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張家港黑色硬質(zhì)氧化報(bào)價(jià)

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2022-03-25

硬質(zhì)氧化在恒電流工藝下,溶液溫度低,、電流密度高,、硫酸濃度低都會(huì)使得氧化膜阻擋層厚度增大,導(dǎo)致陽(yáng)極氧化電壓升高,,氧化膜的孔隙率也隨著下降,,因此氧化膜的顯微硬度也隨之提高。在外加電壓達(dá)到起弧電壓之前,,金屬表面已經(jīng)被陽(yáng)極氧化膜所覆蓋,。這層介電性的氧化膜使得電流迅速下降,為了氧化膜的繼續(xù)生長(zhǎng),,只有增大電壓使原氧化膜的薄弱位置發(fā)生擊穿,,導(dǎo)致局部火花以維持氧化膜生長(zhǎng)所需要的電流。硬質(zhì)氧化膜質(zhì)量隨著電流密度變化而有所區(qū)別,,通常隨著電流密度的增加,,硬質(zhì)氧化膜的孔隙增多,其硬度和耐磨性也隨著提高,。硬質(zhì)陽(yáng)極氧化的零件在氧化過(guò)程中,,要承受很高的電壓和較高的電流。張家港黑色硬質(zhì)氧化報(bào)價(jià)

常溫鋁硬質(zhì)陽(yáng)極氧化又叫普通氧化,,膜厚一般在5-15微米,,硬度200-400HV。低溫氧化一般用于硬質(zhì)氧化,,硬質(zhì)氧化的特點(diǎn),。1:色澤膜層呈灰.褐.墨綠至黑色,與材料成分和工藝有關(guān),,而且溫度愈低,,膜層愈厚色澤愈深。2:硬度氧化膜硬度極高,,在純鋁上HV=1200-1500,,在合金鋁上硬度明顯降低,。HV=400-800.由于微孔可吸附潤(rùn)滑劑,故可提高耐磨能力,。 3:厚度膜層較高可達(dá)到250微米,,所以又稱(chēng)為厚膜氧化。4:腐蝕具有極高的耐腐蝕能力,,尤其在工業(yè)大氣和海洋性氣候中有好的耐腐蝕性能,。5:絕緣與絕熱性硬質(zhì)膜電阻大,膜層100微米,,可耐2000伏以上,,熔點(diǎn)達(dá) 2050攝氏度,導(dǎo)熱系數(shù)低至67KW/(M.K),是極好的耐熱材料,。6:結(jié)合力與機(jī)體結(jié)合十分強(qiáng)固,。由于鋁硬質(zhì)陽(yáng)極氧化的特性,故應(yīng)用的地方很多,。主要用于耐熱,,耐磨,,絕緣性能要求很高的鋁制零件,,如活塞,汽缸,,軸承,,水電設(shè)備葉輪等。昆山本色硬質(zhì)氧化哪家好硬度氧化膜的硬度極高,。

在鋁硬質(zhì)氧化染色整個(gè)流程中,,因?yàn)檠趸に囋蛟斐扇旧涣际潜容^普遍的。氧化膜的膜厚和孔隙均勻一致是染色時(shí)獲得均勻一致顏色的前提和基礎(chǔ),,為獲得均勻一致的氧化膜,,保證足夠的循環(huán)量,冷卻量,,保證良好的導(dǎo)電性是舉足輕重的,,此外就是氧化工藝的穩(wěn)定性。硫酸濃度,,控制在180—200g/l,。稍高的硫酸濃度可促進(jìn)氧化膜的溶解反應(yīng)加快,利于孔隙的擴(kuò)張,,更易于染色,;鋁離子濃度,控制在5—15 g/l,。鋁離子小于5g/l,,生成的氧化膜吸附能力降低,,影響上色速度,鋁離子大于15g/l時(shí),,氧化膜的均勻性受到影響,,容易出現(xiàn)不規(guī)則的膜層。鋁硬質(zhì)氧化溫度,,控制在20℃左右,,氧化槽液的溫度對(duì)染色的影響非常明顯,過(guò)低的溫度致使氧化膜的膜孔致密,,染色速度明顯減緩,;溫度過(guò)高,氧化膜蔬松,,容易粉化,,不利于染色的控制,氧化槽的溫差變化應(yīng)在2℃以?xún)?nèi)為宜,。

硬質(zhì)氧化主要應(yīng)用于要求高耐磨,、耐熱、絕緣性能好等得鋁和鋁合金零件上,。如各種作為圓筒得內(nèi)壁,,活塞、汽塞,、汽缸,、軸承、飛機(jī)貨艙得地板,、滾棒和導(dǎo)軌,、水利設(shè)備、蒸汽葉輪,、適平機(jī),、齒輪和緩沖墊等零件。用硬質(zhì)氧化工藝來(lái)代替?zhèn)鹘y(tǒng)得鍍硬鉻鍍層,,與硬鉻工藝相比它具有成本低,,膜層結(jié)合牢固,鍍液,,清洗廢液處理方便等優(yōu)點(diǎn),。但此工藝所得膜層得缺點(diǎn)是膜層厚度較大時(shí),對(duì)鋁和鋁合金得機(jī)械疲勞強(qiáng)度指標(biāo)有所影響,。硬質(zhì)氧化得硬質(zhì)陽(yáng)極氧化電解方法很多,,例如:硫酸、草酸,、丙二醇,、磺基水楊酸及其它得無(wú)機(jī)鹽和有機(jī)酸等,。所用電源可分為直流、交流和交直流疊加電源等幾種,,目前普遍應(yīng)用得有下列兩種硬質(zhì)陽(yáng)極氧化,。硬質(zhì)氧化主要目的是提高鋁及鋁合金的各種性能。

硬質(zhì)氧化膜層與哪些因素有關(guān),?鋁及鋁合金表面上,,能否形成好的硬質(zhì)氧化膜層,這主要是與電解液的成份濃度,、溫度,、電流密度以及其原材料的成分等這些方面有關(guān)的,下面就來(lái)講解一些,。電解液的濃度:如果是采用硫酸電解液進(jìn)行陽(yáng)極氧化,,那么其濃度范圍為10%—30%。如果濃度過(guò)低的話(huà),,那么就會(huì)損壞零件,,反而會(huì)帶來(lái)不良影響。溫度:溫度下降,,氧化膜的耐磨性會(huì)提高,,但是也不能太低,所以溫度偏差應(yīng)在±2℃的范圍內(nèi),,這樣是比較合適的,。硬質(zhì)氧化有著不同使用工藝方法,。高鹽霧硬質(zhì)氧化品質(zhì)

硬質(zhì)陽(yáng)極氧化的槽液,,一般是硫酸溶液以及硫酸添加有機(jī)酸,如草酸,、氨基磺酸等,。張家港黑色硬質(zhì)氧化報(bào)價(jià)

硬質(zhì)陽(yáng)極氧化和普通陽(yáng)極氧化的區(qū)別:硬質(zhì)氧化的氧化膜有50%滲透在鋁合金內(nèi)部,50%附著在鋁合金表面,,因此硬質(zhì)氧化后產(chǎn)品外部尺寸變大,,內(nèi)孔變小。 一,、操作條件方面的差異: 1,、溫度不同:普通氧化18-22℃左右,有添加劑的可以到30℃,,溫度過(guò)高易出現(xiàn)粉末或裂紋,;硬質(zhì)氧化一般在5℃以下,相對(duì)來(lái)說(shuō)溫度越低硬質(zhì)越高,。 2,、濃度差異:普通氧化一般20%左右,;硬質(zhì)氧化一般在15%或更低。 3,、電流/電壓差異:普通氧化電流密度一般:1-1.5A/dm2,;而硬質(zhì)氧化:1.5-5A/dm2;普通氧化電壓≤18V,,硬質(zhì)氧化有時(shí)高達(dá)120V,。 二、膜層性能方面的差異: 1,、膜層厚度:普通氧化膜層厚度相對(duì)較?。挥操|(zhì)氧化一般膜層厚度>15μm,,過(guò)低達(dá)不到硬度≥300HV的要求,。 2、表面狀態(tài):普通氧化表面較光滑,,而硬質(zhì)氧化表面較粗糙(微觀,,和基體表面粗糙度有關(guān))。 3,、孔隙率不同:普通氧化孔隙率高,;而硬質(zhì)氧化孔隙率低。 4,、普通氧化基本是透明膜,;硬質(zhì)氧化由于膜厚,為不透明膜,。 5,、適用場(chǎng)合不同:普通氧化適用于裝飾為主;而硬質(zhì)氧化以功能為主,,一般用于耐磨,、耐電的場(chǎng)合。張家港黑色硬質(zhì)氧化報(bào)價(jià)