HERCULES 光刻軌道系統(tǒng)

所述HERCULES ®是一個高容量的平臺整合整個光刻工藝流在一個系統(tǒng)中,，縮小處理工序和操作者支持,。

HERCULES基于模塊化平臺，將EVG建立的光學(xué)掩模對準(zhǔn)技術(shù)與集成的晶圓清洗,，光刻膠涂層,，烘烤和光刻膠顯影模塊相結(jié)合。HERCULES支持各種晶片尺寸的盒到盒處理,。HERCULES安全地處理厚,，彎曲度高，矩形,，小直徑的晶圓,，甚至可以處理設(shè)備托盤,。精密的頂側(cè)和底側(cè)對準(zhǔn)以及亞微米至超厚（**/大300微米）光刻膠的涂層可用于夾層和鈍化應(yīng)用。出色的對準(zhǔn)臺設(shè)計可實現(xiàn)高產(chǎn)量的高精度對準(zhǔn)和曝光結(jié)果,。

EVG鍵合機掩模對準(zhǔn)系列產(chǎn)品,，使用的是**/先進的工程工藝。功率器件光刻機推薦產(chǎn)品

      對EVG WLO制造解決方案的需求在一定程度上是由對用于移動消費電子產(chǎn)品的新型光學(xué)傳感解決方案和設(shè)備的需求驅(qū)動的,。關(guān)鍵示例包括3D感測（對于獲得更真實的虛擬和增強現(xiàn)實（VR / AR）用戶體驗至關(guān)重要）,，生物特征感測（對于安全應(yīng)用而言越來越關(guān)鍵），環(huán)境感測,，紅外（IR）感測和相機陣列,。其他應(yīng)用包括智能手機中用于高級深度感應(yīng)以改善相機自動對焦性能的其他光學(xué)傳感器以及微型顯示器。

      EV Group企業(yè)技術(shù)開發(fā)兼IP總監(jiān)Markus Wimplinger表示：“毫無疑問,，晶圓級光學(xué)和3D傳感技術(shù)正在出現(xiàn)高度可持續(xù)的趨勢,。“由于在我們公司總部的NILPhotonics能力中心支持的大量正在進行的客戶項目,，我們預(yù)計在不久的將來將更***地使用該技術(shù),。” 功率器件光刻機推薦產(chǎn)品可以使用用于壓印光刻的工具,，例如紫外光納米壓印光刻,，熱壓印或微接觸印刷。

EVG101光刻膠處理系統(tǒng)的旋轉(zhuǎn)涂層模塊-旋轉(zhuǎn)器參數(shù)

轉(zhuǎn)速：**/高10 k rpm

加速速度：**/高10 k rpm

噴涂模塊-噴涂產(chǎn)生

超聲波霧化噴嘴/高粘度噴嘴

開發(fā)模塊-分配選項

水坑顯影/噴霧顯影

EVG101光刻膠處理系統(tǒng)附加模塊選項：

預(yù)對準(zhǔn)：機械

系統(tǒng)控制參數(shù)：

操作系統(tǒng)：Windows

文件共享和備份解決方案/無限制程序和參數(shù)/離線程序編輯器

靈活的流程定義/易于拖放的程序編程

并行處理多個作業(yè)/實時遠程訪問,，診斷和故障排除

多語言用戶GUI和支持：CN,，DE，F(xiàn)R,，IT,，JP，KR

     EV Group企業(yè)技術(shù)總監(jiān)Thomas Glinsner博士證實：“我們看到支持晶圓級光學(xué)器件的設(shè)備需求正在急劇增加,?！?“*從今年年初開始，我們就向大型WLO制造商交付了多個用于透鏡成型和堆疊以及計量的系統(tǒng),，以進行大批量生產(chǎn),。此類訂單進一步鞏固了EVG在該領(lǐng)域市場***的地位，同時創(chuàng)造了新興應(yīng)用程序中有大量新機會,?！?

      業(yè)界**的設(shè)備制造商**近宣布了擴大其傳感領(lǐng)域業(yè)務(wù)目標(biāo)的計劃，以幫助解決客戶日益激進的上市時間窗口,。根據(jù)市場研究和策略咨詢公司YoleDéveloppement的說法,，下一代智能手機中正在設(shè)計十多種傳感器。其中包括3D感測相機,，指紋傳感器,，虹膜掃描儀,，激光二極管發(fā)射器，激光測距儀和生物傳感器,?？傮w而言，光纖集線器預(yù)計將從2016年的106億美元增長到2021年的180億美元,，復(fù)合年增長率超過11％*,。 只有以客戶的需求為導(dǎo)向，研發(fā)才具有價值,，也是我們不斷前進的動力。

我們可以根據(jù)您的需求提供進行優(yōu)化的多用途系統(tǒng),。

我們的掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)設(shè)計用于從掩模對準(zhǔn)到鍵合對準(zhǔn)的快速簡便轉(zhuǎn)換,。此外，可以使用用于壓印光刻的可選工具集,，例如UV-納米壓印光刻,，熱壓印或微接觸印刷。所有系統(tǒng)均支持原位對準(zhǔn)驗證軟件,，以提高手動操作系統(tǒng)的對準(zhǔn)精度和可重復(fù)性,。EVG620 NT / EVG6200 NT可從手動到自動基片處理，實現(xiàn)現(xiàn)場升級,。此外,，所有掩模對準(zhǔn)器都支持EVG專有的NIL技術(shù)。如果您需要納米壓印設(shè)備,，請訪問我們的官網(wǎng),，或者直接聯(lián)系我們。 EVG?620 NT / EVG?6200 NT 掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)（自動化和半自動化）支持的晶圓尺寸 ：150 mm / 200 mm,。北京碳化硅光刻機

EVG所有光刻設(shè)備平臺均為300mm,。功率器件光刻機推薦產(chǎn)品

EVG曝光光學(xué)：專門開發(fā)的分辨率增強型光學(xué)元件（REO）可提供高出50％的強度，并顯著提高/分辨率,，在接近模式下可達到小于3μm的分辨率,。REO的特殊設(shè)計有助于控制干涉效應(yīng)以獲得分辨率。EVG**/新的曝光光學(xué)增強功能是LED燈設(shè)置,。低能耗和長壽命是UV-LED光源的**/大優(yōu)勢,，因為不需要預(yù)熱或冷卻。在用戶軟件界面中可以輕松,、實際地完成曝光光譜設(shè)置,。此外，LED需要*在曝光期間供電,，并且該技術(shù)消除了對汞燈經(jīng)常需要的額外設(shè)施（廢氣,，冷卻氣體）和更換燈的需要,。這種理想的組合不僅可以**/大限度地降低運行和維護成本，還可以增加操作員的安全性和環(huán)境友好性,。功率器件光刻機推薦產(chǎn)品

岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司是一家磁記錄,、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā),、進出口,、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務(wù)，國際貿(mào)易,、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,，商務(wù)信息咨詢服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項目,，經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營活動】磁記錄,、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā),、進出口,、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務(wù)，國際貿(mào)易,、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,，商務(wù)信息咨詢服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項目,，經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營活動】的公司,，致力于發(fā)展為創(chuàng)新務(wù)實,、誠實可信的企業(yè),。岱美儀器技術(shù)服務(wù)深耕行業(yè)多年，始終以客戶的需求為向?qū)?，為客戶提?**的磁記錄,，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn),，測試儀器的批發(fā)。岱美儀器技術(shù)服務(wù)繼續(xù)堅定不移地走高質(zhì)量發(fā)展道路,，既要實現(xiàn)基本面穩(wěn)定增長,，又要聚焦關(guān)鍵領(lǐng)域,，實現(xiàn)轉(zhuǎn)型再突破,。岱美儀器技術(shù)服務(wù)始終關(guān)注儀器儀表市場，以敏銳的市場洞察力,，實現(xiàn)與客戶的成長共贏,。