曝光光學(xué)：提供不同配置的曝光光學(xué)系統(tǒng)，旨在實(shí)現(xiàn)任何應(yīng)用的**/大靈活性,。汞燈曝光光學(xué)系統(tǒng)針對(duì)150,，200和300 mm基片進(jìn)行了優(yōu)化，可與各種濾光片一起用于窄帶曝光要求,，例如i-,，g-和h-線濾光片，甚至還有深紫外線,。 可以使用用于壓印光刻的工具,，例如紫外光納米壓印光刻,，熱壓印或微接觸印刷。陜西光刻機(jī)美元報(bào)價(jià)
EVG ® 610特征：
晶圓/基板尺寸從小到200 mm /8''
頂側(cè)和底側(cè)對(duì)準(zhǔn)能力
高精度對(duì)準(zhǔn)臺(tái)
自動(dòng)楔形補(bǔ)償序列
電動(dòng)和程序控制的曝光間隙
支持**/新的UV-LED技術(shù)
**小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求
分步流程指導(dǎo)
遠(yuǎn)程技術(shù)支持
多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,，可分配的訪問權(quán)限,，不同的用戶界面語言）
便捷處理和轉(zhuǎn)換重組
臺(tái)式或帶防震花崗巖臺(tái)的單機(jī)版
EVG ® 610附加功能：
鍵對(duì)準(zhǔn)
紅外對(duì)準(zhǔn)
納米壓印光刻（NIL）
EVG ® 610技術(shù)數(shù)據(jù)：
對(duì)準(zhǔn)方式
上側(cè)對(duì)準(zhǔn)：≤±0.5 μm
底面要求：≤±2,0 μm
紅外校準(zhǔn)：≤±2,0 μm /具體取決于基板材料
鍵對(duì)準(zhǔn)：≤±2,0 μm
NIL對(duì)準(zhǔn)：≤±2,0 μm 河南進(jìn)口光刻機(jī)除了光刻機(jī)之外，岱美還代理了EVG的鍵合機(jī)等設(shè)備,。
IQ Aligner®NT自動(dòng)掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)
特色：IQ Aligner®在**/高吞吐量NT經(jīng)過優(yōu)化零協(xié)助非接觸式近程處理,。
技術(shù)數(shù)據(jù)：IQ Aligner NT是用于大批量應(yīng)用的生產(chǎn)力**/高，技術(shù)**/先進(jìn)的自動(dòng)掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng),。該系統(tǒng)具有**/先進(jìn)的打印間隙控制和零輔助雙尺寸晶圓處理能力,，可完全滿足大批量制造（HVM）的需求。與EVG的上一代IQ
Aligner系統(tǒng)相比,，它的吞吐量提高了2倍,，對(duì)準(zhǔn)精度提高了2倍，是所有掩模對(duì)準(zhǔn)器中**/高的吞吐量,。IQ Aligner NT超越了對(duì)后端光刻應(yīng)用**苛刻的要求,，同時(shí)與競爭性系統(tǒng)相比，其掩模成本降低了30％,，而競爭系統(tǒng)超出了掩模對(duì)準(zhǔn)工具所支持的**/高吞吐量,。
EVG120特征2：
先進(jìn)且經(jīng)過現(xiàn)場驗(yàn)證的機(jī)器人具有雙末端執(zhí)行器功能，可確保連續(xù)的高產(chǎn)量,；
工藝技術(shù)卓/越和開發(fā)服務(wù)：
多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,，可分配的訪問權(quán)限，不同的用戶界面語言）
智能過程控制和數(shù)據(jù)分析功能[Framework SW Platform]
用于過程和機(jī)器控制的集成分析功能
設(shè)備和過程性能跟/蹤功能,；
并行/排隊(duì)任務(wù)處理功能,；
智能處理功能；
發(fā)生和警報(bào)分析,；
智能維護(hù)管理和跟/蹤,；
技術(shù)數(shù)據(jù)：
可用模塊；
旋涂/ OmniSpray ® /開發(fā),；
烤/冷,；
晶圓處理選項(xiàng)：
單/雙EE /邊緣處理/晶圓翻轉(zhuǎn)；
彎曲/翹曲/薄晶圓處理,。
EVG同樣為客戶提供量產(chǎn)型掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng),。
EVG6200 NT附加功能：
鍵對(duì)準(zhǔn)
紅外對(duì)準(zhǔn)
納米壓印光刻（NIL）
EVG6200 NT技術(shù)數(shù)據(jù)：
曝光源
汞光源/紫外線LED光源
先進(jìn)的對(duì)準(zhǔn)功能
手動(dòng)對(duì)準(zhǔn)/原位對(duì)準(zhǔn)驗(yàn)證
自動(dòng)對(duì)準(zhǔn)
動(dòng)態(tài)對(duì)準(zhǔn)/自動(dòng)邊緣對(duì)準(zhǔn)
對(duì)準(zhǔn)偏移校正算法
EVG6200 NT產(chǎn)能：
全自動(dòng)：第/一批生產(chǎn)量：每小時(shí)180片
全自動(dòng)：吞吐量對(duì)準(zhǔn)：每小時(shí)140片晶圓
晶圓直徑（基板尺寸）：高達(dá)200毫米
對(duì)準(zhǔn)方式：
上側(cè)對(duì)準(zhǔn)：≤±0.5 μm
底側(cè)對(duì)準(zhǔn)：≤±1,0 μm
紅外校準(zhǔn)：≤±2,0 μm /具體取決于基板材料
鍵對(duì)準(zhǔn)：≤±2,0 μm
NIL對(duì)準(zhǔn)：≤±3.0 μm
曝光設(shè)定：真空接觸/硬接觸/軟接觸/接近模式/彎曲模式
楔形補(bǔ)償：全自動(dòng)軟件控制
曝光選項(xiàng)：間隔曝光/洪水曝光/扇區(qū)曝光
系統(tǒng)控制
操作系統(tǒng)：Windows
文件共享和備份解決方案/無限制 程序和參數(shù)
多語言用戶GUI和支持：CN，DE,，F(xiàn)R,，IT，JP,，KR
實(shí)時(shí)遠(yuǎn)程訪問,，診斷和故障排除
工業(yè)自動(dòng)化功能：盒式磁帶/ SMIF / FOUP / SECS / GEM /薄,，彎曲，翹曲,，邊緣晶圓處理
納米壓印光刻技術(shù)：SmartNIL EVG已經(jīng)與研究機(jī)構(gòu)合作超過35年,，能夠深入了解他們的獨(dú)特需求。晶圓光刻機(jī)功率器件應(yīng)用
EVG101光刻膠處理機(jī)可支持**/大300 mm的晶圓,。陜西光刻機(jī)美元報(bào)價(jià)
EVG101光刻膠處理系統(tǒng)的特征：
晶圓尺寸可達(dá)300毫米,；
自動(dòng)旋轉(zhuǎn)或噴涂或通過手動(dòng)晶圓加載/卸載進(jìn)行顯影；
利用成熟的模塊化設(shè)計(jì)和標(biāo)準(zhǔn)化軟件,，快速輕松地將過程從研究轉(zhuǎn)移到生產(chǎn),；
注射器分配系統(tǒng)，用于利用小體積的光刻膠,，包括高粘度光刻膠；
占地面積小,，同時(shí)保持較高的人身和流程安全性,；
多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權(quán)限,，不同的用戶界面語言）,。
選項(xiàng)功能：
使用OmniSpray®涂層技術(shù)對(duì)高形晶圓表面進(jìn)行均勻涂層；
蠟和環(huán)氧涂層,，用于后續(xù)粘合工藝,；
玻璃旋涂（SOG）涂層。
陜西光刻機(jī)美元報(bào)價(jià)
岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司致力于儀器儀表,，以科技創(chuàng)新實(shí)現(xiàn)***管理的追求,。公司自創(chuàng)立以來，投身于磁記錄,，半導(dǎo)體,，光通訊生產(chǎn)，測(cè)試儀器的批發(fā),，是儀器儀表的主力軍,。岱美儀器技術(shù)服務(wù)始終以本分踏實(shí)的精神和必勝的信念，影響并帶動(dòng)團(tuán)隊(duì)取得成功,。岱美儀器技術(shù)服務(wù)始終關(guān)注儀器儀表行業(yè),。滿足市場需求，提高產(chǎn)品價(jià)值,，是我們前行的力量,。