微泰,，蝶閥應(yīng)用于? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長(zhǎng)金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群,、卷對(duì)卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴(kuò)散）?CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上?？商娲鶹AT閘閥,。微泰蝶閥其特點(diǎn)是? 主體材料：鋁或不銹鋼? 緊湊型設(shè)計(jì)? 高性能集成控制器? 使用維修零件套件輕松維護(hù)? 應(yīng)用：半導(dǎo)體和工業(yè)過程的壓力控制,。蝶閥規(guī)格如下：法蘭尺寸(內(nèi)徑)：DN40、DN50,、饋通：旋轉(zhuǎn)饋通,、閥門密封：FKM（VITON）、執(zhí)行器：步進(jìn)電機(jī),、壓力范圍：1×10-8 mbar to 1200 mbar ,、開啟壓差：≤ 30 mbar、開啟壓差≤30mbar,、氦泄漏率1X10 -9Mbar/秒,、維護(hù)前可用次數(shù)：250,000次、閥體溫度≤ 150 °,、控制器≤ 35 °C,、材料：閥體STS304/機(jī)制STS304、安裝位置：任意,、接口：RS232,、RS485,、Devicenet、Profibus,、EtherCat,。有中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC,、AKT,、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體,、日本Micron,、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī)，上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰?。真空閘閥廣泛應(yīng)用于各個(gè)行業(yè)，包括半導(dǎo)體制造,、研發(fā),、分析類儀器和真空鍍膜。手動(dòng)閘閥角控制閥

微泰,，定制大型轉(zhuǎn)移閥,，定制大型輸送閥，?應(yīng)用：大型涂層系統(tǒng),。定制大型轉(zhuǎn)移閥,，定制大型輸送閥規(guī)格如下：驅(qū)動(dòng)方式：氣動(dòng)、法蘭尺寸：（內(nèi)徑）80×500,、（內(nèi)徑）100×400,、（內(nèi)徑）200×1800、（內(nèi)徑）650×1050等法蘭類型：定制,、饋通焊接波紋管/O形密封圈,、閥門密封：氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM、閥蓋密封：氟橡膠O型圈,、響應(yīng)時(shí)間：≤ 2 sec,、操作壓力范圍：1×10-10 mbar to 1400 mbar 、開始時(shí)的壓差：≤ 30 mbar,、閘門上的壓差≤1000 mbar,、泄漏率：泄漏率< 5×10 -9 Mbar/秒、維護(hù)前可用次數(shù)：10,000 ~ 200,000次,、閥體溫度≤ 200 °,、機(jī)構(gòu)溫度≤ 80 °C、烤爐溫度≤ 150 °C、材料：材料：不銹鋼304,、A5083~A7075,、安裝位置：任意、操作壓力(N2)：6 ~ 8 bar,。有中國(guó)臺(tái)灣Micron,、UMC、AKT,、新加坡Micron,Global Foundries,、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron,、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī),，上海安宇泰環(huán)保科技有限公司,。多位閘閥楔式閘閥真空閘閥的密封裝置確保關(guān)閉時(shí)的高真空完整性,，防止泄漏并維持腔室內(nèi)的真空壓力,。

微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥,，晶圓輸送閥Transfer Valve，傳輸閥,、轉(zhuǎn)換閥,、輸送閥、轉(zhuǎn)移閥是安裝在半導(dǎo)體PVDCVD設(shè)備工藝模塊和工藝室之間的閥門系統(tǒng),。I型輸送閥,，-閘門動(dòng)作時(shí)無震動(dòng)或沖擊-通過饋通波紋管Feedthrough bellows防止閥體污染，確保高耐用性-采用LM導(dǎo)軌和單鏈路（LM-guide&Single Link）結(jié)構(gòu)/小齒輪驅(qū)動(dòng)方式,，使其具有簡(jiǎn)單的運(yùn)動(dòng),、耐用性和高精度。I型輸送閥有爪式（Jaw type）和夾式（Clamp type）,。微泰晶圓輸送閥Transfer Valve,，傳輸閥、轉(zhuǎn)換閥,、輸送閥,、轉(zhuǎn)移閥Butterfly Valve有中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC,、AKT,、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體,、日本Micron,、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī)。

微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥Heating gate valve，加熱插板閥,，加熱閘閥,，加熱器的加熱溫度為180-200度（可通過控制器設(shè)置溫度）-規(guī)格：適用雙金屬（達(dá)到200度時(shí)，斷電后溫度下降后重新啟動(dòng)）,，應(yīng)用于去除粉末/氣體設(shè)備,。微泰，加熱閘閥應(yīng)用于? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD? PECV? PVD? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴(kuò)散）?CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上,。加熱閘閥規(guī)格如下：驅(qū)動(dòng)方式：手動(dòng)或氣動(dòng),、法蘭尺寸：1.5英寸~ 12英寸、法蘭類型：ISO,、JIS,、ASA、CF,、連接方式：焊接波紋管,、閥門密封：氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM、閥蓋密封：氟橡膠O型圈,、響應(yīng)時(shí)間：≤ 2 sec,、操作壓力范圍：1.5? ~ 6? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar，8? ~ 12? : 1×10-10 mbar to 1200 mbar ,、開始時(shí)的壓差：≤ 30 mbar,、閘門的差動(dòng)壓力：1.5? ~ 6? : ≤ 1400 mbar / 8? ~ 12 ≤ 1200 mbar、泄漏率：< 1×10 -10 Mbar/秒,、維護(hù)前可用次數(shù)：200,000次,、、安裝位置：任意,、操作壓力(N2)：4 ~ 7 bar,。有中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC,、AKT,、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體,、日本Micron,、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī)。微泰高壓閘閥的特點(diǎn)是*陶瓷球機(jī)構(gòu)產(chǎn)生的低顆粒*使用維修配件工具包易于維護(hù)*應(yīng)用:隔離泵,。

微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥,，這里介紹一下閥門控制器-主控制器（Valve Controller Introduction）1英寸和2英寸 / 3英寸和4英寸-本地控制器1英寸和2英寸 / 3英寸和4英寸 -遙控器1英寸和2英寸 / 3英寸和4英寸。1,，開放/關(guān)閉速度LCD顯示,；2,，當(dāng)閥門或泵錯(cuò)誤時(shí)，燈點(diǎn)亮：3,，自動(dòng)關(guān)閉功能-防止泵跳閘中的逆流,；4，有閥門開關(guān)位置的信號(hào)輸出信號(hào),；5,，鎖定功能-本地/遙控器在解鎖后進(jìn)行快速操作；6,，無噪音,，功耗低；7,，歷史管理-打開/關(guān)閉/泵關(guān)閉等,；8，UPS功能（1秒）,，微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥,，有中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC,、AKT,、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體,、日本Micron,、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī),，可替代HVA閘閥,、VAT閘閥。當(dāng)真空閥打開時(shí),，閘門移出流路,，使氣體以高電導(dǎo)率通過。屏蔽閘閥Global Foundries

介質(zhì)可向兩側(cè)任意方向流動(dòng),，易于安裝,。閘閥通道兩側(cè)是對(duì)稱的。手動(dòng)閘閥角控制閥

微泰半導(dǎo)體閘閥具有獨(dú)特的三重保護(hù)保護(hù)環(huán)機(jī)能：采用鋁質(zhì)材料,，減輕重量的同時(shí)提高保護(hù)環(huán)內(nèi)部粗糙度,，有效防止工程副產(chǎn)物的堆積黏附；通過提升保護(hù)環(huán)內(nèi)部流速設(shè)計(jì),，且保護(hù)環(huán)逐步收窄,，進(jìn)一步提升流速，防止粉塵黏附,；采用三元系 O 型圈,，確保保護(hù)環(huán)驅(qū)動(dòng)穩(wěn)定，可保證 30 萬次驅(qū)動(dòng)。該閘閥被廣泛應(yīng)用于 Evaporation（蒸發(fā)）,、Sputtering（濺射）,、Diamond growth by MW-PACVD（通過 MW-PACVD 生長(zhǎng)金剛石）、PECV,、PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群,、卷對(duì)卷）、Coating（涂層）,、Etch（蝕刻）,、Diffusion（擴(kuò)散）、CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上,，能夠替代 HVA 閘閥,、VAT 閘閥。此閘閥由上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰咎峁?。手動(dòng)閘閥角控制閥