微泰，傳輸閥 (I-MOTION),、I型轉(zhuǎn)換閥,、輸送閥、轉(zhuǎn)移閥應用于晶圓加工,，半導體加工,，可替代VAT閘閥。其特點是? 主體材料：鋁或不銹鋼? 緊湊型設(shè)計? 使用維修配件工具包易于維護? 應用：半導體系統(tǒng)中小于 450mm 晶圓的傳輸和處理室隔離,，傳輸閥 (I-MOTION),、輸送閥、轉(zhuǎn)移閥規(guī)格如下：閘門密封類型：傳輸閥 (I-MOTION),、右動轉(zhuǎn)換閥,、驅(qū)動方式：氣動、法蘭尺寸（內(nèi)徑） 32×222/46×236/50×336/56×500 ,、連接方式：焊接波紋管,、閘門密封 Viton O 形圈/硫化密封件、閥蓋密封：氟橡膠O型圈,、響應時間：≤ 2 sec,、工作壓力范圍：1×10-10 mbar to 1200 mbar、開始時的壓差：≤ 30 mbar,、開啟時壓差： ≤ 1200 mbar r,、泄漏率不銹鋼：< 1×10 -9Mbar?/秒/鋁：< 1×10 -5  mbar ?/秒、維護前可用次數(shù)： ≥1,000,000次、閥體溫度≤ 200 °,、機構(gòu)溫度≤ 80 °C,、烤爐溫度≤ 200 °C、材料：閥體(不銹鋼304)/驅(qū)動器(鋁6061陽極氧化),、安裝位置：任意,、操作壓力(N2)：4 ~ 7 bar。有中國臺灣Micron,、UMC,、AKT、新加坡Micron,Global Foundries,、馬來西亞的英菲尼亞半導體,、日本Micron、三星半導體和其它的設(shè)備使用業(yè)績,，上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰尽ｉl閥的結(jié)構(gòu)比較簡單,，一般由閥體,、閥座、閥桿,、閘板,、閥蓋、密封圈幾部分組成,。濺射閘閥氣動閥

微泰半導體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥,，氣動多位置閘閥，氣動多定位閘閥,，多定位插板閥,，Pneumatic Multi Position 其特點是1，全開和關(guān)閉位置使用帶有位置發(fā)射器的氣動電磁閥進行控制,；2,，所有位置控制都由控制器進行操作。1)控制類型-全開：高速閘門全開操作-全閉：高速閘門全閉操作-位置（POS.）控制：將閘門移動到設(shè)定的位置值,；2)操作時間-完全打開?完全關(guān)閉：<2秒（取決于速度控制器設(shè)置)-位置（POS,。）控制： 0%?100%工作，<MAX18秒（偏差： < ±0.5%）,。微泰氣動多位置閘閥,，氣動多定位閘閥，多定位插板閥,，Pneumatic Multi Position,，有中國臺灣Micron,、UMC、AKT,、新加坡Micron,Global Foundries,、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron,、三星半導體和其它的設(shè)備使用業(yè)績,。超大型真空閘閥英菲尼亞半導體閘閥形體簡單，結(jié)構(gòu)長度短,，制造工藝性好,，適用范圍廣。

微泰,，三(多)位閘閥,、三位閘閥、多位閘閥應用于? 蒸發(fā)?濺射? Diamond growth by MW-PACVD? PECV? PVD? 涂層? 蝕刻? 擴散?CVD（化學氣相沉積）等設(shè)備上,?？商娲鶹AT閘閥。其特點是*3個位置功能-閥門打開,閥門關(guān)閉,第3位置*設(shè)備可通過連接到閥門的9 Pin D-Sub來讀取閥門狀態(tài)*手動和氣動閥門組合*應用:需要壓力控制的任何其他過程*應用:需要壓力控制的地方,。三位閘閥,、多位閘閥規(guī)格如下：驅(qū)動方式：氣動、法蘭尺寸：2.5英寸~ 12英寸,、法蘭類型ISO, JIS, ASA, CF,、連接方式：焊接波紋管、閥門密封：氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM,、閥蓋密封：Viton O型圈、響應時間：≤ 2 sec,、操作壓力范圍：2.5? ~ 6? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar,，8? ~ 12? : 1×10-10 mbar to 1200 mbar 、開始時的壓差：≤ 30 mbar,、閘門的差動壓力：1.5? ~ 6? : ≤ 1400 mbar / 8? ~ 14? ≤ 1200 mbar,、泄漏率：< 1×10 -10 Mbar/秒、維護前可用次數(shù)：200,000次,、閥體溫度≤ 200 °,、機構(gòu)溫度≤ 60 °C、烤爐溫度≤ 150 °C,、材料：閥體(不銹鋼304)/驅(qū)動器(鋁6061陽極氧化),、安裝位置：任意、操作壓力(N2)：4 ~ 7 bar,。有中國臺灣Micron,、UMC,、AKT、新加坡Micron,Global Foundries,、馬來西亞的英菲尼亞半導體,、日本Micron、三星半導體和其它的設(shè)備使用業(yè)績

微泰半導體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥Heating gate valve,，加熱插板閥,，加熱閘閥，加熱器的加熱溫度為180-200度（可通過控制器設(shè)置溫度）-規(guī)格：適用雙金屬（達到200度時,，斷電后溫度下降后重新啟動）,，應用于去除粉末/氣體設(shè)備。微泰,，加熱閘閥應用于? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD? PECV? PVD? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴散）?CVD（化學氣相沉積）等設(shè)備上,。加熱閘閥規(guī)格如下：驅(qū)動方式：手動或氣動、法蘭尺寸：1.5英寸~ 12英寸,、法蘭類型：ISO,、JIS、ASA,、CF,、連接方式：焊接波紋管、閥門密封：氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM,、閥蓋密封：氟橡膠O型圈,、響應時間：≤ 2 sec、操作壓力范圍：1.5? ~ 6? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar,，8? ~ 12? : 1×10-10 mbar to 1200 mbar ,、開始時的壓差：≤ 30 mbar、閘門的差動壓力：1.5? ~ 6? : ≤ 1400 mbar / 8? ~ 12 ≤ 1200 mbar,、泄漏率：< 1×10 -10 Mbar/秒,、維護前可用次數(shù)：200,000次、,、安裝位置：任意,、操作壓力(N2)：4 ~ 7 bar。有中國臺灣Micron,、UMC,、AKT、新加坡Micron,Global Foundries,、馬來西亞的英菲尼亞半導體,、日本Micron、三星半導體和其它的設(shè)備使用業(yè)績,。閘閥（gate valve）是一個啟閉件閘板,，閘板的運動方向與流體方向相垂直,，閘閥只能作全開和全關(guān)。

微泰,，大閘閥,、大型閘閥應用于? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴散）?CVD（化學氣相沉積）等設(shè)備上,?？商娲鶹AT閘閥。微泰大閘閥,、大型閘閥其特點是*陶瓷球機構(gòu)產(chǎn)生的低顆粒*使用維修配件工具包易于維護*應用:用于研發(fā)和工業(yè)的隔離閥,。大閘閥、大型閘閥規(guī)格如下：驅(qū)動方式：氣動,、法蘭尺寸（內(nèi)徑）：16? ~ 30?,、 法蘭型：ISO,、JIS,、ASA 、饋通：Viton O-Rin,、閥門密封：氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM,、閥蓋密封：氟橡膠O型圈、響應時間：可調(diào)節(jié),、工作壓力范圍：1×10-8 mbar to 1000 mbar 、維護前可用次數(shù)：10,000 ~ 100,000次,、開啟時壓差 ≤ 30 mba,、泄漏率 < 1×10 -9  mbar ?/sec、閥體溫度≤ 150 °,、機構(gòu)溫度≤ 80 °C,、烤爐溫度≤ 150 °C、材料：閥體(不銹鋼304或316L)/驅(qū)動器(鋁6061陽極氧化),、安裝位置：任意、操作壓力(N2)：6~ 8 bar,。有中國臺灣Micron,、UMC、AKT,、新加坡Micron,Global Foundries,、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron,、三星半導體和其它的設(shè)備使用業(yè)績,，上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰尽?真空閘閥的設(shè)計具有獨特的特征,。它們具有堅固的結(jié)構(gòu),，通常使用不銹鋼或鋁等材料來抵抗真空條件。屏蔽閘閥SHIELD GATE VALVE

微泰閘閥可替代HVA閘閥,、VAT閘閥,。濺射閘閥氣動閥

微泰半導體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥，控制系統(tǒng)閘閥,，控制閘閥,、控制系統(tǒng)插板閥、控制系統(tǒng)閘閥具有可隔離的閘閥,，以滑動方式操作,，可以在高真空環(huán)境中實現(xiàn)精確的壓力控制。如半導體等高真空工藝應用,?？刂葡到y(tǒng)閘閥是自動控制到用戶指定的值，通過控制器和步進電機保持一致的真空壓力,。微泰半導體閘閥被廣泛應用于 Evaporation（蒸發(fā)）,、Sputtering（濺射）、Diamond growth by MW-PACVD（通過 MW-PACVD 生長金剛石）,、PECV,、PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）,、Coating（涂層）,、Etch（蝕刻）、Diffusion（擴散）,、CVD（化學氣相沉積）等設(shè)備上,，可替代 HVA 閘閥、VA T閘閥,。有中國臺灣Micron,、UMC、AKT,、新加坡Micron,Global Foundries,、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron,、三星半導體和其它的設(shè)備使用業(yè)績,。該閘閥由上海安宇泰環(huán)保科技有限公司提供,。濺射閘閥氣動閥