EVG101光刻膠處理系統(tǒng)的技術(shù)數(shù)據(jù)：

可用模塊：旋涂/ OmniSpray ® /開發(fā)

分配選項(xiàng)：

各種光刻膠分配泵,，可覆蓋高達(dá)52000 cP的粘度；

液體底漆/預(yù)濕/洗盤,；

去除邊緣珠（EBR）/背面沖洗（BSR）,；

恒壓分配系統(tǒng)/注射器分配系統(tǒng)。

智能過程控制和數(shù)據(jù)分析功能（框架軟件平臺）

用于過程和機(jī)器控制的集成分析功能

并行任務(wù)/排隊任務(wù)處理功能,，提高效率

設(shè)備和過程性能跟/蹤功能：智能處理功能,；事/故和警報分析/智能維護(hù)管理和跟/蹤

晶圓直徑（基板尺寸）：高達(dá)300毫米

EVG的大批量制造系統(tǒng)目的是在以**/佳的成本效率與**/高的技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)相結(jié)合，為全球服務(wù)基礎(chǔ)設(shè)施提供支持,。云南光刻機(jī)質(zhì)保期多久

掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)：EVG的發(fā)明,，例如1985年世界上較早的擁有底面對準(zhǔn)功能的系統(tǒng)，開創(chuàng)了頂面和雙面光刻,，對準(zhǔn)晶圓鍵合和納米壓印光刻的先例，并設(shè)定了行業(yè)標(biāo)準(zhǔn),。EVG通過不斷開發(fā)掩模對準(zhǔn)器產(chǎn)品來增強(qiáng)這些**光刻技術(shù),，從而在這些領(lǐng)域做出了貢獻(xiàn)。

EVG的掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)可容納尺寸**/大,，尺寸和形狀以及厚度**/大為300 mm的晶片和基板,，旨在為高級應(yīng)用提供先進(jìn)的自動化程度和研發(fā)靈活性的復(fù)雜解決方案。EVG的掩模對準(zhǔn)器和工藝能力已經(jīng)過現(xiàn)場驗(yàn)證,，并已安裝在全球的生產(chǎn)設(shè)施中,，以支持眾多應(yīng)用，包括高級封裝,，化合物半導(dǎo)體,，功率器件，LED,，傳感器和MEMS制造,。 江蘇EVG610光刻機(jī)岱美是EVG光刻機(jī)在中國的代理商，提供本地化的質(zhì)量服務(wù),。

HERCULES 光刻軌道系統(tǒng)

所述HERCULES ®是一個高容量的平臺整合整個光刻工藝流在一個系統(tǒng)中,，縮小處理工序和操作者支持。

HERCULES基于模塊化平臺,，將EVG建立的光學(xué)掩模對準(zhǔn)技術(shù)與集成的晶圓清洗,，光刻膠涂層，烘烤和光刻膠顯影模塊相結(jié)合,。HERCULES支持各種晶片尺寸的盒到盒處理,。HERCULES安全地處理厚，彎曲度高,，矩形,，小直徑的晶圓，甚至可以處理設(shè)備托盤。精密的頂側(cè)和底側(cè)對準(zhǔn)以及亞微米至超厚（**/大300微米）光刻膠的涂層可用于夾層和鈍化應(yīng)用,。出色的對準(zhǔn)臺設(shè)計可實(shí)現(xiàn)高產(chǎn)量的高精度對準(zhǔn)和曝光結(jié)果,。

EVG曝光光學(xué)：專門開發(fā)的分辨率增強(qiáng)型光學(xué)元件（REO）可提供高出50％的強(qiáng)度，并顯著提高/分辨率,，在接近模式下可達(dá)到小于3μm的分辨率,。REO的特殊設(shè)計有助于控制干涉效應(yīng)以獲得分辨率。EVG**/新的曝光光學(xué)增強(qiáng)功能是LED燈設(shè)置,。低能耗和長壽命是UV-LED光源的**/大優(yōu)勢,，因?yàn)椴恍枰A(yù)熱或冷卻。在用戶軟件界面中可以輕松,、實(shí)際地完成曝光光譜設(shè)置,。此外，LED需要*在曝光期間供電,，并且該技術(shù)消除了對汞燈經(jīng)常需要的額外設(shè)施（廢氣,，冷卻氣體）和更換燈的需要。這種理想的組合不僅可以**/大限度地降低運(yùn)行和維護(hù)成本,，還可以增加操作員的安全性和環(huán)境友好性,。EVG光刻機(jī)設(shè)備，可完全集成到HERCULES光刻軌道系統(tǒng)中,，并輔以其用于從上到下側(cè)對準(zhǔn)驗(yàn)證的計量工具,。

EVG ® 150--光刻膠自動處理系統(tǒng)

EVG ® 150是全自動化光刻膠處理系統(tǒng)中提供高吞吐量的性能與在直徑承晶片高達(dá)300毫米。

EVG150設(shè)計為完全模塊化的平臺,，可實(shí)現(xiàn)自動噴涂/旋轉(zhuǎn)/顯影過程和高通量性能,。EVG150可確保涂層高度均勻并提高重復(fù)性。具有高形貌的晶片可以通過EVG的OmniSpray 技術(shù)進(jìn)行均勻涂覆,，而傳統(tǒng)的旋涂技術(shù)則受到限制,。

EVG ® 150特征：

晶圓尺寸可達(dá)300毫米

多達(dá)六個過程模塊

可自定義的數(shù)量-多達(dá)二十個烘烤/冷卻/汽化堆

多達(dá)四個FOUP裝載端口或盒式磁帶裝載

整個晶圓表面高光強(qiáng)度和均勻性是設(shè)計和不斷提高EVG掩模對準(zhǔn)器產(chǎn)品組合時需要考慮的其他關(guān)鍵參數(shù)。功率器件光刻機(jī)質(zhì)量怎么樣

研發(fā)設(shè)備與EVG的**技術(shù)平臺無縫集成,，這些平臺涵蓋從研發(fā)到小規(guī)模和大批量生產(chǎn)的整個制造鏈,。云南光刻機(jī)質(zhì)保期多久

光刻膠處理系統(tǒng)

EVG100系列光刻膠處理系統(tǒng)為光刻膠涂層和顯影建立了質(zhì)量和靈活性方面的新標(biāo)準(zhǔn)。EVG100系列的設(shè)計旨在提供**廣/泛的工藝變革,，其模塊化功能可提供旋涂和噴涂,，顯影，烘烤和冷卻模塊,，以滿足個性化生產(chǎn)需求,。這些系統(tǒng)可處理各種材料，例如正性和負(fù)性光刻膠,，聚酰亞胺,，薄光刻膠層的雙面涂層,，高粘度光刻膠和邊緣保護(hù)涂層。這些系統(tǒng)可以處理多種尺寸的基板,，直徑從2寸到300 mm,，矩形，正方形甚至不規(guī)則形狀的基板,，而無需或只需很短的加工時間,。

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岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司致力于儀器儀表，是一家其他型的公司,。公司自成立以來,，以質(zhì)量為發(fā)展，讓匠心彌散在每個細(xì)節(jié),，公司旗下磁記錄,，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn),，測試儀器的批發(fā)深受客戶的喜愛,。公司從事儀器儀表多年，有著創(chuàng)新的設(shè)計,、強(qiáng)大的技術(shù)，還有一批**的專業(yè)化的隊伍,，確保為客戶提供良好的產(chǎn)品及服務(wù),。岱美儀器技術(shù)服務(wù)憑借創(chuàng)新的產(chǎn)品、專業(yè)的服務(wù),、眾多的成功案例積累起來的聲譽(yù)和口碑,，讓企業(yè)發(fā)展再上新高。