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薄膜和涂層分析采用的原理與XRPD相同，不過進(jìn)一步提供了光束調(diào)節(jié)和角度控制功能,。典型示例包括但不限于相鑒定,、晶體質(zhì)量、殘余應(yīng)力,、織構(gòu)分析,、厚度測定以及組分與應(yīng)變分析。在對(duì)薄膜和涂層進(jìn)行分析時(shí),，著重對(duì)厚度在nm和μm之間的層狀材料進(jìn)行特性分析（從非晶和多晶涂層到外延生長薄膜）,。D8ADVANCE和DIFFRAC.SUITE軟件可進(jìn)行以下高質(zhì)量的薄膜分析：掠入射衍射X射線反射法高分辨率X射線衍射倒易空間掃描。由于具有出色的適應(yīng)能力,，使用D8ADVANCE,，您就可對(duì)所有類型的樣品進(jìn)行測量：從液體到粉末、從薄膜到固體塊狀物,。無論是新手用戶還是**用戶,，都可簡單快捷、不出錯(cuò)地對(duì)配置進(jìn)行更改,。這都是通過布魯克獨(dú)特的DAVINCI設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)的：配置儀器時(shí),，免工具、免準(zhǔn)直,，同時(shí)還受到自動(dòng)化的實(shí)時(shí)組件識(shí)別與驗(yàn)證的支持,。廣東上海XRD衍射儀要多少錢可在數(shù)秒內(nèi)，輕松從先焦點(diǎn)切換到點(diǎn)焦點(diǎn),，從而擴(kuò)大應(yīng)用范圍,，同事縮短重新匹配的時(shí)間。

X射線衍射（XRD）和反射率是對(duì)薄層結(jié)構(gòu)樣品進(jìn)行無損表征的重要方法,。D8DISCOVER和DIFFRAC.SUITE軟件將有助于您使用常見的XRD方法輕松進(jìn)行薄膜分析：掠入射衍射（GID）：晶相表面靈敏識(shí)別及結(jié)構(gòu)性質(zhì)測定,，包括微晶尺寸和應(yīng)變。X射線反射率測量（XRR）：用于提取從簡單的基底到高度復(fù)雜的超晶格結(jié)構(gòu)等多層樣品的厚度,、材料密度和界面結(jié)構(gòu)信息,。高分辨率X射線衍射（HRXRD）：用于分析外延生長結(jié)構(gòu)：層厚度、應(yīng)變,、弛豫,、鑲嵌、混合晶體的成分分析,。應(yīng)力和織構(gòu)（擇優(yōu)取向）分析,。

對(duì)分布函數(shù)分析對(duì)分布函數(shù)（PDF）分析是一種分析技術(shù),，它基于Bragg衍射以及漫散射（“總散射”），提供無序材料的結(jié)構(gòu)信息,。其中,，您可以通過Bragg衍射峰，了解材料的平均晶體結(jié)構(gòu)的信息（即長程有序）,，通過漫散射,，表征其局部結(jié)構(gòu)（即短程有序）。就分析速度,、數(shù)據(jù)質(zhì)量以及對(duì)非晶,、弱晶型、納米晶或納米結(jié)構(gòu)材料的分析結(jié)果而言,，D8ADVANCE和TOPAS軟件是目前市面上性能較好的PDF分析解決方案：相鑒定結(jié)構(gòu)測定和精修納米粒度和形狀,。從微米到納米厚度的涂層或外延膜的樣品都受益，用于評(píng)估晶體質(zhì)量,、薄膜厚度,、成分外延排列和應(yīng)變松弛技術(shù)。

由于具有出色的適應(yīng)能力,，*使用D8ADVANCE,，您就可對(duì)所有類型的樣品進(jìn)行測量：從液體到粉末、從薄膜到固體塊狀物,。無論是新手用戶還是**用戶,，都可簡單快捷、不出錯(cuò)地對(duì)配置進(jìn)行更改,。這都是通過布魯克獨(dú)特的DAVINCI設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)的：配置儀器時(shí),，免工具、免準(zhǔn)直,，同時(shí)還受到自動(dòng)化的實(shí)時(shí)組件識(shí)別與驗(yàn)證的支持,。不僅如此——布魯克***提供基于NIST標(biāo)樣剛玉（SRM1976）的準(zhǔn)直保證。目前,，在峰位,、強(qiáng)度和分辨率方面，市面上尚無其他粉末衍射儀的精度超過D8ADVANCE,。憑借RapidRSM技術(shù),，能在 短的時(shí)間內(nèi)，測量大面積倒易空間,。在DIFFRAC.LEPTOS中,，進(jìn)行倒易點(diǎn)陣轉(zhuǎn)換和分析。廣州物相定量分析XRD衍射儀配件

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那么,碳晶體的晶胞參數(shù)可直接用來表征其石墨化度,。XRD法利用石墨的晶格常數(shù)計(jì)算石墨化度G[1]：式中：0.3440為完全非石墨化炭的(002)晶面間距，nm,；0.3354為理想石墨晶體的(002)晶面間距,，nm。為實(shí)際石墨試樣（002）晶面間距,，nm,。實(shí)例不同石墨的石墨化度為了準(zhǔn)確的確定值或(002)峰的峰位，需要在樣品中加入內(nèi)標(biāo)以校準(zhǔn),。本文根據(jù)QJ2507-93[2]規(guī)范,，用硅作為內(nèi)標(biāo)物,，加入待測石墨樣品中,，在瑪瑙研缽中混合研磨均勻。石墨及其復(fù)合材料具有高溫下不熔融,、導(dǎo)電導(dǎo)熱性能好以及化學(xué)穩(wěn)定性優(yōu)異等特點(diǎn),，應(yīng)用于冶金、化工,、航空航天等行業(yè),。特別是近年來鋰電池的快速發(fā)展，進(jìn)一步加大了石墨材料的需求,。工業(yè)上常將碳原料經(jīng)過煅燒破碎,、焙燒、高溫石墨化處理來獲取高性能人造石墨材料,。石墨的質(zhì)量對(duì)電池的性能有很大影響,，石墨化度是一種從結(jié)構(gòu)上表征石墨質(zhì)量的方法之一。湖北上海XRD衍射儀

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