微泰,，大閘閥,、大型閘閥應(yīng)用于? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴(kuò)散）?CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上,?？商娲鶹AT閘閥。微泰大閘閥,、大型閘閥其特點(diǎn)是*陶瓷球機(jī)構(gòu)產(chǎn)生的低顆粒*使用維修配件工具包易于維護(hù)*應(yīng)用:用于研發(fā)和工業(yè)的隔離閥,。大閘閥、大型閘閥規(guī)格如下：驅(qū)動方式：氣動,、法蘭尺寸（內(nèi)徑）：16? ~ 30?,、 法蘭型：ISO,、JIS、ASA ,、饋通：Viton O-Rin,、閥門密封：氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM、閥蓋密封：氟橡膠O型圈,、響應(yīng)時間：可調(diào)節(jié),、工作壓力范圍：1×10-8 mbar to 1000 mbar 、維護(hù)前可用次數(shù)：10,000 ~ 100,000次,、開啟時壓差 ≤ 30 mba,、泄漏率 < 1×10 -9  mbar ?/sec、閥體溫度≤ 150 °,、機(jī)構(gòu)溫度≤ 80 °C,、烤爐溫度≤ 150 °C、材料：閥體(不銹鋼304或316L)/驅(qū)動器(鋁6061陽極氧化),、安裝位置：任意,、操作壓力(N2)：6~ 8 bar。有中國臺灣Micron,、UMC,、AKT、新加坡Micron,Global Foundries,、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體,、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績,，上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰尽?閘閥多應(yīng)用于石油,、天然氣等輸送管線上,，在半導(dǎo)體加工工程設(shè)備上也多用閘閥。鋁閘閥蝶閥

微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥,，控制系統(tǒng)閘閥,，控制閘閥、控制系統(tǒng)插板閥,、控制系統(tǒng)閘閥具有可隔離的閘閥,，以滑動方式操作，可以在高真空環(huán)境中實(shí)現(xiàn)精確的壓力控制,。如半導(dǎo)體等高真空工藝應(yīng)用?？刂葡到y(tǒng)閘閥是自動控制到用戶指定的值,，通過控制器和步進(jìn)電機(jī)保持一致的真空壓力。微泰半導(dǎo)體閘閥被廣泛應(yīng)用于 Evaporation（蒸發(fā)）、Sputtering（濺射）,、Diamond growth by MW-PACVD（通過 MW-PACVD 生長金剛石）,、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群,、卷對卷）,、Coating（涂層）、Etch（蝕刻）,、Diffusion（擴(kuò)散）,、CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上，可替代 HVA 閘閥,、VA T閘閥,。有中國臺灣Micron、UMC,、AKT,、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體,、日本Micron,、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績。該閘閥由上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰咎峁?。HVA閘閥角控制閥閘閥不易產(chǎn)生水錘現(xiàn)象。原因是關(guān)閉時間長,。

微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥,，蝶閥，Butterfly Valve產(chǎn)品范圍：DN40 ~ 50 -壓力控制-使用步進(jìn)電機(jī)- Product Range : DN40 ~ 50- Pressure Controlled- Using Stepper Motor,，- Compatible with VAT Butterfly Control Valve, series61.2 - Application Process : PVD, CVD, Etching, Diffusion-使用步進(jìn)電機(jī)和控制器執(zhí)行驅(qū)動,。-通過步進(jìn)電機(jī)/控制器精確定位，確保精確的壓力控制,。-兼容VAT蝶閥控制器,，系列61.2，-應(yīng)用工藝： PVD,，CVD,，蝕刻，擴(kuò)散,。微泰蝶閥Butterfly Valve有中國臺灣Micron,、UMC、AKT,、新加坡Micron,Global Foundries,、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體,、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績,。

微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥,，一、控制系統(tǒng)閘閥,?？刂葡到y(tǒng)閘閥具有可隔離的閘閥，以滑動方式操作,，可以在高真空環(huán)境中實(shí)現(xiàn)精確的壓力控制,。如半導(dǎo)體等高真空工藝應(yīng)用?？刂葡到y(tǒng)閘閥是自動控制到用戶指定的值,，通過控制器和步進(jìn)電機(jī)保持一致的真空壓力。二,、蝶閥,。該蝶閥具有緊湊的設(shè)計(jì)和堅(jiān)固的不銹鋼結(jié)構(gòu)，通過閘板旋轉(zhuǎn)操作,。蝶閥可以實(shí)現(xiàn)精確的壓力控制和低真空環(huán)境,。例如半導(dǎo)體和工業(yè)過程。蝶閥通過控制器和步進(jìn)電機(jī)自動控制到用戶指定的值,，保持一致的真空壓力,。三、多定位閘閥,。多定位閘閥是一種利用壓縮空氣或氮?dú)饪刂崎l閥位置的閥門,。它在閥門的頂部有一個內(nèi)置控制器，可以在本地和遠(yuǎn)程模式下操作,。它還具有緊急關(guān)閉功能,，以應(yīng)對泵停止或CDA壓縮干空氣丟失的情況。其特點(diǎn)之一是能夠遠(yuǎn)程檢查閥門狀態(tài),，并可用于具有不同法蘭類型的各種工藝,。多定位閘閥具有可隔離的閘閥，以滑動方式操作,，適用于需要壓力控制的所有加工領(lǐng)域,。采用手動調(diào)節(jié)控制裝置控制，用戶可直接控制閘門的開啟和關(guān)閉,，以調(diào)節(jié)壓力,。有中國臺灣Micron、UMC,、AKT,、新加坡Micron,Global Foundries,、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron,、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績。閘閥體內(nèi)設(shè)一個與介質(zhì)流向成垂直方向的平面閘板,，靠這一閘板的升降來開啟或關(guān)閉介質(zhì)的通路,。

微泰半導(dǎo)體閘閥具有諸多特點(diǎn)：首先，它已向中國臺灣的 Micron,、UMC,、AKT 等，新加坡的 Micron,、Global Foundries,，馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體，日本的 Micron,、三星半導(dǎo)體等眾多設(shè)備廠批量供貨,，且品質(zhì)得到認(rèn)可，同時完成了對半導(dǎo)體 Utility 設(shè)備和批量生產(chǎn)設(shè)備的驗(yàn)證,。其次,，該閘閥采用陶瓷球機(jī)構(gòu)，具有良好的抗沖擊和震動性能,，保證可使用 25 萬次,，且檢修方便，維護(hù)成本較低,。它無 Particle 產(chǎn)生,，采用陶瓷球不會有腐蝕和顆粒產(chǎn)生。此外,，它還具有屏蔽保護(hù)功能,，閘閥閥體與擋板之間的距離小于 1mm，能有效防止粉末侵入閥內(nèi),，壽命為半永久性,。其保護(hù)環(huán)設(shè)計(jì)也很獨(dú)特，Protecrion Ring 通過流速上升設(shè)計(jì)防止粉末凝固,，并通過打磨（研磨）工藝防止粉末堆積,。微泰半導(dǎo)體閘閥被廣泛應(yīng)用于 Evaporation（蒸發(fā)）、Sputtering（濺射）,、Diamond growth by MW-PACVD（通過 MW-PACVD 生長金剛石）,、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群,、卷對卷）,、Coating（涂層）,、Etch（蝕刻）、Diffusion（擴(kuò)散）,、CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上,，可替代 HVA 閘閥、VA T閘閥,。該閘閥由上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰咎峁Ｕ婵臻l閥的設(shè)計(jì)具有獨(dú)特的特征,。它們具有堅(jiān)固的結(jié)構(gòu),，通常使用不銹鋼或鋁等材料來抵抗真空條件。閘閥三星半導(dǎo)體

微泰轉(zhuǎn)移閥是安裝在半導(dǎo)體PVDCVD設(shè)備工藝模塊和工藝室之間的閥門系統(tǒng),。鋁閘閥蝶閥

微泰半導(dǎo)體閘閥的工作原理主要是通過閘板的升降來控制流體的通斷,。當(dāng)閘板升起時，閘閥打開,，允許流體通過,；當(dāng)閘板降下時，閘閥關(guān)閉,，阻止流體通過,。在具體工作中，它利用各種機(jī)構(gòu)和設(shè)計(jì)來實(shí)現(xiàn)精確的控制和可靠的密封,，以滿足半導(dǎo)體設(shè)備中對工藝控制的要求,。微泰半導(dǎo)體閘閥被廣泛應(yīng)用于 Evaporation（蒸發(fā)）、Sputtering（濺射）,、Diamond growth by MW-PACVD（通過 MW-PACVD 生長金剛石）,、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群,、卷對卷）,、Coating（涂層）、Etch（蝕刻）,、Diffusion（擴(kuò)散）,、CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上，可替代 HVA 閘閥,、VA T閘閥,。有中國臺灣Micron、UMC,、AKT,、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron,、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績,。該閘閥由上海安宇泰環(huán)保科技有限公司提供,。鋁閘閥蝶閥