EVG101光刻膠處理系統(tǒng)的技術(shù)數(shù)據(jù)：

可用模塊：旋涂/ OmniSpray ® /開發(fā)

分配選項(xiàng)：

各種光刻膠分配泵，可覆蓋高達(dá)52000 cP的粘度,；

液體底漆/預(yù)濕/洗盤,；

去除邊緣珠（EBR）/背面沖洗（BSR）,；

恒壓分配系統(tǒng)/注射器分配系統(tǒng),。

智能過程控制和數(shù)據(jù)分析功能（框架軟件平臺(tái)）

用于過程和機(jī)器控制的集成分析功能

并行任務(wù)/排隊(duì)任務(wù)處理功能，提高效率

設(shè)備和過程性能跟/蹤功能：智能處理功能,；事/故和警報(bào)分析/智能維護(hù)管理和跟/蹤

晶圓直徑（基板尺寸）：高達(dá)300毫米

EVG在要求苛刻的應(yīng)用中積累了多年的光刻膠旋涂和噴涂經(jīng)驗(yàn),。**光刻機(jī)免稅價(jià)格

       EV集團(tuán)（EVG）是面向MEMS，納米技術(shù)和半導(dǎo)體市場的晶圓鍵合機(jī)和光刻設(shè)備的**供應(yīng)商,，***宣布已收到其制造設(shè)備和服務(wù)的***組合產(chǎn)品組合的多個(gè)訂單,，這些產(chǎn)品和服務(wù)旨在滿足對晶圓的新興需求，水平光學(xué)（WLO）和3D感應(yīng),。市場**的產(chǎn)品組合包括EVG®770自動(dòng)UV-納米壓印光刻（UV-NIL）步進(jìn)器,，用于步進(jìn)重復(fù)式主圖章制造，用于晶圓級透鏡成型和堆疊的IQAligner®UV壓印系統(tǒng)以及EVG ®40NT自動(dòng)測量系統(tǒng),，用于對準(zhǔn)驗(yàn)證,。EVG的WLO解決方案由該公司的NILPhotonics®能力中心提供支持,。

      使用** 欣的壓印光刻技術(shù)和鍵合對準(zhǔn)技術(shù)在晶圓級制造微透鏡，衍射光學(xué)元件和其他光學(xué)組件可帶來諸多好處,。這些措施包括通過高度并行的制造工藝降低擁有成本,，以及通過堆疊使**終器件的外形尺寸更小。EVG是納米壓印光刻和微成型領(lǐng)域的先驅(qū)和市場***,，擁有全球比較大的工具安裝基礎(chǔ),。 HVM光刻機(jī)原理IQ Aligner NT 光刻機(jī)系統(tǒng)使用零輔助橋接工具-雙基片，支持200mm和300mm尺寸的晶圓,。

EVG120特征2：

先進(jìn)且經(jīng)過現(xiàn)場驗(yàn)證的機(jī)器人具有雙末端執(zhí)行器功能,，可確保連續(xù)的高產(chǎn)量；

工藝技術(shù)卓/越和開發(fā)服務(wù)：

多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,，可分配的訪問權(quán)限,，不同的用戶界面語言）

智能過程控制和數(shù)據(jù)分析功能[Framework SW Platform]

用于過程和機(jī)器控制的集成分析功能

設(shè)備和過程性能跟/蹤功能；

并行/排隊(duì)任務(wù)處理功能,；

智能處理功能,；

發(fā)生和警報(bào)分析,；

智能維護(hù)管理和跟/蹤,；

技術(shù)數(shù)據(jù)：

可用模塊；

旋涂/ OmniSpray ® /開發(fā),；

烤/冷,；

晶圓處理選項(xiàng)：

單/雙EE /邊緣處理/晶圓翻轉(zhuǎn)；

彎曲/翹曲/薄晶圓處理,。

這使得可以在工業(yè)水平上開發(fā)新的設(shè)備或工藝,，這不僅需要高度的靈活性，而且需要可控和可重復(fù)的處理,。EVG在要求苛刻的應(yīng)用中積累了多年的旋涂和噴涂經(jīng)驗(yàn),，并將這些知識技能整合到EVG100系列中，可以利用我們的工藝知識為客戶提供支持,。

光刻膠處理設(shè)備有：EVG101光刻膠處理,，EVG105光刻膠烘焙機(jī)，EVG120光刻膠處理自動(dòng)化系統(tǒng),；EVG150 光刻膠處理自動(dòng)化系統(tǒng),。如果您需要了解每個(gè)型號的特點(diǎn)和參數(shù)，請聯(lián)系我們,，我們會(huì)給您提供**/新的資料,。或者訪問我們的官網(wǎng)獲取相關(guān)信息,。

EVG光刻機(jī)**/新的曝光光學(xué)增強(qiáng)功能是對LED燈的設(shè)置,。

EVG ® 101--先進(jìn)的光刻膠處理系統(tǒng)

主要應(yīng)用：研發(fā)和小規(guī)模生產(chǎn)中的單晶圓光刻膠加工

EVG101光刻膠處理系統(tǒng)在單腔設(shè)計(jì)中執(zhí)行研發(fā)類型的工藝,，與EVG的自動(dòng)化系統(tǒng)完全兼容。EVG101光刻膠處理機(jī)支持**/大300 mm的晶圓,，并可配置用于旋涂或噴涂以及顯影應(yīng)用,。通過EVG先進(jìn)的OmniSpray涂層技術(shù)，在互連技術(shù)的3D結(jié)構(gòu)晶圓上獲得了光致光刻膠或聚合物的保形層,。這確保了珍貴的高粘度光刻膠或聚合物的材料消耗降低,，同時(shí)提高了均勻性和光刻膠鋪展選擇。這**地節(jié)省了用戶的成本,。

EVG鍵合機(jī)掩模對準(zhǔn)系列產(chǎn)品,，使用的是**/先進(jìn)的工程工藝。EVG光刻機(jī)保修期多久

EVG同樣為客戶提供量產(chǎn)型掩模對準(zhǔn)系統(tǒng),。**光刻機(jī)免稅價(jià)格

EVG鍵合機(jī)掩模對準(zhǔn)系列產(chǎn)品,，使用**/先進(jìn)的工程技術(shù)。

用戶對接近式對準(zhǔn)器的主要需求由幾個(gè)關(guān)鍵參數(shù)決定,。亞微米對準(zhǔn)精度,，掩模和晶片之間受控的均勻接近間隙，以及對應(yīng)于抗蝕劑靈敏度的已經(jīng)明確定義且易于控制的曝光光譜是**重要的標(biāo)準(zhǔn),。此外,，整個(gè)晶圓表面的高光強(qiáng)度和均勻性是設(shè)計(jì)和不斷增強(qiáng)EVG掩模對準(zhǔn)器產(chǎn)品組合時(shí)需要考慮的其他關(guān)鍵參數(shù)。創(chuàng)新推動(dòng)了我們的日常業(yè)務(wù)的發(fā)展和提升我們的理念,，使我們能夠跳出思維框架,，創(chuàng)造更先進(jìn)的系統(tǒng)。 **光刻機(jī)免稅價(jià)格

岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司致力于儀器儀表,，以科技創(chuàng)新實(shí)現(xiàn)***管理的追求,。岱美儀器技術(shù)服務(wù)深耕行業(yè)多年，始終以客戶的需求為向?qū)?，為客戶提?**的磁記錄,，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn),，測試儀器的批發(fā),。岱美儀器技術(shù)服務(wù)不斷開拓創(chuàng)新，追求出色,，以技術(shù)為先導(dǎo),，以產(chǎn)品為平臺(tái)，以應(yīng)用為重點(diǎn),，以服務(wù)為保證,，不斷為客戶創(chuàng)造更高價(jià)值，提供更優(yōu)服務(wù),。岱美儀器技術(shù)服務(wù)始終關(guān)注儀器儀表行業(yè),。滿足市場需求,，提高產(chǎn)品價(jià)值，是我們前行的力量,。