EVG101光刻膠處理系統(tǒng)的旋轉涂層模塊-旋轉器參數(shù)

轉速：**/高10 k rpm

加速速度：**/高10 k rpm

噴涂模塊-噴涂產生

超聲波霧化噴嘴/高粘度噴嘴

開發(fā)模塊-分配選項

水坑顯影/噴霧顯影

EVG101光刻膠處理系統(tǒng)附加模塊選項：

預對準：機械

系統(tǒng)控制參數(shù)：

操作系統(tǒng)：Windows

文件共享和備份解決方案/無限制程序和參數(shù)/離線程序編輯器

靈活的流程定義/易于拖放的程序編程

并行處理多個作業(yè)/實時遠程訪問,，診斷和故障排除

多語言用戶GUI和支持：CN,，DE，F(xiàn)R,，IT,，JP，KR

HERCULES平臺是“一站式服務”平臺,。中國澳門光刻機

EVG770自動UV-NIL納米壓印步進機，用于制作主圖章,。母模是晶圓大小的模板,，里面完全裝有微透鏡模具，每個模具都采用分步重復的方法從一個透鏡模板中復制,。EVG從金屬或玻璃制成的單鏡頭母版開始,，提供了涵蓋了制作母模的所有基本工藝步驟的工藝流程，具有****的鏡片位置精度和**鏡片制造所需的高鏡片形狀可重復性晶圓級相機模塊,。

IQ Aligner自動UV-NIL納米壓印系統(tǒng),，用于UV微透鏡成型。軟UV壓印光刻技術是用于制造聚合物微透鏡（WLO系統(tǒng)的關鍵要素）的高度并行技術,。EVG從晶圓尺寸的主圖章復制的軟性圖章開始,，提供了混合和整體式微透鏡成型工藝,，可以輕松地將其應用于工作圖章和微透鏡材料的各種材料組合。此外,，EV Group提供合格的微透鏡成型工藝,，包括所有相關的材料專業(yè)知識。

EVG40 NT自動測量系統(tǒng),。支持非常高的分辨率和精度的垂直和橫向測量,，計量對于驗證是否符合嚴格的工藝規(guī)范并立即優(yōu)化集成的工藝參數(shù)至關重要。在WLO制造中,，EVG的度量衡解決方案可用于關鍵尺寸（CD）測量和透鏡疊層對準驗證,，以及許多其他應用。 高精密儀器光刻機技術服務EVG光刻機的掩模對準器和工藝能力經過客戶現(xiàn)場驗證,，安裝并集成在全球各地的用戶系統(tǒng)中,。

EVG ® 101--先進的光刻膠處理系統(tǒng)

主要應用：研發(fā)和小規(guī)模生產中的單晶圓光刻膠加工

EVG101光刻膠處理系統(tǒng)在單腔設計中執(zhí)行研發(fā)類型的工藝，與EVG的自動化系統(tǒng)完全兼容,。EVG101光刻膠處理機支持**/大300 mm的晶圓,，并可配置用于旋涂或噴涂以及顯影應用。通過EVG先進的OmniSpray涂層技術,，在互連技術的3D結構晶圓上獲得了光致光刻膠或聚合物的保形層,。這確保了珍貴的高粘度光刻膠或聚合物的材料消耗降低，同時提高了均勻性和光刻膠鋪展選擇,。這**地節(jié)省了用戶的成本,。

HERCULES®

■   全自動光刻跟/蹤系統(tǒng)，模塊化設計,，用于掩模和曝光,，集成了預處理和后處理能力

■   高產量的晶圓加工

■   **多8個濕法處理模塊以及多達24個額外烘烤，冷卻和蒸汽填料板

■   基于EVG的IQ Aligner® 或者EVG®6200

NT技術進行對準和曝光

■   **的柜內化學處理

■   支持連續(xù)操作模式(CMO)

EVG光刻機可選項有：

手動和自動處理

我們所有的自動化系統(tǒng)還支持手動基片和掩模加載功能,，以便進行過程評估,。此外，該系統(tǒng)可以配置成處理彎曲,，翹曲,，變薄或非SEMI標準形狀的晶片和基片。各種晶圓卡盤設計毫無任何妥協(xié),，帶來**/大的工藝靈活性和基片處理能力,。我們的掩模對準器配有機械或非接觸式光學預對準器，以確保**/佳的工藝能力和產量,。Load＆Go選項可在自動化系統(tǒng)上提供超快的流程啟動,。 EVG?620 NT / EVG?6200 NT 掩模對準系統(tǒng)（自動化和半自動化）支持的晶圓尺寸 ：150 mm / 200 mm。

EVG ® 6200 NT掩模對準系統(tǒng)（半自動/自動）

特色：EVG ® 6200 NT掩模對準器為光學雙面光刻的多功能工具和晶片尺寸高達200毫米,。

技術數(shù)據：EVG6200 NT以其自動化靈活性和可靠性而著稱,，可在**小的占位面積上提供**/先進的掩模對準技術,，并具有**/高的產能，先進的對準功能和優(yōu)化的總擁有成本,。操作員友好型軟件,，**短的掩模和工具更換時間以及高/效的全球服務和支持使它成為任何制造環(huán)境的理想解決方案。EVG6200 NT或完全安裝的EVG6200 NT Gen2掩模對準系統(tǒng)有半自動或自動配置,，并配有集成的振動隔離功能,，可在廣/泛的應用中實現(xiàn)出色的曝光效果，例如薄和厚光刻膠的曝光,，深腔和類似地形的圖案,，以及薄而易碎的材料（例如化合物半導體）的加工。此外,，半自動和全自動系統(tǒng)配置均支持EVG專有的SmartNIL技術,。 可在眾多應用場景中找到EVG的設備應用，包括高級封裝,，化合物半導體,，功率器件，LED,，傳感器和MEMS,。北京功率器件光刻機

EVG100系列光刻膠處理系統(tǒng)為光刻膠涂層和顯影建立了質量和靈活性方面的新的標準。中國澳門光刻機

由于在重大工程,、工業(yè)裝備和質量保證,、基礎科研中，儀器儀表都是必不可少的基礎技術和裝備重點,，除傳統(tǒng)領域的需求外,，新興的智能制造、離散自動化,、生命科學,、新能源、海洋工程,、軌道交通等領域也會產生巨大需求,。目前，磁記錄,，半導體，光通訊生產,，測試儀器的批發(fā)等產品的產量居世界前列,，實驗分析儀器等中產品的市場占比不斷上升，行業(yè)技術上總體已達到的中等國際水平,，少數(shù)產品接近或達到當前較高國際水平,。在國民經濟運行中,，磁記錄、半導體,、光通訊生產及測試儀器的批發(fā),、進出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關配套服務,，國際貿易,、轉口貿易，商務信息咨詢服務,。 【依法須經批準的項目,，經相關部門批準后方可開展經營活動】磁記錄、半導體,、光通訊生產及測試儀器的批發(fā),、進出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關配套服務,，國際貿易,、轉口貿易，商務信息咨詢服務,。 【依法須經批準的項目,，經相關部門批準后方可開展經營活動】等設備是提高勞動生產率的倍增器，對國民經濟有著巨大的作用和影響力,。美國商業(yè)部地區(qū)技術和標準研究院（NIST）提出的報告稱：美國90年代儀器儀表工業(yè)產值只占工業(yè)總產值的4%,，但它對國民經濟（GNP）的影響面卻達到66%。盡管在我國相關政策的引導和支持下,，我國儀器儀表行業(yè)得到了飛速發(fā)展,。但是從銷售整體上看，我國的儀器儀表行業(yè)還是落后于國際水平的,。重點技術缺乏,、高精尖產品嚴重依賴進口、儀器儀表產品同質化嚴重,、生產工藝落后,、研發(fā)能力弱、精度不高等問題的凸顯,，為儀器儀表行業(yè)的發(fā)展帶來了嚴峻的挑戰(zhàn),。中國澳門光刻機

岱美儀器技術服務（上海）有限公司專注技術創(chuàng)新和產品研發(fā)，發(fā)展規(guī)模團隊不斷壯大,。目前我公司在職員工以90后為主,，是一個有活力有能力有創(chuàng)新精神的團隊。誠實、守信是對企業(yè)的經營要求,，也是我們做人的基本準則,。公司致力于打造***的磁記錄，半導體,，光通訊生產,，測試儀器的批發(fā)。一直以來公司堅持以客戶為中心,、磁記錄,，半導體，光通訊生產,，測試儀器的批發(fā)市場為導向,，重信譽，保質量,，想客戶之所想,，急用戶之所急，全力以赴滿足客戶的一切需要,。