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來源: 發(fā)布時間:2020-05-03

非晶態(tài)多晶硅硅元素以非晶和晶體兩種形式存在, 在兩級之間是部分結(jié)晶硅。部分結(jié)晶硅又被叫做多晶硅,。


非晶硅和多晶硅的光學常數(shù)(n和k)對不同沉積條件是獨特的,,必須有精確的厚度測量。 測量厚度時還必須考慮粗糙度和硅薄膜結(jié)晶可能的風化,。

Filmetrics 設(shè)備提供的復(fù)雜的測量程序同時測量和輸出每個要求的硅薄膜參數(shù),, 并且“一鍵”出結(jié)果。

測量范例多晶硅被***用于以硅為基礎(chǔ)的電子設(shè)備中,。這些設(shè)備的效率取決于薄膜的光學和結(jié)構(gòu)特性,。隨著沉積和退火條件的改變,這些特性隨之改變,,所以準確地測量這些參數(shù)非常重要,。監(jiān)控晶圓硅基底和多晶硅之間,加入二氧化硅層,,以增加光學對比,,其薄膜厚度和光學特性均可測得。F20可以很容易地測量多晶硅薄膜的厚度和光學常數(shù),,以及二氧化硅夾層厚度,。Bruggeman光學模型被用來測量多晶硅薄膜光學特性。


FSM拉曼的應(yīng)用:局部應(yīng)力,; 局部化學成分,;局部損傷,。盒厚膜厚儀免稅價格

樣品視頻包括硬件和照相機的F20系統(tǒng)視頻。視頻實時顯示精確測量點,。 不包括SS-3平臺,。SampleCam-sXsX探頭攝像機包含改裝的sX探頭光學配件,但不包含平臺,。StageBase-XY8-Manual-40mm8“×8” 樣品平臺,,具有SS-3鏡頭與38mm的精密XY平移聚焦平臺。能夠升級成電動測繪與自動對焦,。StageBase-XY10-Auto-100mm10“×10” 全電動樣品平臺,。可以進行100mm高精度XY平移,,包括自動焦距調(diào)節(jié),。SS-Microscope- UVX-1顯微鏡(15倍反射式物鏡)及X-Y平臺。 包含UV光源與照明光纖,。SS-Microscope- EXR-1顯微鏡包含X- Y平臺及照明光纖. 需另選購物鏡. 通常使用顯微鏡內(nèi)建照明,。SS-Trans-Curved用于平坦或彎曲表面的透射平臺,包括光纖,,和 F10-AR 一起使用。 波長范圍 250nm -2500nm,。T-1SS-3 平臺的透射測量可選件,。包括光纖、平臺轉(zhuǎn)接器和平臺支架,。 用于平坦的樣品,。WS-300用于小于 300mm 樣品的平移旋轉(zhuǎn)平臺。重慶實驗室膜厚儀F30測厚范圍:15nm-70μm,;波長:380-1050nm,。

參考材料

備用 BK7 和二氧化硅參考材料。

BG-Microscope顯微鏡系統(tǒng)內(nèi)取背景反射的小型抗反光鏡

BG-F10-RT平臺系統(tǒng)內(nèi)獲取背景反射的抗反光鏡

REF-Al-1mmSubstrate基底 - 高反射率鋁基準

REF-Al-3mmSubstrate基底 - 高反射率鋁基準

REF-BK71?" x 1?" BK7 反射基準,。

REF-F10RT-FusedSilica-2Side背面未經(jīng)處理的石英,,用于雙界面基準。

REF-Si-22" 單晶硅晶圓

REF-Si-44" 單晶硅晶圓

REF-Si-66" 單晶硅晶圓

REF-Si-88" 單晶硅晶圓

REF-SS3-Al專為SS-3樣品平臺設(shè)計之鋁反射率基準片

REF-SS3-BK7專為SS-3樣品平臺設(shè)計之BK7玻璃反射率基準片

REF-SS3-Si專為SS-3樣品平臺設(shè)計之硅反射率基準片

測量眼科設(shè)備涂層厚度光譜反射率可用于測量眼鏡片減反射 (AR) 光譜和殘余顏色,,以及硬涂層和疏水層的厚度,。

測量范例:

F10-AR系統(tǒng)配備HC升級選擇通過反射率信息進行硬涂層厚度測量。這款儀器儀器采用接觸探頭,,從而降低背面反射影響,,并可測凹凸表面。接觸探頭安置在鏡頭表面,。FILMeasure軟件自動分析采集的光譜信息以確定鏡頭是否滿足指定的反射規(guī)格,??蓽y平均反射率,指定點**小比較大反射率,,以抵消硬涂層的存在,。如果這個鏡頭符合要求,系統(tǒng)操作人員將得到清晰的“很好”指示,。 F30-UV測厚范圍:3nm-40μm,;波長:190-1100nm。

    光纖紫外線,、可見光譜和近紅外備用光纖,。接觸探頭是相當堅固的,但是光纖不能經(jīng)常被抽屜碰撞或者被椅子壓過,。該套件包括指令,,以及簡單的維修工具,新的和舊風格的探頭,。FO-PAT-SMA-SMA-200-22米長,,直徑200um的光纖,兩端配備SMA接頭,。米長,,分叉反射探頭。

通用附件攜帶箱等,。手提電腦手提電腦預(yù)裝FILMeasure軟件,、XP和Microsoft辦公軟件。

電腦提箱用于攜帶F10,、F20,、F30和F40系統(tǒng)的提箱。ConflatFeedthrough真空穿通,,"conflat,、雙出入孔SMA,并通過泄漏測試,。LensPaper-CenterHole**開孔鏡頭紙,,用于保護面朝下的樣品,5本各100張,。 應(yīng)用:襯底厚度(不受圖案硅片,、有膠帶、凹凸或者粘合硅片影響),,平整度,。Filmetrics F3-CS膜厚儀24小時在線服務(wù)

F40測量范圍;20nm-40μm;波長:400-850nm,。盒厚膜厚儀免稅價格

厚度標準:

所有 Filmetrics 厚度標準都是得到驗證可追溯的 NIST 標準,。

S-Custom-NIST:在客戶提供的樣品上定制可追溯的 NIST 厚度校準,。 

TS-Focus-SiO2-4-3100SiO2-on-Si :厚度標準,外加調(diào)焦區(qū)和單晶硅基準,,厚度大約 3100A,,4" 晶圓。

TS-Focus-SiO2-4-10000SiO2-on-Si :厚度標準,,外加調(diào)焦區(qū)和單晶硅基準,,厚度大約 10000A,4" 晶圓,。

TS-Hardcoat-4μm:丙烯酸塑料硬涂層厚度標準,,厚度大約 4um,直徑 2",。

TS-Hardcoat-Trans:背面透明的硬涂層,,可用于透射測量。

TS-Parylene-4um:丙烯酸塑料上的聚對二甲苯厚度標準,,厚度大約 4um ,,直徑2"。

TS-Parylene-8um:硅基上的聚對二甲苯厚度標準,,厚度大約 8um,,23mm x 23mm。

TS-SiO2-4-7200:硅基上的二氧化硅厚度標準,,厚度大約 7200A,,4" 晶圓。

TS-SiO2-4-7200-NIST:可追溯的 NIST SiO2-4-7200 厚度標準,。

TS-SiO2-6-Multi:多厚度硅基上的二氧化硅標準: 125埃米,250埃米,,500埃米,,1000埃米,5000埃米,,和 10000埃米 (+/-10%誤差),,6英寸晶圓。TS-SS3-SiO2-8000:專為SS-3樣品平臺設(shè)計之二氧化硅厚度標準片,厚度大約為 8000A,。 盒厚膜厚儀免稅價格

岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司位于中國(上海)自由貿(mào)易試驗區(qū)加太路39號第五層六十五部位,,交通便利,環(huán)境優(yōu)美,,是一家其他型企業(yè),。是一家有限責任公司企業(yè),隨著市場的發(fā)展和生產(chǎn)的需求,,與多家企業(yè)合作研究,,在原有產(chǎn)品的基礎(chǔ)上經(jīng)過不斷改進,,追求新型,在強化內(nèi)部管理,,完善結(jié)構(gòu)調(diào)整的同時,,良好的質(zhì)量、合理的價格,、完善的服務(wù),,在業(yè)界受到寬泛好評。以滿足顧客要求為己任,;以顧客永遠滿意為標準,;以保持行業(yè)優(yōu)先為目標,提供***的磁記錄,,半導體,,光通訊生產(chǎn),測試儀器的批發(fā),。岱美儀器技術(shù)服務(wù)順應(yīng)時代發(fā)展和市場需求,,通過**技術(shù),力圖保證高規(guī)格高質(zhì)量的磁記錄,,半導體,,光通訊生產(chǎn),測試儀器的批發(fā),。