微泰半導體閘閥的特點，首先介紹一下起三重保護的保護環(huán)機能,，采用鋁質材料減少重量，并提高保護環(huán)的內部粗糙度,，防止工程副產物堆積黏附,。提升保護環(huán)內部流速設計,，保護環(huán)逐步收窄,，提升流速，防止粉塵黏附,。采用三元系O型圈,，保證保護環(huán)驅動穩(wěn)定（保證30萬次驅動）。微泰半導體閘閥應用于? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群,、卷對卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴散）?CVD（化學氣相沉積）等設備上,。可替代HVA閘閥,、VAT閘閥,。上海安宇泰環(huán)保科技有限公司,。閘閥的結構比較簡單,，一般由閥體、閥座,、閥桿,、閘板、閥蓋,、密封圈幾部分組成,。超高真空閘閥L型轉移閥

微泰半導體閘閥的特點：閥門驅動部分的所有滾子和軸承都進行了防護處理，形成屏蔽和保護環(huán)（Shield Blocker 和 Protection Ring）用三重預防方式切斷粉末（Powder）,，延長閥門驅動和使用壽命,。三重預防驅動方式的Shield功能可防止氣體和粉末侵入閥體內部，有三重保護驅動保護環(huán),，長久延長GV壽命的Shield方法-供應給海外半導體T公司,、M公司和I公司Utility設備,。擋板與閥體的距離小于1mm，阻擋內部粉末和氣體的流入,，屏蔽擋板是采用1.5 t AL材料,，考慮了復原力，并采用Viton粉末熱壓制成,。三重保護保護環(huán)的主要功能說明-AL材料的重量減輕和保護環(huán)內部照明的改善-保護環(huán)內部流速的增加-三元環(huán)應用確保驅動性能,。超高真空閘閥L型轉移閥真空閘閥的設計具有獨特的特征。它們具有堅固的結構,，通常使用不銹鋼或鋁等材料來抵抗真空條件,。

微泰半導體閘閥與其他類型閘閥相比，具有以下一些優(yōu)勢：1. 高精度控制：能更精確地調節(jié)流體流量,。2. 適應半導體環(huán)境：對溫度,、真空等條件有更好的適應性。3. 低顆粒產生：減少對晶圓等的污染,。4. 長壽命和可靠性：確保穩(wěn)定運行,，減少維護成本。5. 多功能應用：可適用于多種半導體工藝設備,。微泰半導體閘閥被廣泛應用于 Evaporation（蒸發(fā)）,、Sputtering（濺射）、Diamond growth by MW-PACVD（通過 MW-PACVD 生長金剛石）,、PECV,、PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）,、Coating（涂層）,、Etch（蝕刻）、Diffusion（擴散）,、CVD（化學氣相沉積）等設備上,，可替代 HVA 閘閥、VA T閘閥,。該閘閥由上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰咎峁?/p>

微泰,，傳輸閥 (L-MOTION),、L型轉換閥、輸送閥,、轉移閥應用于晶圓加工,，半導體加工，可替代VAT閘閥,。其特點是? 主體材料：鋁或不銹鋼? 緊湊型設計? 使用維修配件工具包易于維護? 應用：半導體系統(tǒng)中小于 450mm 晶圓的傳輸和處理室隔離,，傳輸閥 (L-MOTION),、輸送閥、轉移閥規(guī)格如下：閘門密封類型：傳輸閥 (L-MOTION),、左動轉換閥,、驅動方式：氣動、法蘭尺寸（內徑） 32×222/46×236/50×336/56×500 ,、連接方式：焊接波紋管,、閘門密封 Viton O 形圈/硫化密封件、閥蓋密封：氟橡膠O型圈,、響應時間：≤ 2 sec,、工作壓力范圍：1×10-10 mbar to 1200 mbar、開始時的壓差：≤ 30 mbar,、開啟時壓差： ≤ 1200 mbar r,、泄漏率不銹鋼：< 1×10 -9Mbar?/秒/鋁：< 1×10 -5  mbar ?/秒、維護前可用次數： ≥1,000,000次,、閥體溫度≤ 200 °,、機構溫度≤ 80 °C、烤爐溫度≤ 200 °C,、材料：閥體(不銹鋼304)/驅動器(鋁6061陽極氧化),、安裝位置：任意,、操作壓力(N2)：4 ~ 7 bar,。有中國臺灣Micron、UMC,、AKT,、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體,、日本Micron,、三星半導體和其它的設備使用業(yè)績，上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰?。 真空閘閥廣泛應用于各種真空系統(tǒng)和工藝過程中，如半導體生產,、電子設備制造,、科研實驗、航空航天等領域,。

微泰高壓閘閥可以應用于多種設備,，如蒸發(fā)、濺射,、金剛石生長,、PECV,、PVD集群、卷對卷,、涂層,、蝕刻、擴散和CVD等,。它具有陶瓷球機構產生的低顆粒和易于維護等特點,，可替代VAT閘閥。該閥門的規(guī)格包括手動或氣動驅動方式,、1.5英寸至14英寸的法蘭尺寸,、CF法蘭類型、焊接波紋管連接方式,、氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM閥門密封,、氟橡膠O型圈閥蓋密封、≤2秒響應時間,、1.5?至6?的操作壓力范圍為1×10-10 mbar至1400 mbar,，8?至14?的操作壓力范圍為1×10-10 mbar至1200 mbar、≤30 mbar的開始時壓差,、≤1400 mbar的6?以下閘門差動壓力和≤1200 mbar的8?至14?閘門差動壓力,、<1×10 -10 Mbar/秒的泄漏率、250,000次維護前可用次數,、閥體溫度≤200°,、機構溫度≤80°C、烤爐溫度≤150°C,、閥體不銹鋼304或316L和驅動器鋁6061陽極氧化,、任意安裝位置和4至7 bar的N2操作壓力。此外,，微泰高壓閘閥已在中國臺灣Micron,、UMC、AKT,、新加坡Micron,Global Foundries,、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron,、三星半導體和其他設備上得到應用,。如果您需要了解更多關于微泰高壓閘閥的信息，請聯(lián)系上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰?。高壓閘閥，屬于強制密封式閥門,，所以在閥門關閉時,，必須向閘板施加壓力,，以強制密封面不泄漏。超高真空閘閥L型轉移閥

精確控制腔內壓力的閥門分為三類：控制系統(tǒng)閘閥,、蝶閥,、多定位閘閥。超高真空閘閥L型轉移閥

微泰的傳輸閥,、轉換閥,、輸送閥、轉移閥是安裝在半導體 PVD CVD 設備工藝模塊和工藝室之間的閥門系統(tǒng),，起著將工藝模塊中的晶圓轉移到工藝室的關鍵作用,，就像一條溝槽。這些閥門能極大程度地減少閘板開閉時造成的真空壓力變化,，使腔室內的真空壓力得以穩(wěn)定維持,。負責門控半導體晶圓轉移的傳輸閥、轉換閥,、輸送閥,、轉移閥分為 I 型和 L 型兩種。其產品范圍包括多種尺寸規(guī)格,，如 32 x 222,、46 x 236、50 x 336,、56 x 500 等,。維護前使用周期可達 100 萬次，響應時間為 2 秒,，并可根據客戶要求定制法蘭,。這些轉移閥產品有鋁制或不銹鋼制兩種，用于傳輸晶圓小于 450 毫米的半導體系統(tǒng)和隔離工藝室,。I 型的特點是葉片能在垂直方向上快速移動，保證腔室壓力完美維持,，它采用具有 LM 導向系統(tǒng)和單連桿的內部機構,，確保高耐用性和長壽命。L 型轉移閥產品則設計緊湊,，易于維護,。I 型和 L 型轉移閥在閘門開啟和關閉過程中能極大限度地減少振動，且對溫度變化非常穩(wěn)定,，能確保較長的使用壽命,。此外，它們即使長時間使用,，產生的顆粒也很少,，能避免晶圓缺陷和主器件污染,。微泰不斷創(chuàng)新，在壓力控制和控制閥制造方面持續(xù)努力,，專注于真空閘閥的研發(fā),。超高真空閘閥L型轉移閥