HERCULES ® NIL完全集成SmartNIL

®的 UV-NIL紫外光納米壓印系統(tǒng),。

EVG的HERCULES ® NIL產(chǎn)品系列

HERCULES ® NIL完全集成SmartNIL

® UV-NIL系統(tǒng)達(dá)200毫米

對(duì)于大批量制造的完全集成的納米壓印光刻解決方案,，具有EVG's專有SmartNIL ®印跡技術(shù)

HERCULES NIL是完全集成的UV納米壓印光刻跟 蹤解決方案，適用于比較大200 mm的晶圓,，是EVG的NIL產(chǎn)品組合的***成員,。HERCULES

NIL基于模塊化平臺(tái)，將EVG專有的SmartNIL壓印技術(shù)與清潔,，抗蝕劑涂層和烘烤預(yù)處理步驟相結(jié)合,。這將HERCULES NIL變成了“一站式服務(wù)”，將裸露的晶圓裝載到工具中,，然后將經(jīng)過完全處理的納米結(jié)構(gòu)晶圓退回,。 EVG先進(jìn)的多用戶概念可以適應(yīng)從初學(xué)者到**級(jí)別的所有需求，因此使其成為大學(xué)和研發(fā)應(yīng)用程序的理想選擇,。青海納米壓印學(xué)校會(huì)用嗎

納米壓印應(yīng)用三：連續(xù)性UV納米壓印

EVG770是用于步進(jìn)重復(fù)納米壓印光刻的通用平臺(tái),，可用于有效地進(jìn)行母版制作或?qū)迳系膹?fù)雜結(jié)構(gòu)進(jìn)行直接圖案化。這種方法允許從比較大50 mm x 50 mm的小模具到比較大300 mm基板尺寸的大面積均勻復(fù)制模板,。與鉆石車削或直接寫入方法相結(jié)合,，分步重復(fù)刻印通常用于高 效地制造晶圓級(jí)光學(xué)器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商,，歡迎各位聯(lián)系我們,，探討納米壓印光刻的相關(guān)知識(shí)。我們?cè)敢馀c您共同進(jìn)步,。

CMOS納米壓印IQ Aligner?是EVG的可用于晶圓級(jí)透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印系統(tǒng),。

納米壓印光刻（NIL）技術(shù)

EVG是納米壓印光刻（NIL）設(shè)備和集成工藝的市場**供應(yīng)商。EVG從19年前的研究方法中率先并掌握了NIL,，并實(shí)現(xiàn)了從2英寸化合物半導(dǎo)體晶圓到300 mm晶圓甚至大面積面板的各種尺寸基板的批量生產(chǎn),。NIL是產(chǎn)生納米尺度分辨率圖案的**有前途且相當(dāng)有成本效益的工藝，可用于生物MEMS,，微流體,，電子學(xué)以及**近各種衍射光學(xué)元件的各種商業(yè)應(yīng)用。

其中EVG紫外光納米壓印系統(tǒng)型號(hào)包含：

EVG®610

EVG®620NT

EVG®6200NT

EVG®720

EVG®7200

EVG®7200LA

HERCULES®NIL

EVG®770

IQAligner®

熱壓納米壓抑系統(tǒng)型號(hào)包含：

EVG®510HE

EVG®520HE

詳細(xì)的參數(shù)，請(qǐng)聯(lián)系我們岱美有限公司,。

EVG ® 770分步重復(fù)納米壓印光刻系統(tǒng)

分步重復(fù)納米壓印光刻技術(shù),，可進(jìn)行有效的母版制作

EVG770是用于步進(jìn)式納米壓印光刻的通用平臺(tái)，可用于有效地進(jìn)行母版制作或?qū)迳系膹?fù)雜結(jié)構(gòu)進(jìn)行直接圖案化,。這種方法允許從**

大50 mm x 50 mm的小模具到比較大300 mm基板尺寸的大面積均勻復(fù)制模板,。與鉆石車削或直接寫入方法相結(jié)合，分步重復(fù)刻印通常用于有效地制造晶圓級(jí)光學(xué)器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版,。

EVG770的主要功能包括精確的對(duì)準(zhǔn)功能,，完整的過程控制以及可滿足各種設(shè)備和應(yīng)用需求的靈活性。 NIL已被證明是在大面積上實(shí)現(xiàn)納米級(jí)圖案的相當(dāng)有成本效益的方法,。

SmartNIL技術(shù)簡介

SmartNIL是基于紫外線曝光的全域型壓印技術(shù),，可提供功能強(qiáng)大的下一代光刻技術(shù)，幾乎具有無限的結(jié)構(gòu)尺寸和幾何形狀功能,。由于SmartNIL集成了多次使用的軟標(biāo)記處理功能,，因此還可以實(shí)現(xiàn)****的吞吐量，并具有顯著的擁有成本的優(yōu)勢(shì),，同時(shí)保留了可擴(kuò)展性和易于維護(hù)的操作功能,。另外，主模板的壽命延長到與用于光刻的掩模相當(dāng)?shù)臅r(shí)間,。岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商，歡迎各位聯(lián)系我們,，探討納米壓印光刻的相關(guān)知識(shí),。我們?cè)敢馀c您共同進(jìn)步。

岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商,，歡迎各位聯(lián)系我們,，探討納米壓印光刻的相關(guān)知識(shí)。中科院納米壓印學(xué)校會(huì)用嗎

EVG是納米壓印光刻（NIL）的市場**設(shè)備供應(yīng)商,。青海納米壓印學(xué)校會(huì)用嗎

    具體說來就是,，MOSFET能夠有效地產(chǎn)生電流流動(dòng)，因?yàn)闃?biāo)準(zhǔn)的半導(dǎo)體制造技術(shù)旺旺不能精確控制住摻雜的水平（硅中摻雜以帶來或正或負(fù)的電荷）,，以確?？绺鹘M件的通道性能的一致性。通常MOSFET是在一層二氧化硅（SiO2）襯底上,，然后沉積一層金屬或多晶硅制成的,。然而這種方法可以不精確且難以完全掌控，摻雜有時(shí)會(huì)泄到別的不需要的地方,，那樣就創(chuàng)造出了所謂的“短溝道效應(yīng)”區(qū)域,，并導(dǎo)致性能下降。一個(gè)典型MOSFET不同層級(jí)的剖面圖。不過威斯康星大學(xué)麥迪遜分校已經(jīng)同全美多個(gè)合作伙伴攜手（包括密歇根大學(xué),、德克薩斯大學(xué),、以及加州大學(xué)伯克利分校等），開發(fā)出了能夠降低摻雜劑泄露以提升半導(dǎo)體品質(zhì)的新技術(shù),。研究人員通過電子束光刻工藝在表面上形成定制形狀和塑形,，從而帶來更加“物理可控”的生產(chǎn)過程。（來自網(wǎng)絡(luò),。青海納米壓印學(xué)校會(huì)用嗎

岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司致力于儀器儀表,，以科技創(chuàng)新實(shí)現(xiàn)***管理的追求。岱美儀器技術(shù)服務(wù)擁有一支經(jīng)驗(yàn)豐富,、技術(shù)創(chuàng)新的專業(yè)研發(fā)團(tuán)隊(duì),，以高度的專注和執(zhí)著為客戶提供磁記錄，半導(dǎo)體,，光通訊生產(chǎn),，測試儀器的批發(fā)。岱美儀器技術(shù)服務(wù)不斷開拓創(chuàng)新,，追求出色,，以技術(shù)為先導(dǎo)，以產(chǎn)品為平臺(tái),，以應(yīng)用為重點(diǎn),，以服務(wù)為保證，不斷為客戶創(chuàng)造更高價(jià)值,，提供更優(yōu)服務(wù),。岱美儀器技術(shù)服務(wù)始終關(guān)注自身，在風(fēng)云變化的時(shí)代,，對(duì)自身的建設(shè)毫不懈怠,，高度的專注與執(zhí)著使岱美儀器技術(shù)服務(wù)在行業(yè)的從容而自信。