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粉煤灰中晶態(tài)礦相及非晶相定量分析引言粉煤灰,，是從煤燃燒后的煙氣中收捕下來的細灰，粉煤灰是燃煤電廠排出的主要固體廢物,。粉煤灰是我國當前排量較大的工業(yè)廢渣之一,。大量的粉煤灰不加處理，就會產(chǎn)生揚塵,，污染大氣,；若排入水系會造成河流淤塞，而其中的有毒化學物質(zhì)還會對人體和生物造成危害。所以,，粉煤灰的再利用一直都是關注的熱點,。比如，已用于制水泥及制各種輕質(zhì)建材等,。要合理高效的利用粉煤灰,，則需要對其元素和礦相組成有詳細的了解。粉煤灰的礦相主要莫來石,、石英以及大量的非晶態(tài),。利用XRD測定非晶態(tài)通常采用加入特定含量的標準物質(zhì)以精確的計算非晶相物質(zhì)的含量。在實驗室中這個方法是可行的,，但在實際生產(chǎn)和快速檢測過程中,，這個方法就現(xiàn)實。目前一種全新的PONKS（PartialOrNoKnowCrystalStructure）方法*,，解決了這一難題,，實現(xiàn)了粉煤灰樣品的無標樣定量分析。江西微觀應變分析XRD衍射儀近期價格對較大300 mm的樣品進行掃描,、安裝和掃描重量不超過5kg的樣品,、自動化接口。

X射線粉末衍射（XRPD）技術是重要的材料表征工具之一,。粉末衍射圖中的許多信息,，直接源于物相的原子排列。在D8 ADVANCE和DIFFRAC.SUITE軟件的支持下,，您將能簡單地實施常見的XRPD方法：鑒別晶相和非晶相,，并測定樣品純度對多相混合物的晶相和非晶相進行定量分析微觀結(jié)構(gòu)分析（微晶尺寸、微應變,、無序…）熱處理或加工制造組件產(chǎn)生的大量殘余應力織構(gòu)（擇優(yōu)取向）分析指標化,、從頭晶體結(jié)構(gòu)測定和晶體結(jié)構(gòu)精修，由于具有出色的適應能力,，使用D8 ADVANCE,，您就可對所有類型的樣品進行測量：從液體到粉末、從薄膜到固體塊狀物,。

薄膜和涂層薄膜和涂層分析采用的原理與XRPD相同,，不過進一步提供了光束調(diào)節(jié)和角度控制功能。典型示例包括但不限于相鑒別,、晶體質(zhì)量,、殘余應力、織構(gòu)分析,、厚度測定以及組分與應變分析。在對薄膜和涂層進行分析時，著重對厚度在nm和μm之間的層狀材料進行特性分析,，從非晶和多晶涂層到外延生長薄膜等,。D8 ADVANCE和DIFFRAC.SUITE軟件可進行以下高質(zhì)量的薄膜分析：掠入射衍射X射線反射高分辨率X射線衍射倒易空間掃描，由于具有出色的適應能力,，使用D8ADVANCE,，您就可對所有類型的樣品進行測量：從液體到粉末、從薄膜到固體塊狀物,。無論是新手用戶還是**用戶,，都可簡單快捷、不出錯地對配置進行更改,。這都是通過布魯克獨特的DAVINCI設計實現(xiàn)的：配置儀器時,，免工具、免準直,，同時還受到自動化的實時組件識別與驗證的支持,。不僅如此——布魯克提供基于NIST標樣剛玉（SRM1976）的準直保證。目前,，在峰位,、強度和分辨率方面，市面上尚無其他粉末衍射儀的精度超過D8ADVANCE,。D8 DISCOVER系列包括DISCOVER和DISCOVER Plus版本,，可通過使用的是標準D8測角儀還是ATLAS測角儀進行區(qū)分。

那么,碳晶體的晶胞參數(shù)可直接用來表征其石墨化度,。XRD法利用石墨的晶格常數(shù)計算石墨化度G[1]：式中：0.3440為完全非石墨化炭的(002)晶面間距,，nm；0.3354為理想石墨晶體的(002)晶面間距,，nm,。為實際石墨試樣（002）晶面間距，nm,。實例不同石墨的石墨化度為了準確的確定值或(002)峰的峰位,，需要在樣品中加入內(nèi)標以校準。本文根據(jù)QJ2507-93[2]規(guī)范,，用硅作為內(nèi)標物,，加入待測石墨樣品中，在瑪瑙研缽中混合研磨均勻,。石墨及其復合材料具有高溫下不熔融,、導電導熱性能好以及化學穩(wěn)定性優(yōu)異等特點，應用于冶金,、化工,、航空航天等行業(yè),。特別是近年來鋰電池的快速發(fā)展，進一步加大了石墨材料的需求,。工業(yè)上常將碳原料經(jīng)過煅燒破碎,、焙燒、高溫石墨化處理來獲取高性能人造石墨材料,。石墨的質(zhì)量對電池的性能有很大影響,，石墨化度是一種從結(jié)構(gòu)上表征石墨質(zhì)量的方法之一。更換光學期間時,，無需工具,，亦無需對光，因此您可輕松快速地更改配置,。全新XRD衍射儀批發(fā)價

D8D和DIFFRAC.SUITE軟件將有助于您使用常見的XRD方法輕松進行薄膜分析：掠入射衍射,、X射線反射率測量。上海BRUKERXRD衍射儀檢測

藥物制劑生產(chǎn)過程中除需添加各種輔料外,，往往還需要經(jīng)過溶解,、研磨、干燥(溫度),、壓片等工藝過程,，在此過程中API的晶型有可能發(fā)生改變，進而可能影響到藥物的療效,。國內(nèi)外FDA規(guī)定多晶型藥物在研制,、生產(chǎn)、貯存過程中必須保證其晶型的一致性,，固體制劑中使用的晶型物質(zhì)應該與API晶型一致,。因此藥物制劑中的晶型分析是非常重要的。由于輔料的存在對藥物制劑中API的晶型分析增加了干擾,，特別是API含量非常少的制劑樣品,，檢測更加困難。XRPD是API晶型分析的有效手段之一,，配合高性能的先進檢測器,，為制劑中微量API的晶型檢測提供了有利工具。上海BRUKERXRD衍射儀檢測

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