HERCULES®

■   全自動光刻跟/蹤系統(tǒng),，模塊化設(shè)計,，用于掩模和曝光,，集成了預(yù)處理和后處理能力

■   高產(chǎn)量的晶圓加工

■   **多8個濕法處理模塊以及多達(dá)24個額外烘烤,，冷卻和蒸汽填料板

■   基于EVG的IQ Aligner® 或者EVG®6200

NT技術(shù)進(jìn)行對準(zhǔn)和曝光

■   **的柜內(nèi)化學(xué)處理

■   支持連續(xù)操作模式(CMO)

EVG光刻機(jī)可選項有：

手動和自動處理

我們所有的自動化系統(tǒng)還支持手動基片和掩模加載功能，以便進(jìn)行過程評估,。此外,，該系統(tǒng)可以配置成處理彎曲，翹曲,，變薄或非SEMI標(biāo)準(zhǔn)形狀的晶片和基片,。各種晶圓卡盤設(shè)計毫無任何妥協(xié)，帶來**/大的工藝靈活性和基片處理能力,。我們的掩模對準(zhǔn)器配有機(jī)械或非接觸式光學(xué)預(yù)對準(zhǔn)器,，以確保**/佳的工藝能力和產(chǎn)量。Load＆Go選項可在自動化系統(tǒng)上提供超快的流程啟動,。 研發(fā)設(shè)備與EVG的**技術(shù)平臺無縫集成,，這些平臺涵蓋從研發(fā)到小規(guī)模和大批量生產(chǎn)的整個制造鏈。中芯國際光刻機(jī)試用

EVG620 NT或完全容納的EVG620

NT Gen2掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)配備了集成的振動隔離功能,，可在各種應(yīng)用中實現(xiàn)出色的曝光效果,，例如，對薄而厚的光刻膠進(jìn)行曝光,，對深腔進(jìn)行構(gòu)圖并形成可比的形貌,，以及對薄而易碎的材料（例如化合物半導(dǎo)體）進(jìn)行加工。此外,，半自動和全自動系統(tǒng)配置均支持EVG專有的SmartNIL技術(shù),。

EVG620 NT特征：

晶圓/基板尺寸從小到150 mm /

6''

系統(tǒng)設(shè)計支持光刻工藝的多功能性

易碎，薄或翹曲的多種尺寸的晶圓處理,，更換時間短

帶有間隔墊片的自動無接觸楔形補(bǔ)償序列 江西光刻機(jī)傳感器應(yīng)用EVG的CoverSpin TM旋轉(zhuǎn)蓋可降低光刻膠消耗,，并提高光刻膠涂層的均勻性。

光刻機(jī)軟件支持

基于Windows的圖形用戶界面的設(shè)計,，注重用戶友好性,，并可輕松引導(dǎo)操作員完成每個流程步驟。多語言支持,，單個用戶帳戶設(shè)置和集成錯誤記錄/報告和恢復(fù),，可以簡化用戶的日常操作。所有EVG系統(tǒng)都可以遠(yuǎn)程通信,。因此,，我們的服務(wù)包括通過安全連接，電話或電子郵件,，對包括經(jīng)過現(xiàn)場驗證的,，實時遠(yuǎn)程診斷和排除故障。EVG經(jīng)驗豐富的工藝工程師隨時準(zhǔn)備為您提供支持，這得益于我們分散的全球支持機(jī)構(gòu),，包括三大洲的潔凈室空間：歐洲 (HQ), 亞洲 (日本) 和

北美 (美國).

IQ Aligner®NT技術(shù)數(shù)據(jù)：

產(chǎn)能：

全自動：首/次生產(chǎn)量印刷：每小時200片

全自動：吞吐量對準(zhǔn)：每小時160片晶圓

工業(yè)自動化功能：盒式磁帶/ SMIF / FOUP / SECS / GEM /薄,，彎曲，翹曲,，晶圓邊緣處理

智能過程控制和數(shù)據(jù)分析功能（框架SW平臺）

用于過程和機(jī)器控制的集成分析功能

并行任務(wù)/排隊任務(wù)處理功能

設(shè)備和過程性能跟/蹤功能

智能處理功能

事/故和警報分析/智能維護(hù)管理和跟/蹤

晶圓直徑（基板尺寸）：高達(dá)300毫米

對準(zhǔn)方式：

頂部對準(zhǔn)：≤±0,25 μm

底側(cè)對準(zhǔn)：≤±0.5 μm

紅外對準(zhǔn)：≤±2,0 μm /取決于基材 了解客戶需求和有效的全球支持,，這是我們提供優(yōu)先解決方案的重要基礎(chǔ)。

EVG ® 120--光刻膠自動化處理系統(tǒng)

EVG ® 120是用于當(dāng)潔凈室空間有限,，需要生產(chǎn)一種緊湊的,，節(jié)省成本光刻膠處理系統(tǒng)。

新型EVG120通用和全自動光刻膠處理工具能夠處理各種形狀和尺寸達(dá)200 mm / 8“的基板,。新一代EVG120采用全新的超緊湊設(shè)計,，并帶有新開發(fā)的化學(xué)柜，可用于外部存儲化學(xué)品,，同時提供更高的通量能力,，針對大批量客戶需求進(jìn)行了優(yōu)化，并準(zhǔn)備在大批量生產(chǎn)（HVM）中使用EVG120為用戶提供了一套詳盡的好處,，這是其他任何工具所無法比擬的,，并保證了**/高的質(zhì)量各個應(yīng)用領(lǐng)域的標(biāo)準(zhǔn)，擁有成本卻非常低,。

EVG100光刻膠處理系統(tǒng)可以處理多種尺寸的基板，直徑從2寸到300 mm,。中芯國際光刻機(jī)試用

EVG610 掩模對準(zhǔn)系統(tǒng),，支持的晶圓尺寸：100 mm / 150 mm / 200 mm。中芯國際光刻機(jī)試用

       EV集團(tuán)（EVG）是面向MEMS,，納米技術(shù)和半導(dǎo)體市場的晶圓鍵合機(jī)和光刻設(shè)備的**供應(yīng)商,，***宣布已收到其制造設(shè)備和服務(wù)的***組合產(chǎn)品組合的多個訂單，這些產(chǎn)品和服務(wù)旨在滿足對晶圓的新興需求,，水平光學(xué)（WLO）和3D感應(yīng),。市場**的產(chǎn)品組合包括EVG®770自動UV-納米壓印光刻（UV-NIL）步進(jìn)器，用于步進(jìn)重復(fù)式主圖章制造,，用于晶圓級透鏡成型和堆疊的IQAligner®UV壓印系統(tǒng)以及EVG ®40NT自動測量系統(tǒng),，用于對準(zhǔn)驗證。EVG的WLO解決方案由該公司的NILPhotonics®能力中心提供支持,。

      使用** 欣的壓印光刻技術(shù)和鍵合對準(zhǔn)技術(shù)在晶圓級制造微透鏡,，衍射光學(xué)元件和其他光學(xué)組件可帶來諸多好處。這些措施包括通過高度并行的制造工藝降低擁有成本,，以及通過堆疊使**終器件的外形尺寸更小,。EVG是納米壓印光刻和微成型領(lǐng)域的先驅(qū)和市場***，擁有全球比較大的工具安裝基礎(chǔ)。 中芯國際光刻機(jī)試用

岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司擁有磁記錄,、半導(dǎo)體,、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進(jìn)出口,、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務(wù),，國際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,，商務(wù)信息咨詢服務(wù),。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項目，經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營活動】磁記錄,、半導(dǎo)體,、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進(jìn)出口,、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務(wù),，國際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,，商務(wù)信息咨詢服務(wù),。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項目，經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營活動】等多項業(yè)務(wù),，主營業(yè)務(wù)涵蓋磁記錄,，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn),，測試儀器的批發(fā),。公司目前擁有專業(yè)的技術(shù)員工，為員工提供廣闊的發(fā)展平臺與成長空間,，為客戶提供高質(zhì)的產(chǎn)品服務(wù),，深受員工與客戶好評。誠實,、守信是對企業(yè)的經(jīng)營要求,，也是我們做人的基本準(zhǔn)則。公司致力于打造***的磁記錄,，半導(dǎo)體,，光通訊生產(chǎn)，測試儀器的批發(fā),。公司憑著雄厚的技術(shù)力量,、飽滿的工作態(tài)度、扎實的工作作風(fēng),、良好的職業(yè)道德,，樹立了良好的磁記錄,，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn),，測試儀器的批發(fā)形象,，贏得了社會各界的信任和認(rèn)可。