對(duì)于需要探索材料極限的工業(yè)金屬樣品，通常需要進(jìn)行殘余應(yīng)力和織構(gòu)測(cè)量,。通過(guò)消除樣品表面的拉應(yīng)力或引起壓應(yīng)力,，可延長(zhǎng)其功能壽命。這可通過(guò)熱處理或噴丸處理等物理工藝來(lái)完成,。構(gòu)成塊狀樣品的微晶的取向,，決定了裂紋的生長(zhǎng)方式。而通過(guò)在材料中形成特定的織構(gòu),，可顯著增強(qiáng)其特性,。這兩種技術(shù)在優(yōu)化制造法（例如增材制造）領(lǐng)域也占有一席之地。由于具有出色的適應(yīng)能力,，使用D8ADVANCE,，您就可對(duì)所有類(lèi)型的樣品進(jìn)行測(cè)量：從液體到粉末、從薄膜到固體塊狀物,。D8D和DIFFRAC.SUITE軟件將有助于您使用常見(jiàn)的XRD方法輕松進(jìn)行薄膜分析：掠入射衍射,、X射線反射率測(cè)量。深圳原位分析XRD衍射儀推薦咨詢(xún)

X射線粉末衍射（XRPD）技術(shù)是重要的材料表征工具之一,。粉末衍射圖中的許多信息,，直接源于物相的原子排列。在D8ADVANCE和DIFFRAC.SUITE軟件的支持下,，您將能簡(jiǎn)單地實(shí)施常見(jiàn)的XRPD方法：鑒別晶相和非晶相,，并測(cè)定樣品純度對(duì)多相混合物的晶相和非晶相進(jìn)行定量分析微觀結(jié)構(gòu)分析（微晶尺寸、微應(yīng)變,、無(wú)序…）熱處理或加工制造組件產(chǎn)生的大量殘余應(yīng)力織構(gòu)（擇優(yōu)取向）分析指標(biāo)化,、從頭晶體結(jié)構(gòu)測(cè)定和晶體結(jié)構(gòu)精修，由于具有出色的適應(yīng)能力,，使用D8ADVANCE,，您就可對(duì)所有類(lèi)型的樣品進(jìn)行測(cè)量：從液體到粉末、從薄膜到固體塊狀物,。全新XRD衍射儀配件孔板和沉積樣品在反射和透射中的高通量篩選,。

那么,碳晶體的晶胞參數(shù)可直接用來(lái)表征其石墨化度,。XRD法利用石墨的晶格常數(shù)計(jì)算石墨化度G[1]：式中：0.3440為完全非石墨化炭的(002)晶面間距，nm,；0.3354為理想石墨晶體的(002)晶面間距,，nm。為實(shí)際石墨試樣（002）晶面間距,，nm,。實(shí)例不同石墨的石墨化度為了準(zhǔn)確的確定值或(002)峰的峰位，需要在樣品中加入內(nèi)標(biāo)以校準(zhǔn),。本文根據(jù)QJ2507-93[2]規(guī)范,，用硅作為內(nèi)標(biāo)物，加入待測(cè)石墨樣品中,，在瑪瑙研缽中混合研磨均勻,。石墨及其復(fù)合材料具有高溫下不熔融、導(dǎo)電導(dǎo)熱性能好以及化學(xué)穩(wěn)定性?xún)?yōu)異等特點(diǎn),，應(yīng)用于冶金,、化工、航空航天等行業(yè),。特別是近年來(lái)鋰電池的快速發(fā)展,，進(jìn)一步加大了石墨材料的需求。工業(yè)上常將碳原料經(jīng)過(guò)煅燒破碎,、焙燒,、高溫石墨化處理來(lái)獲取高性能人造石墨材料。石墨的質(zhì)量對(duì)電池的性能有很大影響,，石墨化度是一種從結(jié)構(gòu)上表征石墨質(zhì)量的方法之一,。

所有維度都非常好的數(shù)據(jù)質(zhì)量不論在何種應(yīng)用場(chǎng)合，它都是您的可選的探測(cè)器：高的計(jì)數(shù)率,、動(dòng)態(tài)范圍和能量分辨率,，峰位精度布魯克提供基于NIST標(biāo)樣剛玉（SRM1976c）整個(gè)角度范圍內(nèi)的準(zhǔn)直保證，面向未來(lái)的多用途采用了開(kāi)放式設(shè)計(jì)并具有不受約束的模塊化特性的同時(shí),，將用戶(hù)友好性,、操作便利性以及安全操作性發(fā)揮得淋漓盡致，這就是布魯克DAVINCI設(shè)計(jì),，布魯克獲得的TWIN-TWIN光路設(shè)計(jì)極大地簡(jiǎn)化了D8ADVANCE的操作，使之適用于多種應(yīng)用和樣品類(lèi)型,。為便于用戶(hù)使用,，該系統(tǒng)可在4種不同的光束幾何之間進(jìn)行自動(dòng)切換。該系統(tǒng)無(wú)需人工干預(yù),，即可在Bragg-Brentano粉末衍射幾何和不良形狀的樣品,、涂層和薄膜的平行光束幾何以及它們之間進(jìn)行切換,，且無(wú)需人工干預(yù)，是在環(huán)境下和非環(huán)境下對(duì)包括粉末,、塊狀物體,、纖維、片材和薄膜（非晶,、多晶和外延）在內(nèi)的所有類(lèi)型的樣品進(jìn)行分析的理想選擇,。在DIFFRAC.LEPTOS中，對(duì)多層樣品的薄膜厚度,、界面粗糙度和密度進(jìn)行XRR分析,。

對(duì)分布函數(shù)（PDF）分析是一種分析技術(shù)，它基于Bragg以及漫散射（“總散射”）,，提供無(wú)序材料的結(jié)構(gòu)信息,。其中，您可以通過(guò)Bragg衍射峰,，了解材料的平均晶體結(jié)構(gòu)的信息（即長(zhǎng)程有序）,，通過(guò)漫散射，表征其局部結(jié)構(gòu)（即短程有序）,。就分析速度,、數(shù)據(jù)質(zhì)量以及對(duì)非晶、弱晶型,、納米晶或納米結(jié)構(gòu)材料的分析結(jié)果而言,，D8ADVANCE和TOPAS軟件市面上性能好的PDF分析解決方案：相鑒定結(jié)構(gòu)測(cè)定和精修納米粒度和形狀。由于具有出色的適應(yīng)能力,，使用D8ADVANCE,，您就可對(duì)所有類(lèi)型的樣品進(jìn)行測(cè)量：從液體到粉末、從薄膜到固體塊狀物,。無(wú)論是新手用戶(hù)還是專(zhuān)業(yè)用戶(hù),，都可簡(jiǎn)單快捷、不出錯(cuò)地對(duì)配置進(jìn)行更改,。這都是通過(guò)布魯克獨(dú)特的DAVINCI設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)的：配置儀器時(shí),，免工具、免準(zhǔn)直,，同時(shí)還受到自動(dòng)化的實(shí)時(shí)組件識(shí)別與驗(yàn)證的支持,。卡口安裝式Eulerian托架可支持多種應(yīng)用,，如應(yīng)力,、織構(gòu)和外延膜分析，包括在非環(huán)境條件下。深圳原位分析XRD衍射儀推薦咨詢(xún)

D8D對(duì)地質(zhì)構(gòu)造研究,，借助μXRD,，哪怕是很小的包裹體定性相分析和結(jié)構(gòu)測(cè)定都不在話(huà)下。深圳原位分析XRD衍射儀推薦咨詢(xún)

材料研究樣品臺(tái)緊湊型UMC和緊湊型尤拉環(huán)plus樣品臺(tái)能夠精確地移動(dòng)樣品,，因此擴(kuò)展了D8ADVANCEPlus的樣品處理能力,。緊湊型UMC樣品臺(tái)可對(duì)2Kg的樣品進(jìn)行電動(dòng)移動(dòng)：X軸25mm、Y軸70mm和Z軸52mm,，可用于分析大型塊狀樣品或多個(gè)小樣品,；緊湊型尤拉環(huán)plus樣品臺(tái)的Phi旋轉(zhuǎn)角度不受限制，Psi傾斜度在-5°到95°之間,，可用于應(yīng)力,、織構(gòu)和外延薄膜分析。另外,，它還具有真空多用途通孔,，可通過(guò)小型薄膜樣品架或大型手動(dòng)X-Y樣品臺(tái)，將樣品固定在適當(dāng)位置,。二者均可用于溫控樣品臺(tái),，進(jìn)行非環(huán)境分析。另外,，它們還可借助DIFFRAC.DAVINCI樣品臺(tái)卡口安裝系統(tǒng),，輕松更換樣品臺(tái)。深圳原位分析XRD衍射儀推薦咨詢(xún)