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蝕刻閘閥ALUMINUM GATE VALVE

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2024-08-11

微泰的傳輸閥、轉(zhuǎn)換閥,、輸送閥、轉(zhuǎn)移閥是安裝在半導(dǎo)體 PVD CVD 設(shè)備工藝模塊和工藝室之間的閥門系統(tǒng),,起著將工藝模塊中的晶圓轉(zhuǎn)移到工藝室的關(guān)鍵作用,,就像一條溝槽。這些閥門能極大程度地減少閘板開閉時(shí)造成的真空壓力變化,,使腔室內(nèi)的真空壓力得以穩(wěn)定維持,。負(fù)責(zé)門控半導(dǎo)體晶圓轉(zhuǎn)移的傳輸閥、轉(zhuǎn)換閥,、輸送閥,、轉(zhuǎn)移閥分為 I 型和 L 型兩種。其產(chǎn)品范圍包括多種尺寸規(guī)格,,如 32 x 222,、46 x 236、50 x 336,、56 x 500 等,。維護(hù)前使用周期可達(dá) 100 萬(wàn)次,響應(yīng)時(shí)間為 2 秒,,并可根據(jù)客戶要求定制法蘭,。這些轉(zhuǎn)移閥產(chǎn)品有鋁制或不銹鋼制兩種,用于傳輸晶圓小于 450 毫米的半導(dǎo)體系統(tǒng)和隔離工藝室,。I 型的特點(diǎn)是葉片能在垂直方向上快速移動(dòng),,保證腔室壓力完美維持,它采用具有 LM 導(dǎo)向系統(tǒng)和單連桿的內(nèi)部機(jī)構(gòu),,確保高耐用性和長(zhǎng)壽命,。L 型轉(zhuǎn)移閥產(chǎn)品則設(shè)計(jì)緊湊,,易于維護(hù)。I 型和 L 型轉(zhuǎn)移閥在閘門開啟和關(guān)閉過(guò)程中能極大限度地減少振動(dòng),,且對(duì)溫度變化非常穩(wěn)定,,能確保較長(zhǎng)的使用壽命。此外,,它們即使長(zhǎng)時(shí)間使用,,產(chǎn)生的顆粒也很少,能避免晶圓缺陷和主器件污染,。微泰不斷創(chuàng)新,,在壓力控制和控制閥制造方面持續(xù)努力,專注于真空閘閥的研發(fā),。微泰轉(zhuǎn)移閥是安裝在半導(dǎo)體PVDCVD設(shè)備工藝模塊和工藝室之間的閥門系統(tǒng),。蝕刻閘閥ALUMINUM GATE VALVE

閘閥

微泰高壓閘閥可以應(yīng)用于多種設(shè)備,如蒸發(fā),、濺射,、金剛石生長(zhǎng)、PECV,、PVD集群,、卷對(duì)卷、涂層,、蝕刻,、擴(kuò)散和CVD等。它具有陶瓷球機(jī)構(gòu)產(chǎn)生的低顆粒和易于維護(hù)等特點(diǎn),,可替代VAT閘閥,。該閥門的規(guī)格包括手動(dòng)或氣動(dòng)驅(qū)動(dòng)方式、1.5英寸至14英寸的法蘭尺寸,、CF法蘭類型,、焊接波紋管連接方式、氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM閥門密封,、氟橡膠O型圈閥蓋密封,、≤2秒響應(yīng)時(shí)間、1.5?至6?的操作壓力范圍為1×10-10 mbar至1400 mbar,,8?至14?的操作壓力范圍為1×10-10 mbar至1200 mbar,、≤30 mbar的開始時(shí)壓差、≤1400 mbar的6?以下閘門差動(dòng)壓力和≤1200 mbar的8?至14?閘門差動(dòng)壓力,、<1×10 -10 Mbar/秒的泄漏率,、250,000次維護(hù)前可用次數(shù)、閥體溫度≤200°,、機(jī)構(gòu)溫度≤80°C,、烤爐溫度≤150°C,、閥體不銹鋼304或316L和驅(qū)動(dòng)器鋁6061陽(yáng)極氧化、任意安裝位置和4至7 bar的N2操作壓力,。此外,,微泰高壓閘閥已在中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC,、AKT,、新加坡Micron,Global Foundries、馬來(lái)西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體,、日本Micron,、三星半導(dǎo)體和其他設(shè)備上得到應(yīng)用。如果您需要了解更多關(guān)于微泰高壓閘閥的信息,,請(qǐng)聯(lián)系上海安宇泰環(huán)保科技有限公司,。Etch閘閥SHIELD GATE VALVE高壓閘閥只許介質(zhì)單向流動(dòng),,安裝時(shí)有方向性。它的結(jié)構(gòu)長(zhǎng)度大于閘閥,,同時(shí)流體阻力大,。

蝕刻閘閥ALUMINUM GATE VALVE,閘閥

微泰半導(dǎo)體閘閥與其他類型閘閥相比,具有以下一些優(yōu)勢(shì):1. 高精度控制:能更精確地調(diào)節(jié)流體流量,。2. 適應(yīng)半導(dǎo)體環(huán)境:對(duì)溫度,、真空等條件有更好的適應(yīng)性。3. 低顆粒產(chǎn)生:減少對(duì)晶圓等的污染,。4. 長(zhǎng)壽命和可靠性:確保穩(wěn)定運(yùn)行,,減少維護(hù)成本。5. 多功能應(yīng)用:可適用于多種半導(dǎo)體工藝設(shè)備,。微泰半導(dǎo)體閘閥被廣泛應(yīng)用于 Evaporation(蒸發(fā)),、Sputtering(濺射)、Diamond growth by MW-PACVD(通過(guò) MW-PACVD 生長(zhǎng)金剛石),、PECV,、PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對(duì)卷),、Coating(涂層),、Etch(蝕刻)、Diffusion(擴(kuò)散),、CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上,,可替代 HVA 閘閥、VA T閘閥,。該閘閥由上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰咎峁?。

微泰半導(dǎo)體閘閥的特點(diǎn):已向中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC,、AKT,、新加坡Micron,Global Foundries、馬來(lái)西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體,、日本Micron,、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備,設(shè)備廠批量供貨,,已得到品質(zhì)認(rèn)可,,已完成對(duì)半導(dǎo)體Utility設(shè)備和批量生產(chǎn)設(shè)備的驗(yàn)證。1,,采用陶瓷球機(jī)構(gòu),,抗沖擊和震動(dòng),保證使用25萬(wàn)次,,檢修方便,,較低維護(hù)成本。2,,無(wú)Particle(顆粒)產(chǎn)生,,采用陶瓷球無(wú)腐蝕和顆粒產(chǎn)。3,,屏蔽保護(hù):屏蔽式保護(hù)功能,,閘閥閥體與擋板之間的距離小于1mm,可防止粉末侵入閥內(nèi),,壽命為半永久性,。4,保護(hù)環(huán):Protecrion Ring通過(guò)流速上升設(shè)計(jì)防止粉末凝固,,并通過(guò)打磨(研磨)工藝防止粉末堆積,。微泰半導(dǎo)體閘閥應(yīng)用于? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過(guò)MW-PACVD生長(zhǎng)金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對(duì)卷)? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴(kuò)散)?CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上,??商娲鶫VA閘閥、VAT閘閥,。上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰尽U婵臻l閥廣泛應(yīng)用于各個(gè)行業(yè),,包括半導(dǎo)體制造,、研發(fā)、分析類儀器和真空鍍膜。

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微泰半導(dǎo)體閘閥具有獨(dú)特的特點(diǎn):其插板閥主滑閥采用球機(jī)構(gòu)方式,,并且在量產(chǎn)工藝設(shè)備上經(jīng)過(guò)了性能驗(yàn)證,。該閘閥由半永久性鋼球陶瓷和板簧組成,陶瓷與金屬接觸驅(qū)動(dòng)時(shí)不會(huì)產(chǎn)生顆粒,。目前已向中國(guó)臺(tái)灣的 Micron,、UMC、AKT,,新加坡的 Micron,、Global Foundries,馬來(lái)西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體,,日本的 Micron,、三星半導(dǎo)體等眾多設(shè)備廠批量供貨,且品質(zhì)得到認(rèn)可,,同時(shí)也完成了對(duì)半導(dǎo)體 Utility 設(shè)備和批量生產(chǎn)設(shè)備的驗(yàn)證,。與其他廠家閘閥的金屬與金屬接觸驅(qū)動(dòng)會(huì)產(chǎn)生大量顆粒不同,微泰半導(dǎo)體閘閥采用鋼陶瓷球,,在與金屬摩擦?xí)r不會(huì)損壞,,且金屬與陶瓷球之間不會(huì)產(chǎn)生 Particle。半永久板簧(SUS 鋼板)的應(yīng)用確保了閥門驅(qū)動(dòng)的同步性,,同時(shí)還采用了固定球?qū)蚱骱弯撎沾伞N⑻┌雽?dǎo)體閘閥廣泛應(yīng)用于 Evaporation(蒸發(fā)),、Sputtering(濺射),、Diamond growth by MW-PACVD(通過(guò) MW-PACVD 生長(zhǎng)金剛石)、PECV,、PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群,、卷對(duì)卷)、Coating(涂層),、Etch(蝕刻),、Diffusion(擴(kuò)散)、CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上,,可替代 HVIA閘閥,、VAT 閘閥。此外,,該閘閥由上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰咎峁>_控制腔內(nèi)壓力的閥門分為三類:控制系統(tǒng)閘閥,、蝶閥,、多定位閘閥。蝕刻閘閥ALUMINUM GATE VALVE

閘閥通過(guò)閥座和閘板接觸進(jìn)行密封,,通常密封面會(huì)堆焊金屬材料以增加耐磨性,。蝕刻閘閥ALUMINUM GATE VALVE

微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥,,有氣動(dòng)多位置閘閥(氣動(dòng)多定位閘閥、多定位插板閥,、Pneumatic Multi Position),、氣動(dòng)(鎖定)閘閥和手動(dòng)(鎖定)閘閥,蝶閥,,Butterfly Valve,,步進(jìn)電機(jī)插板閥Stepper Motor Gate Valve,加熱插板閥(加熱閘閥Heating gate valve),,鋁閘閥(AL Gate Valve),,三重防護(hù)閘閥,應(yīng)用于? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過(guò)MW-PACVD生長(zhǎng)金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群,、卷對(duì)卷)? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴(kuò)散)?CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上,。有中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC,、AKT,、新加坡Micron,Global Foundries、馬來(lái)西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體,、日本Micron,、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī)。蝕刻閘閥ALUMINUM GATE VALVE