制程研發(fā)小組,，未確認(rèn)NIL設(shè)備實(shí)際圖樣形成能力，直接參訪海外NIL設(shè)備廠,。該制程研發(fā)小組透露,，若引進(jìn)相關(guān)設(shè)備，將可提升面板性能,。并已展開具體供貨協(xié)商,。NIL是以刻印圖樣的壓印機(jī)，像蓋章般在玻璃基板上形成圖樣的制程。在基板上涂布UV感光液后,，再以壓印機(jī)接觸施加壓力,，印出面板圖樣。之后再經(jīng)過蝕刻制程形成圖樣,。NIL可在LCD玻璃基板上刻印出偏光圖樣,，不需再另外貼附偏光薄膜。雖然在面板制程中需增加NIL,、蝕刻制程,，但省落偏光膜貼附制程，可維持同樣的生產(chǎn)成本,。偏光膜會吸收部分光線降低亮度,。若在玻璃基板上直接形成偏光圖樣，將不會發(fā)生降低亮度的情況,。通常面板分辨率越高，因配線較多,，較難確保開口率(ApertureRatio),。EVG的EVG ? 620 NT是智能NIL ? UV納米壓印光刻系統(tǒng)。中國香港納米壓印技術(shù)支持

EVG先進(jìn)的多用戶概念可以適應(yīng)從初學(xué)者到**級別的所有需求,，因此使其成為大學(xué)和研發(fā)應(yīng)用程序的理想選擇,。低溫納米壓印技術(shù)支持

EVG ® 520 HE熱壓印系統(tǒng)

特色：經(jīng)通用生產(chǎn)驗(yàn)證的熱壓印系統(tǒng)，可滿足比較高要求

EVG520 HE半自動熱壓印系統(tǒng)設(shè)計用于對熱塑性基材進(jìn)行高精度壓印,。EVG的這種經(jīng)過生產(chǎn)驗(yàn)證的系統(tǒng)可以接受直徑比較大為200 mm的基板,，并且與標(biāo)準(zhǔn)的半導(dǎo)體制造技術(shù)兼容。熱壓印系統(tǒng)配置有通用壓花腔室以及高真空和高接觸力功能,，并管理適用于熱壓印的整個聚合物范圍,。結(jié)合高縱橫比壓印和多種脫壓選項，提供了許多用于高質(zhì)量圖案轉(zhuǎn)印和納米分辨率的工藝,。

如果需要詳細(xì)的信息,，請聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司。 低溫納米壓印技術(shù)支持