獲得的TRIO光路簡化了D8ADVANCE的操作,,使之適用于多種應(yīng)用和樣品類型。為便于用戶使用,該系統(tǒng)提供了自動(dòng)化電動(dòng)切換功能,,可在多達(dá)6種不同的光束幾何之間進(jìn)行自動(dòng)切換。系統(tǒng)無需人工干預(yù),,即可在三個(gè)光路之間切換:用于粉末分析的Bragg-Brentano聚焦幾何用于毛細(xì)管,、GID和XRR的平行光束Kα1,2幾何用于外延薄膜的高分辨率平行光束Kα1幾何它非常適合在環(huán)境條件或非環(huán)境條件下對(duì)所有樣品類型進(jìn)行分析,其中包括粉末,、塊狀材料,、纖維、片材和薄膜(非晶,、多晶和外延),。X射線反射法、掠入射衍射(GID),、面內(nèi)衍射,、高分辨率XRD、GISAXS,、GI應(yīng)力分析,、晶體取向分析。晶型
薄膜和涂層分析采用的原理與XRPD相同,,不過進(jìn)一步提供了光束調(diào)節(jié)和角度控制功能,。典型示例包括但不限于相鑒定、晶體質(zhì)量,、殘余應(yīng)力,、織構(gòu)分析、厚度測定以及組分與應(yīng)變分析,。在對(duì)薄膜和涂層進(jìn)行分析時(shí),,著重對(duì)厚度在nm和μm之間的層狀材料進(jìn)行特性分析(從非晶和多晶涂層到外延生長薄膜)。D8ADVANCE和DIFFRAC.SUITE軟件可進(jìn)行以下高質(zhì)量的薄膜分析:掠入射衍射X射線反射法高分辨率X射線衍射倒易空間掃描,。由于具有出色的適應(yīng)能力,,使用D8ADVANCE,您就可對(duì)所有類型的樣品進(jìn)行測量:從液體到粉末,、從薄膜到固體塊狀物,。無論是新手用戶還是專業(yè)用戶,都可簡單快捷,、不出錯(cuò)地對(duì)配置進(jìn)行更改,。這都是通過布魯克獨(dú)特的DAVINCI設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)的:配置儀器時(shí),免工具、免準(zhǔn)直,,同時(shí)還受到自動(dòng)化的實(shí)時(shí)組件識(shí)別與驗(yàn)證的支持,。蘇州D2 PHASER檢測分析LYNXEYE XE-T主要用于0D、1D和2D數(shù)據(jù)采集,,具有始終有效的出色能量鑒別能力,,同時(shí)不會(huì)損失二級(jí)單色器信號(hào)。
納米多層薄膜物相隨深度變化引言掠入射X射線衍射(GID)是表征薄膜材料的有效手段,。通過控制不同的入射角度,,進(jìn)而控制X射線在薄膜中的穿透深度,可以確定薄膜材料的結(jié)構(gòu)隨深度變化的信息,。實(shí)例45nmNiO/355nmSnO2/玻璃薄膜的GID測試由于具有出色的適應(yīng)能力,,使用D8ADVANCE,您就可對(duì)所有類型的樣品進(jìn)行測量:從液體到粉末,、從薄膜到固體塊狀物。無論是新手用戶還是專業(yè)用戶,,都可簡單快捷,、不出錯(cuò)地對(duì)配置進(jìn)行更改。這都是通過布魯克獨(dú)特的DAVINCI設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)的:配置儀器時(shí),,免工具,、免準(zhǔn)直,同時(shí)還受到自動(dòng)化的實(shí)時(shí)組件識(shí)別與驗(yàn)證的支持,。不只如此——布魯克提供基于NIST標(biāo)樣剛玉(SRM1976)的準(zhǔn)直保證,。目前,在峰位,、強(qiáng)度和分辨率方面,,市面上尚無其他粉末衍射儀的精度超過D8ADVANCE。
蒙脫石散及雜質(zhì)的鑒定引言蒙脫石散常見的用于用于成人及兒童急,、慢性腹瀉的藥物,。蒙脫石散的主要成分為層狀結(jié)構(gòu)的粘土礦物蒙脫石。根據(jù)中國藥典,,蒙脫石散的鑒別和雜質(zhì)含量的分析的主要手段為XRD,。不論在何種應(yīng)用場合,它都是值得您選擇的探測器:高的計(jì)數(shù)率,、動(dòng)態(tài)范圍和能量分辨率,。布魯克提供基于NIST標(biāo)樣剛玉(SRM1976c)整個(gè)角度范圍內(nèi)的準(zhǔn)直保證,。D8衍射儀系列平臺(tái)的D8ADVANCE,,是所有X射線粉末衍射和散射應(yīng)用的理想之選,如:典型的X射線粉末衍射(XRD)對(duì)分布函數(shù)(PDF)分析小角X射線散射(SAXS)和廣角X射線散射(WAXS)在DIFFRAC.EVA中,進(jìn)行半定量分析,,以現(xiàn)實(shí)孔板上不同相的濃度,。
X射線粉末衍射(XRPD)技術(shù)是重要的材料表征工具之一。粉末衍射圖中的許多信息,,直接源于物相的原子排列,。在D8ADVANCE和DIFFRAC.SUITE軟件的支持下,您將能簡單地實(shí)施常見的XRPD方法:鑒別晶相和非晶相,,并測定樣品純度對(duì)多相混合物的晶相和非晶相進(jìn)行定量分析微觀結(jié)構(gòu)分析(微晶尺寸,、微應(yīng)變、無序…)熱處理或加工制造組件產(chǎn)生的大量殘余應(yīng)力織構(gòu)(擇優(yōu)取向)分析指標(biāo)化,、從頭晶體結(jié)構(gòu)測定和晶體結(jié)構(gòu)精修,,由于具有出色的適應(yīng)能力,使用D8ADVANCE,,您就可對(duì)所有類型的樣品進(jìn)行測量:從液體到粉末,、從薄膜到固體塊狀物。D8D和DIFFRAC.SUITE軟件將有助于您使用常見的XRD方法輕松進(jìn)行薄膜分析:掠入射衍射,、X射線反射率測量,。天津XRD衍射儀哪里好
候選材料鑒別(PMI) 為常見,這是因?yàn)閷?duì)其原子結(jié)構(gòu)十分靈敏,,而這無法通過元素分析技術(shù)實(shí)現(xiàn),。晶型
那么,碳晶體的晶胞參數(shù)可直接用來表征其石墨化度。XRD法利用石墨的晶格常數(shù)計(jì)算石墨化度G[1]:式中:0.3440為完全非石墨化炭的(002)晶面間距,,nm,;0.3354為理想石墨晶體的(002)晶面間距,nm,。為實(shí)際石墨試樣(002)晶面間距,,nm。實(shí)例不同石墨的石墨化度為了準(zhǔn)確的確定值或(002)峰的峰位,,需要在樣品中加入內(nèi)標(biāo)以校準(zhǔn),。本文根據(jù)QJ2507-93[2]規(guī)范,用硅作為內(nèi)標(biāo)物,,加入待測石墨樣品中,,在瑪瑙研缽中混合研磨均勻。石墨及其復(fù)合材料具有高溫下不熔融,、導(dǎo)電導(dǎo)熱性能好以及化學(xué)穩(wěn)定性優(yōu)異等特點(diǎn),,應(yīng)用于冶金、化工,、航空航天等行業(yè),。特別是近年來鋰電池的快速發(fā)展,進(jìn)一步加大了石墨材料的需求。工業(yè)上常將碳原料經(jīng)過煅燒破碎,、焙燒,、高溫石墨化處理來獲取高性能人造石墨材料。石墨的質(zhì)量對(duì)電池的性能有很大影響,,石墨化度是一種從結(jié)構(gòu)上表征石墨質(zhì)量的方法之一,。晶型