EVG610特征：

頂部和底部對準能力

高精度對準臺

自動楔形誤差補償機制

電動和程序控制的曝光間隙

支持***的UV-LED技術(shù)

**小化系統(tǒng)占地面積和設施要求

分步流程指導

遠程技術(shù)支持

多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,，可分配的訪問權(quán)限,，不同的用戶界面語言）

敏捷處理和光刻工藝之間的轉(zhuǎn)換

臺式或帶防震花崗巖臺的單機版

EVG610附加功能：

鍵對準

紅外對準

納米壓印光刻 

μ接觸印刷

EVG610技術(shù)數(shù)據(jù)：

晶圓直徑（基板尺寸）

標準光刻：比較大150毫米的碎片

柔軟的UV-NIL：比較大150毫米的碎片

解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：柔軟的UV-NIL

曝光源：汞光源或紫外線LED光源

自動分離：不支持

工作印章制作：外部

EVG620 NT是以其靈活性和可靠性而聞名的,，因為它以**小的占位面積提供了***的掩模對準技術(shù),。IQAligner納米壓印要多少錢

EVG ® 720特征：

體積驗證的壓印技術(shù),，具有出色的復制保真度

專有SmartNIL ®技術(shù),，多使用聚合物印模技術(shù)

集成式壓印,，UV固化脫模和工作印模制造

盒帶到盒帶自動處理以及半自動研發(fā)模式

可選的頂部對準

可選的迷你環(huán)境

適用于所有市售壓印材料的開放平臺

從研發(fā)到生產(chǎn)的可擴展性

系統(tǒng)外殼,，可實現(xiàn)比較好過程穩(wěn)定性和可靠性技術(shù)數(shù)據(jù)

晶圓直徑（基板尺寸）

75至150毫米

解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：SmartNIL ®

曝光源：大功率LED（i線）> 400 mW /cm2

對準：可選的頂部對準

自動分離：支持的

迷你環(huán)境和氣候控制：可選的

工作印章制作：支持的

IQAligner納米壓印要多少錢EV Group 提供完整的UV 紫外光納米壓印光刻（UV-NIL）產(chǎn)品線,。

為了優(yōu)化工藝鏈，HERCULES NIL中包括多次使用的軟印章的制造,，這是大批量生產(chǎn)的基石,，不需要額外的壓印印章制造設備。作為一項特殊功能,，該工具可以升級為具有ISO 3 *功能的微型環(huán)境,，以確保比較低的缺 陷率和比較高質(zhì)量的原版復制。

通過為大批量生產(chǎn)提供完整的NIL解決方案,，HERCULES NIL增強了EVG在***積NIL設備解決方案中的領導地位,。

*根據(jù)ISO 14644

HERCULES ® NIL特征：

批量生產(chǎn)**小40 nm *或更小的結(jié)構(gòu)

聯(lián)合預處理（清潔/涂層/烘烤/寒意）和SmartNIL ®

體積驗證的壓印技術(shù)，具有出色的復制保真度

全自動壓印和受控的低力分離,，可很大程度地重復使用工作印章

包括工作印章制造能力

高功率光源,，固化時間**快

優(yōu)化的模塊化平臺可實現(xiàn)高吞吐量

*分辨率取決于過程和模板

HERCULES®NIL：完全集成的納米壓印光刻解決方案，可實現(xiàn)300 mm的大批量生產(chǎn)

■批量生產(chǎn)低至40 nm的結(jié)構(gòu)或更小尺寸（分辨率取決于過程和模板）

■結(jié)合了預處理（清潔/涂布/烘烤/冷卻）和SmartNIL®技術(shù)

■全自動壓印和受控的低力分離,，可很大程度地重復使用工作印章

■具備工作印章制造能力

EVG®770：連續(xù)重復的納米壓印光刻技術(shù),，可進行有效的母版制作

■用于晶圓級光學器件的微透鏡的高 效母模制造，直至SmartNIL®的納米結(jié)構(gòu)

■不同類型的母版的簡單實現(xiàn)

■可變的光刻膠分配模式

■分配,，壓印和脫模過程中的實時圖像

■用于壓印和脫模的原位力控制

EVG?770可用于連續(xù)重復的納米壓印光刻技術(shù),，可進行有效的母版制作。

EVG ® 620 NT是智能NIL ® UV納米壓印光刻系統(tǒng),。

用UV納米壓印能力為特色的EVG's專有SmartNIL通用掩模對準系統(tǒng)®技術(shù),，在100毫米范圍內(nèi)。

EVG620 NT以其靈活性和可靠性而聞名,，它以**小的占位面積提供了***的掩模對準技術(shù),。操作員友好型軟件，**短的掩模和模具更換時間以及有效的全球服務支持使它們成為任何研發(fā)環(huán)境（半自動批量生產(chǎn)）的理想解決方案,。該工具支持多種標準光刻工藝,，例如真空，軟，硬和接近曝光模式,，以及背面對準選項,。此外，該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能,，包括鍵對準和納米壓印光刻,。此外，半自動和全自動系統(tǒng)配置均支持EVG專有的SmartNIL技術(shù),。

EVG開拓了這種非常規(guī)光刻技術(shù),，擁有多年技術(shù)，掌握了NIL,，并已在不斷增長的基板尺寸上實現(xiàn)了批量生產(chǎn),。IQAligner納米壓印要多少錢

HERCULES?NIL是完全集成的納米壓印光刻解決方案，可實現(xiàn)300 mm的大批量生產(chǎn),。IQAligner納米壓印要多少錢

IQ Aligner UV-NIL特征：

用于光學元件的微成型應用

用于全場納米壓印應用

三個**控制的Z軸,，可在印模和基材之間實現(xiàn)出色的楔形補償

三個**控制的Z軸，用于壓印抗蝕劑的總厚度變化（TTV）控制

利用柔軟的印章進行柔軟的UV-NIL工藝

EVG專有的全自動浮雕功能

抵抗分配站集成

粘合對準和紫外線粘合功能

IQ Aligner UV-NIL技術(shù)數(shù)據(jù)：

晶圓直徑（基板尺寸）：150至300毫米

解析度：≤50 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：柔軟的UV-NIL,，鏡片成型

曝光源：汞光源

對準：≤±0.5微米

自動分離：支持的

前處理：涂層：水坑點膠（可選）

迷你環(huán)境和氣候控制：可選的

工作印章制作：支持的

IQAligner納米壓印要多少錢