IQ Aligner®NT自動掩模對準系統(tǒng)
特色：IQ Aligner®在**/高吞吐量NT經(jīng)過優(yōu)化零協(xié)助非接觸式近程處理,。
技術數(shù)據(jù)：IQ Aligner NT是用于大批量應用的生產力**/高,，技術**/先進的自動掩模對準系統(tǒng),。該系統(tǒng)具有**/先進的打印間隙控制和零輔助雙尺寸晶圓處理能力，可完全滿足大批量制造（HVM）的需求,。與EVG的上一代IQ
Aligner系統(tǒng)相比,，它的吞吐量提高了2倍，對準精度提高了2倍,，是所有掩模對準器中**/高的吞吐量,。IQ Aligner NT超越了對后端光刻應用**苛刻的要求，同時與競爭性系統(tǒng)相比,，其掩模成本降低了30％,，而競爭系統(tǒng)超出了掩模對準工具所支持的**/高吞吐量。 HERCULES光刻機系統(tǒng)：全自動光刻跟/蹤系統(tǒng),，模塊化設計,，用于掩模和曝光，集成了預處理和后處理能力,。晶片光刻機一級代理
EVG6200 NT特征：
晶圓/基板尺寸從小到200 mm /8''
系統(tǒng)設計支持光刻工藝的多功能性
在第/一次光刻模式下的吞吐量高達180 WPH，在自動對準模式下的吞吐量高達140 WPH
易碎,，薄或翹曲的多種尺寸的晶圓處理,，更換時間短
帶有間隔墊片的自動無接觸楔形補償序列
自動原點功能，用于對準鍵的精確居中
具有實時偏移校正功能的動態(tài)對準功能
支持**/新的UV-LED技術
返工分揀晶圓管理和靈活的盒式系統(tǒng)
自動化系統(tǒng)上的手動基板裝載功能
可以從半自動版本升級到全自動版本
**小化系統(tǒng)占地面積和設施要求
多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,，可分配的訪問權限,，不同的用戶界面語言）
先進的軟件功能以及研發(fā)與全/面生產之間的兼容性
便捷處理和轉換重組
遠程技術支持和SECS / GEM兼容性
臺式或帶防震花崗巖臺的單機版 半導體光刻機代理價格可以使用用于壓印光刻的工具，例如紫外光納米壓印光刻,，熱壓印或微接觸印刷,。
IQ Aligner特征：
晶圓/基板尺寸從小到200 mm /
8''
由于外部晶圓楔形測量，實現(xiàn)了非接觸式接近模式
增強的振動隔離,，有效減少誤差
各種對準功能提高了過程靈活性
跳動控制對準功能,，提高了效率
多種晶圓尺寸的易碎，薄或翹曲的晶圓處理
高地表形貌晶圓加工經(jīng)驗
手動基板裝載能力
遠程技術支持和SECS / GEM兼容性
IQ Aligner附加功能：
紅外對準–透射和/或反射
IQ Aligner技術數(shù)據(jù)：
楔形補償：全自動軟件控制
非接觸式
先進的對準功能：自動對準,；大間隙對準,；跳動控制對準；動態(tài)對準
IQ Aligner®NT曝光設定：硬接觸/軟接觸/接近模式/柔性模式
楔形補償：全自動軟件控制,；非接觸式
IQ Aligner®NT曝光選項：間隔曝光/洪水曝光
先進的對準功能：自動對準
暗場對準功能/完整的明場掩模移動（FCMM）
大間隙對準
跳動控制對準
IQ Aligner®NT系統(tǒng)控制：
操作系統(tǒng)：Windows
文件共享和備份解決方案/無限制 程序和參數(shù)
多語言用戶GUI和支持：CN,，DE,，F(xiàn)R，IT,，JP,，KR
實時遠程訪問，診斷和故障排除
如果您需要確認準確的產品的信息,，請聯(lián)系我們,。如果需要鍵合機，請看官網(wǎng)信息,。 EVG通過不斷開發(fā)掩模對準器來為這些領域做出巨大的貢獻,，以提高**重要的光刻技術的水平。
IQ Aligner®NT技術數(shù)據(jù)：
產能：
全自動：首/次生產量印刷：每小時200片
全自動：吞吐量對準：每小時160片晶圓
工業(yè)自動化功能：盒式磁帶/ SMIF / FOUP / SECS / GEM /薄,，彎曲,，翹曲，晶圓邊緣處理
智能過程控制和數(shù)據(jù)分析功能（框架SW平臺）
用于過程和機器控制的集成分析功能
并行任務/排隊任務處理功能
設備和過程性能跟/蹤功能
智能處理功能
事/故和警報分析/智能維護管理和跟/蹤
晶圓直徑（基板尺寸）：高達300毫米
對準方式：
頂部對準：≤±0,25 μm
底側對準：≤±0.5 μm
紅外對準：≤±2,0 μm /取決于基材 EVG同樣為客戶提供量產型掩模對準系統(tǒng),。海南光刻機研發(fā)生產
EVG在1985年發(fā)明了世界上第/一個底部對準系統(tǒng),，可以在頂部和雙面光刻。晶片光刻機一級代理
EVG620 NT或完全容納的EVG620
NT Gen2掩模對準系統(tǒng)配備了集成的振動隔離功能,，可在各種應用中實現(xiàn)出色的曝光效果,，例如，對薄而厚的光刻膠進行曝光,，對深腔進行構圖并形成可比的形貌,，以及對薄而易碎的材料（例如化合物半導體）進行加工。此外,，半自動和全自動系統(tǒng)配置均支持EVG專有的SmartNIL技術,。
EVG620 NT特征：
晶圓/基板尺寸從小到150 mm /
6''
系統(tǒng)設計支持光刻工藝的多功能性
易碎，薄或翹曲的多種尺寸的晶圓處理,，更換時間短
帶有間隔墊片的自動無接觸楔形補償序列 晶片光刻機一級代理
岱美儀器技術服務（上海）有限公司總部位于中國(上海)自由貿易試驗區(qū)加太路39號第五層六十五部位,，是一家磁記錄、半導體,、光通訊生產及測試儀器的批發(fā),、進出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關配套服務,，國際貿易,、轉口貿易，商務信息咨詢服務,。 【依法須經(jīng)批準的項目,，經(jīng)相關部門批準后方可開展經(jīng)營活動】磁記錄、半導體、光通訊生產及測試儀器的批發(fā),、進出口,、傭金代理（拍賣除外）及其相關配套服務，國際貿易,、轉口貿易,，商務信息咨詢服務。 【依法須經(jīng)批準的項目,，經(jīng)相關部門批準后方可開展經(jīng)營活動】的公司,。岱美儀器技術服務擁有一支經(jīng)驗豐富、技術創(chuàng)新的專業(yè)研發(fā)團隊,，以高度的專注和執(zhí)著為客戶提供磁記錄,，半導體，光通訊生產,，測試儀器的批發(fā),。岱美儀器技術服務致力于把技術上的創(chuàng)新展現(xiàn)成對用戶產品上的貼心，為用戶帶來良好體驗,。岱美儀器技術服務創(chuàng)始人陳玲玲,，始終關注客戶，創(chuàng)新科技,，竭誠為客戶提供良好的服務,。