EVG公司技術(shù)開發(fā)和IP總監(jiān)Markus Wimplinger補充說：“我們開發(fā)新技術(shù)和工藝以應對*復雜的挑戰(zhàn)，幫助我們的客戶成功地將其新產(chǎn)品創(chuàng)意商業(yè)化,。技術(shù),，我們創(chuàng)建了我們的NILPhotonics能力中心?！霸诰哂斜Ｗo客戶IP的強大政策的框架內(nèi),，我們?yōu)榭蛻籼峁┝藦目尚行缘缴a(chǎn)階段的產(chǎn)品開發(fā)和商業(yè)化支持。這正是我們***與AR領(lǐng)域的**者WaveOptics合作所要做的,，以為*終客戶提供真正可擴展的解決方案,。”

      EVG的NILPhotonics®能力中心框架內(nèi)的協(xié)作開發(fā)工作旨在支持WaveOptics的承諾,，即在工業(yè),，企業(yè)和消費者等所有主要市場領(lǐng)域釋放AR在大眾市場的應用，并遵循公司模塊計劃的推出,。 HERCULES?NIL是完全集成的納米壓印光刻解決方案,，可實現(xiàn)300 mm的大批量生產(chǎn)。江蘇納米壓印可以免稅嗎

    EV集團和肖特攜手合作,，證明300-MM光刻/納米壓印技術(shù)在大體積增強現(xiàn)實/混合現(xiàn)實玻璃制造中已就緒聯(lián)合工作將在EVG的NILPhotonics?能力中心開展,，這是一個開放式的光刻/納米壓印（NIL）技術(shù)創(chuàng)新孵化器,，同時也是全球***可及的300-mm光刻/納米壓印技術(shù)線2019年8月28日,，奧地利，圣弗洛里安――微機電系統(tǒng)（MEMS）,、納米技術(shù)和半導體市場晶圓鍵合與光刻設備**供應商EV集團（EVG）***宣布,，與特種玻璃和微晶玻璃領(lǐng)域的**技術(shù)集團肖特攜手合作，證明300-mm（12英寸）光刻/納米壓?。∟IL）技術(shù)在下一代增強現(xiàn)實/混合現(xiàn)實（AR/MR）頭戴顯示設備的波導/光導制造中使用的高折射率（HRI）玻璃晶圓的大體積圖案成形已就緒,。此次合作涉及EVG的專有SmartNIL?工藝和SCHOTTRealView?高折射率玻璃晶圓，將在EVG位于奧地利總部的NILPhotonics?能力中心進行,。肖特將于9月4日至7日在深圳會展中心舉行的中國國際光電博覽會上展示一款采用EVGSmartNIL技術(shù)進行圖案成形的300-mmSCHOTTRealView?玻璃晶圓,。300-mm和200-mmSCHOTTRealView?玻璃基板，裝配在應用SmartNIL?UV-NIL技術(shù)的EVG?HERCULES?,。江蘇納米壓印有哪些品牌EVG提供不同的***積壓印系統(tǒng),，大面積壓印機，微透鏡成型設備以及用于高 效母版制作的分步重復系統(tǒng),。

    在EVG的NILPhotonics?解決方案支援中心,，雙方合作研發(fā)用于制造光學傳感器的新材料，以及適用于大眾化市場的晶圓級光學元件,。（奧地利）與WINDACH（德國）,，2019年11月27日――EV集團(EVG)這一全球**的為微機電系統(tǒng),、納米技術(shù)與半導體市場提供晶圓鍵合與光刻設備的供應商，***宣布與高科技工業(yè)粘合劑制造商DELO在晶圓級光學元件(WLO)領(lǐng)域開展合作,。這兩家公司均在光學傳感器制造領(lǐng)域處于**地位。它們的合作將充分利用EVG的透鏡注塑成型與納米壓印光刻(NIL)加工設備與DELO先進的粘合劑與抗蝕材料,，在工業(yè),，汽車，消費類電子產(chǎn)品市場開發(fā)與應用新型光學設備,，例如生物特征身份認證,，面部識別。目前雙方正在EVG的NILPhotonics?解決方案支援中心（位于EVG總部,，奧地利Florian）以及DELO在德國Windach的總部展開合作,。雙方致力于改善與加快材料研發(fā)周期。EVG的NILPhotonics解決方案支援中心為NIL供應鏈的客戶與合作伙伴提供了開放的創(chuàng)新孵化器,，旨在通過合作來縮短創(chuàng)新設備與應用的研發(fā)與推廣周期,。該中心的基礎(chǔ)設施包括**技術(shù)的潔凈室與支持NIL制造的主要步驟的設備，例如分步重復母版,，透鏡模制,，以及EVG的SmartNIL?技術(shù)，晶圓鍵合與必要的測量設備,。

    面板廠為補償較低的開口率,，多運用在背光模塊搭載較多LED的技術(shù)，但此作法的缺點是用電量較高,。若運用NIL制程,，可確保適當?shù)拈_口率，降低用電量,。利用一般曝光設備也可在玻璃基板上形成偏光膜,。然8代曝光設備一次可形成的圖樣面積較小。若要制造55吋面板,，需要經(jīng)過數(shù)十次的曝光制程,。不僅制程時間長，經(jīng)過多次曝光后,，在圖樣間會形成細微的縫隙,，無法完整顯示影像。若將NIL技術(shù)應用在5代設備,，可一次形成55吋,、60吋面板的偏光膜圖樣。在8代基板可制造6片55吋面板,，6次的壓印接觸可處理完1片8代基板,。南韓業(yè)者表示,，在玻璃基板上形成偏光圖樣以提升質(zhì)量的生產(chǎn)制程，是LCD領(lǐng)域中***一個創(chuàng)新任務,。若加速NIL制程導入LCD生產(chǎn)的時程,，偏光膜企業(yè)的營收可能減少。（來自網(wǎng)絡,。HERCULES ? NIL是完全集成SmartNIL ?的 UV-NIL紫外光納米壓印系統(tǒng),。

UV納米壓印光刻

EV Group提供完整的UV納米壓印光刻（UV-NIL）產(chǎn)品線，包括不同的***積壓印系統(tǒng),，大面積壓印機,，微透鏡成型設備以及用于高 效母版制作的分步重復系統(tǒng)。除了柔軟的UV-NIL,，EVG還提供其專有的SmartNIL技術(shù)以及多種用途的聚合物印模技術(shù),。高 效，強大的SmartNIL工藝可提供高圖案保真度,，高度均勻的圖案層和**少的殘留層,，并具有易于擴展的晶圓尺寸和產(chǎn)量。EVG的SmartNI技術(shù)達到了納米壓印的長期預期,，即納米壓印是一種用于大規(guī)模生產(chǎn)微米和納米級結(jié)構(gòu)的高性能,，低成本和具有批量生產(chǎn)能力的技術(shù)。

SmartNIL集成了多次使用的軟標記處理功能,，因此還可以實現(xiàn)****的吞吐量,。3D IC納米壓印優(yōu)惠價格

EVG的熱壓印是一種經(jīng)濟高 效且靈活的制造技術(shù)，具有非常高的復制精度,，可用于**小50 nm的特征尺寸,。江蘇納米壓印可以免稅嗎

NIL已被證明是在大面積上實現(xiàn)納米級圖案的相當有成本效益的方法，因為它不受光學光刻所需的復雜光學器件的限制,，并且它可以為極小尺寸（小于100分）提供比較好圖案保真度nm）結(jié)構(gòu),。

EVG的SmartNIL是基于紫外線曝光的全場壓印技術(shù)，可提供功能強大的下一代光刻技術(shù),，幾乎具有無限的結(jié)構(gòu)尺寸和幾何形狀功能,。由于SmartNIL集成了多次使用的軟標記處理功能，因此還可以實現(xiàn)****的吞吐量,，并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢,，同時保留了可擴展性和易于維護的操作。另外,，主模板的壽命延長到與用于光刻的掩模相當?shù)臅r間,。

新應用程序的開發(fā)通常與設備功能的提高緊密相關(guān)。 江蘇納米壓印可以免稅嗎