微泰,,控制系統(tǒng)閘閥應(yīng)用于? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群,、卷對卷)? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴(kuò)散)?CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上,??商娲鶹AT閘閥,。其特點(diǎn)是? 主體材質(zhì):不銹鋼? 緊湊型設(shè)計(jì)? 帶步進(jìn)電機(jī)的集成壓力控制器? 應(yīng)用:需要壓力控制和隔離的地方??刂葡到y(tǒng)閘閥規(guī)格如下:法蘭尺寸(ID):1.5英寸~ 10英寸,、材料:閥體(STS304)/機(jī)構(gòu)STS304、STS420,、饋通:旋轉(zhuǎn)饋通,、執(zhí)行器:步進(jìn)電機(jī)、氦泄漏率1X10-9 mbar.l/sec,、壓力范圍:1×10-8 mbar to 1.4 bar,、閘門上的壓差≤1.4bar、維護(hù)前可用次數(shù):100,000次,、閥體溫度≤ 150 °,、控制器≤35°C、安裝位置:任意,、接口RS232,、RS485、Devicenet,、Profibus,、EtherCat。有中國臺灣Micron,、UMC,、AKT、新加坡Micron,Global Foundries,、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體,、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績,,上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰尽il閥流動阻力小,。閥體內(nèi)部介質(zhì)通道是直通的,,介質(zhì)成直線流動,流動阻力小,。小型閘閥TRANSFER VALVE
微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥,,三重防護(hù)閘閥應(yīng)用于? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴(kuò)散)?CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上,。有-屏蔽閘閥:防止氣體和粉末進(jìn)入閥內(nèi)的隔離閥,,-三重防護(hù)閘閥:屏蔽1和2+保護(hù)環(huán)的3重隔離系統(tǒng),還有步進(jìn)電機(jī)閘閥和鋁閘閥,,屏蔽門閥:產(chǎn)品范圍:2.5~12英寸?高壓/超高壓都可用?維護(hù)前可用次數(shù):25萬次?響應(yīng)時間:0.2秒~3秒;三級預(yù)防閘閥,三重防護(hù)閘閥:產(chǎn)品范圍:4~10英寸?高壓/超高壓都可用?維護(hù)前可用次數(shù):25萬次?包括屏蔽功能,;步進(jìn)電機(jī)閘閥:產(chǎn)品范圍:2.5~10英寸?高壓/超高壓都可用?維護(hù)前可用次數(shù):25萬次?包括屏蔽功能,;步進(jìn)電機(jī)閘閥;鋁閘閥:產(chǎn)品范圍:2.5~12英寸?高壓氣動?維護(hù)前可用次數(shù):10萬次?響應(yīng)時間:0.2秒~3秒,;有中國臺灣Micron,、UMC、AKT,、新加坡Micron,Global Foundries,、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron,、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績,,可替代HVA閘閥、VAT閘閥,。上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰尽R射閘閥SHIELD GATE VALVE閘閥的結(jié)構(gòu)比較簡單,,一般由閥體,、閥座、閥桿,、閘板,、閥蓋、密封圈幾部分組成,。
微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥,,鋁閘閥(AL Gate Valve)-產(chǎn)品范圍:1.5英寸~10英寸-12英寸可生產(chǎn)的產(chǎn)品尺寸,閥體材料:鋁,、氣動,、緊湊設(shè)計(jì)、重量輕,。閘門,,閥蓋密封:Viton O-Ring使用次數(shù):100000次,易于維護(hù),,低顆粒(陶瓷球機(jī)構(gòu)),。- Body Material : Aluminum - Pneumatic - Compact Design- Light of weight - Gate, Bonnet Seal : Viton O-Ring - Cycles until first service : 100,000 - Easy Maintenance - Low Particle (Ceramic Ball Mechanism),微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥有中國臺灣Micron,、UMC,、AKT、新加坡Micron,Global Foundries,、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體,、日本Micron,、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績,可替代HVA閘閥,、VAT閘閥,。
微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥Heating gate valve,加熱插板閥,,加熱閘閥,,加熱器的加熱溫度為180-200度(可通過控制器設(shè)置溫度)-規(guī)格:適用雙金屬(達(dá)到200度時,斷電后溫度下降后重新啟動),,應(yīng)用于去除粉末/氣體設(shè)備,。微泰,加熱閘閥應(yīng)用于? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD? PECV? PVD? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴(kuò)散)?CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上,。加熱閘閥規(guī)格如下:驅(qū)動方式:手動或氣動,、法蘭尺寸:1.5英寸~ 12英寸、法蘭類型:ISO,、JIS,、ASA、CF,、連接方式:焊接波紋管,、閥門密封:氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM、閥蓋密封:氟橡膠O型圈,、響應(yīng)時間:≤ 2 sec,、操作壓力范圍:1.5? ~ 6? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar,8? ~ 12? : 1×10-10 mbar to 1200 mbar ,、開始時的壓差:≤ 30 mbar,、閘門的差動壓力:1.5? ~ 6? : ≤ 1400 mbar / 8? ~ 12 ≤ 1200 mbar、泄漏率:< 1×10 -10 Mbar/秒,、維護(hù)前可用次數(shù):200,000次,、、安裝位置:任意,、操作壓力(N2):4 ~ 7 bar,。有中國臺灣Micron、UMC,、AKT,、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體,、日本Micron,、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績。真空閘閥廣泛應(yīng)用于各個行業(yè),,包括半導(dǎo)體制造,、研發(fā),、分析類儀器和真空鍍膜。
微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥,有氣動多位置閘閥(氣動多定位閘閥、多定位插板閥,、Pneumatic Multi Position),、氣動(鎖定)閘閥和手動(鎖定)閘閥,蝶閥,,Butterfly Valve,,步進(jìn)電機(jī)插板閥Stepper Motor Gate Valve,加熱插板閥(加熱閘閥Heating gate valve),,鋁閘閥(AL Gate Valve),,三重防護(hù)閘閥,應(yīng)用于? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群,、卷對卷)? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴(kuò)散)?CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上,。有中國臺灣Micron、UMC,、AKT,、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體,、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績,。高壓閘閥結(jié)構(gòu)簡單,,制造和維修比較方便。工作行程小,,啟閉時間短,。密封性好,密封面間磨擦力小,,壽命較長,。超大型真空閘閥插板閥
高壓閘閥只許介質(zhì)單向流動,安裝時有方向性,。它的結(jié)構(gòu)長度大于閘閥,,同時流體阻力大。小型閘閥TRANSFER VALVE
半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的解決方案,,真空插板閥品牌—微泰,。控制系統(tǒng)閥門是安裝在半導(dǎo)體? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群,、卷對卷)? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴(kuò)散)?CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備中的主要閥門,??刂葡到y(tǒng)閥門起到調(diào)節(jié)腔內(nèi)壓力的作用,通過控制系統(tǒng)自動調(diào)節(jié)閘板的開啟和關(guān)閉,。精確控制腔內(nèi)壓力的閥門分為三類:控制系統(tǒng)閘閥,、蝶閥、多定位閘閥,??刂葡到y(tǒng)和蝶閥使用步進(jìn)電機(jī)操作,而多定位閘閥,、多位置閘閥使用氣動控制操作,。有中國臺灣Micron、UMC,、AKT,、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體,、日本Micron,、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績。小型閘閥TRANSFER VALVE