此外，EVG光刻機不斷關(guān)注未來的市場趨勢 - 例如光學3D傳感和光子學 - 并為這些應(yīng)用開發(fā)新的方案和調(diào)整現(xiàn)有的解決方案,，以滿足客戶不斷變化的需求。我們用持續(xù)的技術(shù)和市場地位證明了這一點,，包括EVG在使用各種非標準抗蝕劑方面的****的經(jīng)驗，這些抗蝕劑針對獨特的要求和參數(shù)進行了優(yōu)化,。了解客戶需求和有效的全球支持是我們提供優(yōu)先解決方案的重要基礎(chǔ)。只有接近客戶,，才能得知客戶**真實的需求，這是我們一直時刻與客戶保持聯(lián)系的原因之一,。可在眾多應(yīng)用場景中找到EVG的設(shè)備應(yīng)用,，包括高級封裝，化合物半導(dǎo)體,，功率器件，LED,，傳感器和MEMS。半導(dǎo)體光刻機推薦廠家

EVG的光刻機技術(shù)：EVG在光刻技術(shù)上的關(guān)鍵能力在于其掩模對準器的高產(chǎn)能,，接觸和接近曝光功能以及其光刻膠處理系統(tǒng)的內(nèi)部處理的相關(guān)知識。EVG的所有光刻設(shè)備平臺均支持300毫米的晶圓,，可以完全集成到其HERCULES光刻軌道系統(tǒng)中,，并配有用于從上到下的側(cè)面對準驗證的度量工具,。

EVG不斷展望未來的市場趨勢，因此提供了針對特定應(yīng)用的解決方案,，尤其是在光學3D傳感和光子學市場中，其****的EVG的工藝和材料專業(yè)知識-源自對各種光刻膠材料進行的廣/泛優(yōu)化研究,。了解客戶需求并提供有效的全球支持是EVG光刻解決方案成功的重要因素。 高校光刻機技術(shù)服務(wù)岱美是EVG光刻機在中國的代理商,，提供本地化的質(zhì)量服務(wù)。

曝光光學：提供不同配置的曝光光學系統(tǒng)，旨在實現(xiàn)任何應(yīng)用的**/大靈活性,。汞燈曝光光學系統(tǒng)針對150，200和300 mm基片進行了優(yōu)化,，可與各種濾光片一起用于窄帶曝光要求,，例如i-，g-和h-線濾光片,，甚至還有深紫外線,。

HERCULES®

■   全自動光刻跟/蹤系統(tǒng),，模塊化設(shè)計,，用于掩模和曝光,，集成了預(yù)處理和后處理能力

■   高產(chǎn)量的晶圓加工

■   **多8個濕法處理模塊以及多達24個額外烘烤，冷卻和蒸汽填料板

■   基于EVG的IQ Aligner® 或者EVG®6200

NT技術(shù)進行對準和曝光

■   **的柜內(nèi)化學處理

■   支持連續(xù)操作模式(CMO)

EVG光刻機可選項有：

手動和自動處理

我們所有的自動化系統(tǒng)還支持手動基片和掩模加載功能,，以便進行過程評估,。此外，該系統(tǒng)可以配置成處理彎曲,，翹曲,，變薄或非SEMI標準形狀的晶片和基片。各種晶圓卡盤設(shè)計毫無任何妥協(xié),，帶來**/大的工藝靈活性和基片處理能力,。我們的掩模對準器配有機械或非接觸式光學預(yù)對準器，以確保**/佳的工藝能力和產(chǎn)量,。Load＆Go選項可在自動化系統(tǒng)上提供超快的流程啟動,。 HERCULES以**小的占地面積結(jié)合了EVG精密對準和光刻膠處理系統(tǒng)的所有優(yōu)勢。

IQ Aligner® 自動化掩模對準系統(tǒng)

特色：EVG ® IQ定位儀®平臺用于自動非接觸近距離處理而優(yōu)化的用于晶片尺寸高達200毫米,。

技術(shù)數(shù)據(jù)：IQ Aligner是具有高度自動化程度的非接觸式接近光刻平臺,，可滿足將生產(chǎn)線中的掩模污染降至**/低并增加掩模壽命和產(chǎn)品良率的需求。除了多種對準功能外,，該系統(tǒng)還通過專門配置進行了廣/泛的安裝和現(xiàn)場驗證,，可自動處理和處理翹曲或變薄的晶圓。標準的頂側(cè)或底側(cè)對準與集成的IR對準功能之間的混合匹配操作進一步拓寬了應(yīng)用領(lǐng)域,，尤其是在與工程或粘合基板對準時,。該系統(tǒng)還通過快速響應(yīng)的溫度控制工具集支持晶片對準跳動控制。 EVG的CoverSpin TM旋轉(zhuǎn)蓋可降低光刻膠消耗,，并提高光刻膠涂層的均勻性,。浙江光刻機美元價格

EVG100光刻膠處理系統(tǒng)可以處理多種尺寸的基板，直徑從2寸到300 mm,。半導(dǎo)體光刻機推薦廠家

EVG ® 610特征：

晶圓/基板尺寸從小到200 mm /8''

頂側(cè)和底側(cè)對準能力

高精度對準臺

自動楔形補償序列

電動和程序控制的曝光間隙

支持**/新的UV-LED技術(shù)

**小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求

分步流程指導(dǎo)

遠程技術(shù)支持

多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,，可分配的訪問權(quán)限，不同的用戶界面語言）

便捷處理和轉(zhuǎn)換重組

臺式或帶防震花崗巖臺的單機版

EVG ® 610附加功能：

鍵對準

紅外對準

納米壓印光刻（NIL）

EVG ® 610技術(shù)數(shù)據(jù)：

對準方式

上側(cè)對準：≤±0.5 μm

底面要求：≤±2,0 μm

紅外校準：≤±2,0 μm /具體取決于基板材料

鍵對準：≤±2,0 μm

NIL對準：≤±2,0 μm 半導(dǎo)體光刻機推薦廠家

岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司一直專注于磁記錄,、半導(dǎo)體,、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進出口,、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務(wù),，國際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,，商務(wù)信息咨詢服務(wù),。 【依法須經(jīng)批準的項目，經(jīng)相關(guān)部門批準后方可開展經(jīng)營活動】磁記錄、半導(dǎo)體,、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā),、進出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務(wù),，國際貿(mào)易,、轉(zhuǎn)口貿(mào)易，商務(wù)信息咨詢服務(wù),。 【依法須經(jīng)批準的項目,，經(jīng)相關(guān)部門批準后方可開展經(jīng)營活動】，是一家儀器儀表的企業(yè),，擁有自己**的技術(shù)體系,。公司目前擁有專業(yè)的技術(shù)員工，為員工提供廣闊的發(fā)展平臺與成長空間,，為客戶提供高質(zhì)的產(chǎn)品服務(wù),，深受員工與客戶好評,。誠實,、守信是對企業(yè)的經(jīng)營要求，也是我們做人的基本準則,。公司致力于打造***的磁記錄,，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn),，測試儀器的批發(fā),。公司憑著雄厚的技術(shù)力量、飽滿的工作態(tài)度,、扎實的工作作風,、良好的職業(yè)道德，樹立了良好的磁記錄,，半導(dǎo)體,，光通訊生產(chǎn)，測試儀器的批發(fā)形象,，贏得了社會各界的信任和認可,。