多層膜XRR引言X射線反射率（XRR：X-RayReflectivity）單層薄膜或多層膜中各層薄膜的密度,、膜厚,、粗糙度等結(jié)構(gòu)參數(shù)的有效無損檢測(cè)手段。由于具有出色的適應(yīng)能力,，使用D8ADVANCE,，您就可對(duì)所有類型的樣品進(jìn)行測(cè)量：從液體到粉末、從薄膜到固體塊狀物,。無論是新手用戶還是專業(yè)用戶,，都可簡(jiǎn)單快捷、不出錯(cuò)地對(duì)配置進(jìn)行更改,。這都是通過布魯克獨(dú)特的DAVINCI設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)的：配置儀器時(shí),，免工具、免準(zhǔn)直,，同時(shí)還受到自動(dòng)化的實(shí)時(shí)組件識(shí)別與驗(yàn)證的支持,。不止如此——布魯克提供基于NIST標(biāo)樣剛玉（SRM1976）的準(zhǔn)直保證。目前,，在峰位,、強(qiáng)度和分辨率方面，市面上尚無其他粉末衍射儀的精度超過D8ADVANCE,。在DIFFRAC.LEPTOS中,，使用sin2psi法，用Cr輻射進(jìn)行測(cè)量,，對(duì)鋼構(gòu)件的殘余應(yīng)力進(jìn)行分析,。安徽第三方檢測(cè)機(jī)構(gòu)XRD衍射儀

RuO2薄膜掠入射XRD-GID引言薄膜材料就是厚度介于一個(gè)納米到幾個(gè)微米之間的單層或者多層材料。由于厚度比較薄,，薄膜材通常依附于一定的襯底材料之上,。常規(guī)的XRD測(cè)試，X射線的穿透深度一般在幾個(gè)微米到幾十個(gè)微米,，這遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于薄膜的厚度,，導(dǎo)致薄膜的信號(hào)會(huì)受到襯底的影響（圖1）。另外,，如果衍射簡(jiǎn)單較高,，那么X射線只能輻射到部分樣品，無法利用整個(gè)樣品的體積,，衍射信號(hào)弱,。薄膜掠入射衍射（GID：GrazingIncidenceX-RayDiffraction）很好的解絕了以上問題,。所謂掠入射是指使X射線以非常小小的入射角（＜5°）照射到薄膜上,，小的入射角大大減小了在薄膜中的穿透深度,，同時(shí)增加衍射顆粒的數(shù)目和x射線在薄膜中的光程。這里有兩點(diǎn)說明：GID需要硬件配置,；常規(guī)GID只適合多晶薄膜和非晶薄膜,，不適合單晶外延膜。江西第三方檢測(cè)機(jī)構(gòu)XRD衍射儀X射線反射法,、掠入射衍射（GID）,、面內(nèi)衍射、高分辨率XRD,、GISAXS,、GI應(yīng)力分析、晶體取向分析,。

對(duì)分布函數(shù)（PDF）分析是一種分析技術(shù),，它基于Bragg以及漫散射（“總散射”），提供無序材料的結(jié)構(gòu)信息,。其中,，您可以通過Bragg衍射峰，了解材料的平均晶體結(jié)構(gòu)的信息（即長(zhǎng)程有序）,，通過漫散射,，表征其局部結(jié)構(gòu)（即短程有序）。就分析速度,、數(shù)據(jù)質(zhì)量以及對(duì)非晶,、弱晶型、納米晶或納米結(jié)構(gòu)材料的分析結(jié)果而言,，D8ADVANCE和TOPAS軟件市面上性能好的PDF分析解決方案：相鑒定結(jié)構(gòu)測(cè)定和精修納米粒度和形狀,。由于具有出色的適應(yīng)能力，使用D8ADVANCE,，您就可對(duì)所有類型的樣品進(jìn)行測(cè)量：從液體到粉末,、從薄膜到固體塊狀物。無論是新手用戶還是專業(yè)用戶,，都可簡(jiǎn)單快捷,、不出錯(cuò)地對(duì)配置進(jìn)行更改。這都是通過布魯克獨(dú)特的DAVINCI設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)的：配置儀器時(shí),，免工具,、免準(zhǔn)直，同時(shí)還受到自動(dòng)化的實(shí)時(shí)組件識(shí)別與驗(yàn)證的支持,。

納米多層薄膜物相隨深度變化引言掠入射X射線衍射（GID）是表征薄膜材料的有效手段,。通過控制不同的入射角度,，進(jìn)而控制X射線在薄膜中的穿透深度，可以確定薄膜材料的結(jié)構(gòu)隨深度變化的信息,。實(shí)例45nmNiO/355nmSnO2/玻璃薄膜的GID測(cè)試由于具有出色的適應(yīng)能力,，使用D8ADVANCE，您就可對(duì)所有類型的樣品進(jìn)行測(cè)量：從液體到粉末,、從薄膜到固體塊狀物,。無論是新手用戶還是專業(yè)用戶，都可簡(jiǎn)單快捷,、不出錯(cuò)地對(duì)配置進(jìn)行更改,。這都是通過布魯克獨(dú)特的DAVINCI設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)的：配置儀器時(shí)，免工具,、免準(zhǔn)直,，同時(shí)還受到自動(dòng)化的實(shí)時(shí)組件識(shí)別與驗(yàn)證的支持。不只如此——布魯克提供基于NIST標(biāo)樣剛玉（SRM1976）的準(zhǔn)直保證,。目前,，在峰位、強(qiáng)度和分辨率方面,，市面上尚無其他粉末衍射儀的精度超過D8ADVANCE,。殘余應(yīng)力分析、織構(gòu)和極圖,、微區(qū)X射線衍射,、廣角X射線散射（WAXS）。

材料研究樣品臺(tái)緊湊型UMC和緊湊型尤拉環(huán)plus樣品臺(tái)能夠精確地移動(dòng)樣品,，因此擴(kuò)展了D8ADVANCEPlus的樣品處理能力,。緊湊型UMC樣品臺(tái)可對(duì)2Kg的樣品進(jìn)行電動(dòng)移動(dòng)：X軸25mm、Y軸70mm和Z軸52mm,，可用于分析大型塊狀樣品或多個(gè)小樣品,；緊湊型尤拉環(huán)plus樣品臺(tái)的Phi旋轉(zhuǎn)角度不受限制，Psi傾斜度在-5°到95°之間,，可用于應(yīng)力,、織構(gòu)和外延薄膜分析。另外,，它還具有真空多用途通孔,，可通過小型薄膜樣品架或大型手動(dòng)X-Y樣品臺(tái)，將樣品固定在適當(dāng)位置,。二者均可用于溫控樣品臺(tái),，進(jìn)行非環(huán)境分析。另外,，它們還可借助DIFFRAC.DAVINCI樣品臺(tái)卡口安裝系統(tǒng),，輕松更換樣品臺(tái),。卡口安裝式Eulerian托架可支持多種應(yīng)用,，如應(yīng)力,、織構(gòu)和外延膜分析，包括在非環(huán)境條件下,。南京薄膜略入射測(cè)試檢測(cè)分析

在DIFFRAC.LEPTOS中,，對(duì)多層樣品進(jìn)行XRR分析，測(cè)定其薄膜厚度,、晶格失配和混合晶體濃度。安徽第三方檢測(cè)機(jī)構(gòu)XRD衍射儀

粉煤灰中晶態(tài)礦相及非晶相定量分析引言粉煤灰,，是從煤燃燒后的煙氣中收捕下來的細(xì)灰,，粉煤灰是燃煤電廠排出的主要固體廢物。粉煤灰是我國(guó)當(dāng)前排量較大的工業(yè)廢渣之一,。大量的粉煤灰不加處理,，就會(huì)產(chǎn)生揚(yáng)塵，污染大氣,；若排入水系會(huì)造成河流淤塞,，而其中的有毒化學(xué)物質(zhì)還會(huì)對(duì)人體和生物造成危害。所以,，粉煤灰的再利用一直都是關(guān)注的熱點(diǎn),。比如，已用于制水泥及制各種輕質(zhì)建材等,。要合理高效的利用粉煤灰,，則需要對(duì)其元素和礦相組成有詳細(xì)的了解。粉煤灰的礦相主要莫來石,、石英以及大量的非晶態(tài),。利用XRD測(cè)定非晶態(tài)通常采用加入特定含量的標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)以精確的計(jì)算非晶相物質(zhì)的含量。在實(shí)驗(yàn)室中這個(gè)方法是可行的,，但在實(shí)際生產(chǎn)和快速檢測(cè)過程中,，這個(gè)方法就現(xiàn)實(shí)。目前一種全新的PONKS（PartialOrNoKnowCrystalStructure）方法*,，解決了這一難題,，實(shí)現(xiàn)了粉煤灰樣品的無標(biāo)樣定量分析。安徽第三方檢測(cè)機(jī)構(gòu)XRD衍射儀