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HV閘閥三星半導(dǎo)體

來源: 發(fā)布時間:2024-06-27

微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥,,晶圓輸送閥Transfer Valve,,傳輸閥,、轉(zhuǎn)換閥、輸送閥,、轉(zhuǎn)移閥是安裝在半導(dǎo)體PVDCVD設(shè)備工藝模塊和工藝室之間的閥門系統(tǒng),。采用L型輸送閥L-motion防止產(chǎn)生微粒(Particle),,無需從設(shè)備上拆卸閥門,即可更換閘門和O形圈,。大量采用缸套運動導(dǎo)軌Liner (motion guide),,實現(xiàn)高精度、高耐用性.微泰晶圓輸送閥L型輸送閥L-motion,Transfer Valve,,傳輸閥,、轉(zhuǎn)換閥、輸送閥,、轉(zhuǎn)移閥Butterfly Valve有中國臺灣Micron,、UMC、AKT,、新加坡Micron,Global Foundries,、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron,、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績,。這些真空閥可以手動、氣動或電子方式驅(qū)動,,從而可以根據(jù)具體應(yīng)用進(jìn)行多功能控制,。HV閘閥三星半導(dǎo)體

閘閥

微泰,三(多)位閘閥,、三位閘閥、多位閘閥應(yīng)用于? 蒸發(fā)?濺射? Diamond growth by MW-PACVD? PECV? PVD? 涂層? 蝕刻? 擴(kuò)散?CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上,??商娲鶹AT閘閥。其特點是*3個位置功能-閥門打開,閥門關(guān)閉,第3位置*設(shè)備可通過連接到閥門的9 Pin D-Sub來讀取閥門狀態(tài)*手動和氣動閥門組合*應(yīng)用:需要壓力控制的任何其他過程*應(yīng)用:需要壓力控制的地方,。三位閘閥,、多位閘閥規(guī)格如下:驅(qū)動方式:氣動、法蘭尺寸:2.5英寸~ 12英寸,、法蘭類型ISO, JIS, ASA, CF,、連接方式:焊接波紋管、閥門密封:氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM,、閥蓋密封:Viton O型圈,、響應(yīng)時間:≤ 2 sec、操作壓力范圍:2.5? ~ 6? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar,,8? ~ 12? : 1×10-10 mbar to 1200 mbar ,、開始時的壓差:≤ 30 mbar、閘門的差動壓力:1.5? ~ 6? : ≤ 1400 mbar / 8? ~ 14? ≤ 1200 mbar,、泄漏率:< 1×10 -10 Mbar/秒,、維護(hù)前可用次數(shù):200,000次,、閥體溫度≤ 200 °、機(jī)構(gòu)溫度≤ 60 °C,、烤爐溫度≤ 150 °C,、材料:閥體(不銹鋼304)/驅(qū)動器(鋁6061陽極氧化)、安裝位置:任意,、操作壓力(N2):4 ~ 7 bar,。有中國臺灣Micron、UMC,、AKT,、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體,、日本Micron,、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績HVA閘閥L型轉(zhuǎn)移閥閘閥不易產(chǎn)生水錘現(xiàn)象。原因是關(guān)閉時間長,。

HV閘閥三星半導(dǎo)體,閘閥

微泰半導(dǎo)體閘閥具有獨特的特點:其插板閥主滑閥采用球機(jī)構(gòu)方式,,并且在量產(chǎn)工藝設(shè)備上經(jīng)過了性能驗證。該閘閥由半永久性鋼球陶瓷和板簧組成,,陶瓷與金屬接觸驅(qū)動時不會產(chǎn)生顆粒,。目前已向中國臺灣的 Micron、UMC,、AKT,,新加坡的 Micron、Global Foundries,,馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體,,日本的 Micron、三星半導(dǎo)體等眾多設(shè)備廠批量供貨,,且品質(zhì)得到認(rèn)可,,同時也完成了對半導(dǎo)體 Utility 設(shè)備和批量生產(chǎn)設(shè)備的驗證。與其他廠家閘閥的金屬與金屬接觸驅(qū)動會產(chǎn)生大量顆粒不同,,微泰半導(dǎo)體閘閥采用鋼陶瓷球,,在與金屬摩擦?xí)r不會損壞,且金屬與陶瓷球之間不會產(chǎn)生 Particle,。半永久板簧(SUS 鋼板)的應(yīng)用確保了閥門驅(qū)動的同步性,,同時還采用了固定球?qū)蚱骱弯撎沾伞N⑻┌雽?dǎo)體閘閥廣泛應(yīng)用于 Evaporation(蒸發(fā)),、Sputtering(濺射),、Diamond growth by MW-PACVD(通過 MW-PACVD 生長金剛石)、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群,、卷對卷),、Coating(涂層)、Etch(蝕刻),、Diffusion(擴(kuò)散),、CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上,可替代 HVIA閘閥,、VAT 閘閥,。此外,該閘閥由上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰咎峁?。

微泰半導(dǎo)體閘閥具有諸多特點:首先,它已向中國臺灣的 Micron,、UMC,、AKT 等,新加坡的 Micron,、Global Foundries,,馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體,日本的 Micron,、三星半導(dǎo)體等眾多設(shè)備廠批量供貨,,且品質(zhì)得到認(rèn)可,同時完成了對半導(dǎo)體 Utility 設(shè)備和批量生產(chǎn)設(shè)備的驗證,。其次,,該閘閥采用陶瓷球機(jī)構(gòu),具有良好的抗沖擊和震動性能,,保證可使用 25 萬次,,且檢修方便,維護(hù)成本較低,。它無 Particle 產(chǎn)生,采用陶瓷球不會有腐蝕和顆粒產(chǎn)生,。此外,,它還具有屏蔽保護(hù)功能,閘閥閥體與擋板之間的距離小于 1mm,,能有效防止粉末侵入閥內(nèi),,壽命為半永久性。其保護(hù)環(huán)設(shè)計也很獨特,,Protecrion Ring 通過流速上升設(shè)計防止粉末凝固,,并通過打磨(研磨)工藝防止粉末堆積。微泰半導(dǎo)體閘閥被廣泛應(yīng)用于 Evaporation(蒸發(fā))、Sputtering(濺射),、Diamond growth by MW-PACVD(通過 MW-PACVD 生長金剛石),、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群,、卷對卷),、Coating(涂層)、Etch(蝕刻),、Diffusion(擴(kuò)散),、CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上,可替代 HVA 閘閥,、VA T閘閥,。該閘閥由上海安宇泰環(huán)保科技有限公司提供,。非金屬材料高壓閘閥有陶瓷閥門,、玻璃閥門、塑料閥門,。

HV閘閥三星半導(dǎo)體,閘閥

微泰,,大閘閥、大型閘閥應(yīng)用于? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群,、卷對卷)? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴(kuò)散)?CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上,。可替代VAT閘閥,。微泰大閘閥,、大型閘閥其特點是*陶瓷球機(jī)構(gòu)產(chǎn)生的低顆粒*使用維修配件工具包易于維護(hù)*應(yīng)用:用于研發(fā)和工業(yè)的隔離閥。大閘閥,、大型閘閥規(guī)格如下:驅(qū)動方式:氣動,、法蘭尺寸(內(nèi)徑):16? ~ 30?、 法蘭型:ISO,、JIS,、ASA 、饋通:Viton O-Rin,、閥門密封:氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM,、閥蓋密封:氟橡膠O型圈、響應(yīng)時間:可調(diào)節(jié),、工作壓力范圍:1×10-8 mbar to 1000 mbar ,、維護(hù)前可用次數(shù):10,000 ~ 100,000次、開啟時壓差 ≤ 30 mba,、泄漏率 < 1×10 -9  mbar ?/sec,、閥體溫度≤ 150 °、機(jī)構(gòu)溫度≤ 80 °C、烤爐溫度≤ 150 °C,、材料:閥體(不銹鋼304或316L)/驅(qū)動器(鋁6061陽極氧化),、安裝位置:任意、操作壓力(N2):6~ 8 bar,。有中國臺灣Micron,、UMC、AKT,、新加坡Micron,Global Foundries,、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron,、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績,,上海安宇泰環(huán)保科技有限公司,。 高壓閘閥,,屬于強(qiáng)制密封式閥門,所以在閥門關(guān)閉時,,必須向閘板施加壓力,,以強(qiáng)制密封面不泄漏。蒸發(fā)閘閥手動閥

閘閥(gate valve)是一個啟閉件閘板,,閘板的運動方向與流體方向相垂直,,閘閥只能作全開和全關(guān)。HV閘閥三星半導(dǎo)體

微泰,,鋁閘閥應(yīng)用于? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群,、卷對卷)? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴(kuò)散)?CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上。期特點是*不論什么工藝的設(shè)備都可以使用*由半永久性陶瓷球和彈簧組成*應(yīng)用:隔離泵,。鋁閘閥規(guī)格如下:驅(qū)動方式:手動,、法蘭尺寸:1.5英寸~ 10英寸、閥體:AL6061 (Anodizing),、機(jī)械裝置:AL6061 (Anodizing),、閥門:O型圈(VITON)、真空密封:O型圈(VITON),、響應(yīng)時間≤ 3 sec,、驅(qū)動器:氣缸、操作泄漏率< 1×10-10 mbar ?/sec,、壓力范圍:< 1×10-10 mbar ?/sec、開始時的壓差:≤ 30 mbar,、初次維護(hù)前可用次數(shù)100,000次,、閥體溫度≤ 120 °執(zhí)行機(jī)構(gòu)溫度≤ 60 °C、安裝位置:任意、操作壓力(N2):4 ~ 7 bar,。有中國臺灣Micron,、UMC、AKT,、新加坡Micron,Global Foundries,、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron,、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績,。可替代VAT閥門,。HV閘閥三星半導(dǎo)體