掘進(jìn)機(jī)常見(jiàn)故障分析及處理方法
懸臂式掘進(jìn)機(jī)與全斷面掘進(jìn)機(jī)的區(qū)別
正確使用采煤機(jī)截齒及其重要性
掘進(jìn)機(jī)截齒:礦山開(kāi)采的鋒銳利器
掘進(jìn)機(jī)的多樣類型與廣闊市場(chǎng)前景
怎么樣對(duì)掘進(jìn)機(jī)截割減速機(jī)進(jìn)行潤(rùn)滑呢,?
哪些因素會(huì)影響懸臂式掘進(jìn)機(jī)配件的性能,?
懸臂式掘進(jìn)機(jī)常見(jiàn)型號(hào)
懸臂式掘進(jìn)機(jī)的相關(guān)介紹及發(fā)展現(xiàn)狀
掘錨機(jī)配件的檢修及維護(hù)
IQ Aligner®NT技術(shù)數(shù)據(jù):
產(chǎn)能:
全自動(dòng):首/次生產(chǎn)量印刷:每小時(shí)200片
全自動(dòng):吞吐量對(duì)準(zhǔn):每小時(shí)160片晶圓
工業(yè)自動(dòng)化功能:盒式磁帶/ SMIF / FOUP / SECS / GEM /薄,,彎曲,翹曲,,晶圓邊緣處理
智能過(guò)程控制和數(shù)據(jù)分析功能(框架SW平臺(tái))
用于過(guò)程和機(jī)器控制的集成分析功能
并行任務(wù)/排隊(duì)任務(wù)處理功能
設(shè)備和過(guò)程性能跟/蹤功能
智能處理功能
事/故和警報(bào)分析/智能維護(hù)管理和跟/蹤
晶圓直徑(基板尺寸):高達(dá)300毫米
對(duì)準(zhǔn)方式:
頂部對(duì)準(zhǔn):≤±0,25 μm
底側(cè)對(duì)準(zhǔn):≤±0.5 μm
紅外對(duì)準(zhǔn):≤±2,0 μm /取決于基材 所有系統(tǒng)均支持原位對(duì)準(zhǔn)驗(yàn)證的軟件,,可以提高手動(dòng)操作系統(tǒng)的對(duì)準(zhǔn)精度和可重復(fù)性。湖南光刻機(jī)美元報(bào)價(jià)
IQ Aligner特征:
晶圓/基板尺寸從小到200 mm /
8''
由于外部晶圓楔形測(cè)量,,實(shí)現(xiàn)了非接觸式接近模式
增強(qiáng)的振動(dòng)隔離,,有效減少誤差
各種對(duì)準(zhǔn)功能提高了過(guò)程靈活性
跳動(dòng)控制對(duì)準(zhǔn)功能,提高了效率
多種晶圓尺寸的易碎,,薄或翹曲的晶圓處理
高地表形貌晶圓加工經(jīng)驗(yàn)
手動(dòng)基板裝載能力
遠(yuǎn)程技術(shù)支持和SECS / GEM兼容性
IQ Aligner附加功能:
紅外對(duì)準(zhǔn)–透射和/或反射
IQ Aligner技術(shù)數(shù)據(jù):
楔形補(bǔ)償:全自動(dòng)軟件控制
非接觸式
先進(jìn)的對(duì)準(zhǔn)功能:自動(dòng)對(duì)準(zhǔn),;大間隙對(duì)準(zhǔn);跳動(dòng)控制對(duì)準(zhǔn),;動(dòng)態(tài)對(duì)準(zhǔn) IQ Aligner光刻機(jī)可以免稅嗎EVG光刻機(jī)最/新的曝光光學(xué)增強(qiáng)功能是對(duì)LED燈的設(shè)置,。
EVG620 NT或完全容納的EVG620
NT Gen2掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)配備了集成的振動(dòng)隔離功能,可在各種應(yīng)用中實(shí)現(xiàn)出色的曝光效果,,例如,,對(duì)薄而厚的光刻膠進(jìn)行曝光,對(duì)深腔進(jìn)行構(gòu)圖并形成可比的形貌,,以及對(duì)薄而易碎的材料(例如化合物半導(dǎo)體)進(jìn)行加工,。此外,半自動(dòng)和全自動(dòng)系統(tǒng)配置均支持EVG專有的SmartNIL技術(shù),。
EVG620 NT特征:
晶圓/基板尺寸從小到150 mm /
6''
系統(tǒng)設(shè)計(jì)支持光刻工藝的多功能性
易碎,,薄或翹曲的多種尺寸的晶圓處理,更換時(shí)間短
帶有間隔墊片的自動(dòng)無(wú)接觸楔形補(bǔ)償序列
我們可以根據(jù)您的需求提供進(jìn)行優(yōu)化的多用途系統(tǒng),。
我們的掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)設(shè)計(jì)用于從掩模對(duì)準(zhǔn)到鍵合對(duì)準(zhǔn)的快速簡(jiǎn)便轉(zhuǎn)換,。此外,可以使用用于壓印光刻的可選工具集,,例如UV-納米壓印光刻,,熱壓印或微接觸印刷。所有系統(tǒng)均支持原位對(duì)準(zhǔn)驗(yàn)證軟件,,以提高手動(dòng)操作系統(tǒng)的對(duì)準(zhǔn)精度和可重復(fù)性,。EVG620 NT / EVG6200 NT可從手動(dòng)到自動(dòng)基片處理,實(shí)現(xiàn)現(xiàn)場(chǎng)升級(jí),。此外,,所有掩模對(duì)準(zhǔn)器都支持EVG專有的NIL技術(shù),。如果您需要納米壓印設(shè)備,請(qǐng)?jiān)L問(wèn)我們的官網(wǎng),,或者直接聯(lián)系我們,。 HERCULES可以配置成處理彎曲,翹曲,,變薄或非SEMI標(biāo)準(zhǔn)形狀的晶片和基片,。
IQ Aligner工業(yè)自動(dòng)化功能:盒式磁帶/ SMIF / FOUP / SECS / GEM /薄,彎曲,,翹曲,,邊緣晶圓處理
晶圓直徑(基板尺寸):高達(dá)200毫米
對(duì)準(zhǔn)方式:
上側(cè)對(duì)準(zhǔn):≤±0.5 μm
底側(cè)對(duì)準(zhǔn):≤±1,0 μm
紅外校準(zhǔn):≤±2,0 μm /具體取決于基板材料
曝光設(shè)定:真空接觸/硬接觸/軟接觸/接近模式/彎曲模式
曝光選項(xiàng):間隔曝光/洪水曝光
系統(tǒng)控制
操作系統(tǒng):Windows
文件共享和備份解決方案/無(wú)限制 程序和參數(shù)
多語(yǔ)言用戶GUI和支持:CN,DE,,F(xiàn)R,,IT,JP,,KR
實(shí)時(shí)遠(yuǎn)程訪問(wèn),,診斷和故障排除
產(chǎn)能
全自動(dòng):第/一批生產(chǎn)量:每小時(shí)85片
全自動(dòng):吞吐量對(duì)準(zhǔn):每小時(shí)80片 IQ Aligner NT 光刻機(jī)系統(tǒng)使用零輔助橋接工具-雙基片,支持200mm和300mm尺寸的晶圓,。湖南光刻機(jī)推薦型號(hào)
EVG所有掩模對(duì)準(zhǔn)器都支持EVG專有的NIL技術(shù),。湖南光刻機(jī)美元報(bào)價(jià)
EVG6200 NT附加功能:
鍵對(duì)準(zhǔn)
紅外對(duì)準(zhǔn)
納米壓印光刻(NIL)
EVG6200 NT技術(shù)數(shù)據(jù):
曝光源
汞光源/紫外線LED光源
先進(jìn)的對(duì)準(zhǔn)功能
手動(dòng)對(duì)準(zhǔn)/原位對(duì)準(zhǔn)驗(yàn)證
自動(dòng)對(duì)準(zhǔn)
動(dòng)態(tài)對(duì)準(zhǔn)/自動(dòng)邊緣對(duì)準(zhǔn)
對(duì)準(zhǔn)偏移校正算法
EVG6200 NT產(chǎn)能:
全自動(dòng):第/一批生產(chǎn)量:每小時(shí)180片
全自動(dòng):吞吐量對(duì)準(zhǔn):每小時(shí)140片晶圓
晶圓直徑(基板尺寸):高達(dá)200毫米
對(duì)準(zhǔn)方式:
上側(cè)對(duì)準(zhǔn):≤±0.5 μm
底側(cè)對(duì)準(zhǔn):≤±1,0 μm
紅外校準(zhǔn):≤±2,0 μm /具體取決于基板材料
鍵對(duì)準(zhǔn):≤±2,0 μm
NIL對(duì)準(zhǔn):≤±3.0 μm
曝光設(shè)定:真空接觸/硬接觸/軟接觸/接近模式/彎曲模式
楔形補(bǔ)償:全自動(dòng)軟件控制
曝光選項(xiàng):間隔曝光/洪水曝光/扇區(qū)曝光
系統(tǒng)控制
操作系統(tǒng):Windows
文件共享和備份解決方案/無(wú)限制 程序和參數(shù)
多語(yǔ)言用戶GUI和支持:CN,DE,,F(xiàn)R,,IT,JP,,KR
實(shí)時(shí)遠(yuǎn)程訪問(wèn),,診斷和故障排除
工業(yè)自動(dòng)化功能:盒式磁帶/ SMIF / FOUP / SECS / GEM /薄,彎曲,,翹曲,,邊緣晶圓處理
納米壓印光刻技術(shù):SmartNIL 湖南光刻機(jī)美元報(bào)價(jià)
岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司一直專注于磁記錄、半導(dǎo)體,、光通訊生產(chǎn)及測(cè)試儀器的批發(fā),、進(jìn)出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關(guān)配套服務(wù),,國(guó)際貿(mào)易,、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,商務(wù)信息咨詢服務(wù),。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目,,經(jīng)相關(guān)部門(mén)批準(zhǔn)后方可開(kāi)展經(jīng)營(yíng)活動(dòng)】磁記錄、半導(dǎo)體,、光通訊生產(chǎn)及測(cè)試儀器的批發(fā),、進(jìn)出口,、傭金代理(拍賣除外)及其相關(guān)配套服務(wù),國(guó)際貿(mào)易,、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,,商務(wù)信息咨詢服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目,,經(jīng)相關(guān)部門(mén)批準(zhǔn)后方可開(kāi)展經(jīng)營(yíng)活動(dòng)】,,是一家儀器儀表的企業(yè),擁有自己**的技術(shù)體系,。目前我公司在職員工以90后為主,,是一個(gè)有活力有能力有創(chuàng)新精神的團(tuán)隊(duì),。公司以誠(chéng)信為本,,業(yè)務(wù)領(lǐng)域涵蓋磁記錄,半導(dǎo)體,,光通訊生產(chǎn),,測(cè)試儀器的批發(fā),我們本著對(duì)客戶負(fù)責(zé),,對(duì)員工負(fù)責(zé),,更是對(duì)公司發(fā)展負(fù)責(zé)的態(tài)度,爭(zhēng)取做到讓每位客戶滿意,。一直以來(lái)公司堅(jiān)持以客戶為中心,、磁記錄,半導(dǎo)體,,光通訊生產(chǎn),,測(cè)試儀器的批發(fā)市場(chǎng)為導(dǎo)向,重信譽(yù),,保質(zhì)量,,想客戶之所想,急用戶之所急,,全力以赴滿足客戶的一切需要,。