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碳化硅廠家電話

來源: 發(fā)布時間:2023-04-17

與傳統(tǒng)硅基器件相比,SiC的擊穿場強(qiáng)是傳統(tǒng)硅基器件的10倍,,導(dǎo)熱系數(shù)是傳統(tǒng)硅基器件的3倍,,非常適合于高壓應(yīng)用,如電源,、太陽能逆變器,、火車和風(fēng)力渦輪機(jī)。另外,,SiC還用于制造LED,。碳化硅材料各項指標(biāo)均優(yōu)于硅,其禁帶寬度幾乎是硅的3倍,,理論工作溫度可達(dá)600℃,,遠(yuǎn)高于硅器件工作溫度。技術(shù)成熟度較高,,應(yīng)用潛力較大,。碳化硅器件具有更低的導(dǎo)通電阻,。在低擊穿電壓 (約 50V 下),碳化硅器件的比導(dǎo)通 電阻只有 1.12uΩ,是硅同類器件的約 1/100。在高擊穿電壓 (約 5kV 下),比導(dǎo)通電 阻提高到 25.9mΩ, 卻是硅同類器件的約 1/300,。 更低的導(dǎo)通電阻使得碳化硅電力電子器件具有更小的導(dǎo)通損耗,從而能獲得更高的整機(jī)效率,。碳化硅高溫時能抗氧化。碳化硅廠家電話

碳化硅可以抵受的電壓或電場八倍于硅或砷化鎵, 特別適用于制造高壓大功率器件如高壓二極管,、功率三極管、可控硅以及大功率微波器件. 另外, 此一特性可讓碳化硅器件緊密排列, 有利于提高封裝密度,。碳化硅是熱的良導(dǎo)體, 導(dǎo)熱特性優(yōu)于任何其它半導(dǎo)體材料,。事實上, 在室溫條件下, 其熱傳導(dǎo)率高于任何其它金屬,這使得碳化硅器件可在高溫下正常工作,。為采用SiC SBDs的小功率EV 車載逆變器散熱片體積和采用傳統(tǒng)Si基半導(dǎo)體器件散熱片體積的對比,,可看出,采用SiCSBDs 器件散熱片的體積有效減小,。對于主流的大功率HEV,,一般包含兩套水冷系統(tǒng),一套是引擎冷卻系統(tǒng),,冷卻溫度約105℃,,另一套是電力電子設(shè)備的冷卻系統(tǒng),冷卻溫度約為70℃,。 虹口區(qū)碳化硅要多少錢碳化硅被普遍應(yīng)用于煉鋼脫氧,、鑄造球墨化、耐磨制品生產(chǎn)等領(lǐng)域,。

在模塊層面上,,SiC主要有兩個好處:更小的芯片尺寸和更低的動態(tài)損耗。在系統(tǒng)層面上,,這些優(yōu)勢可被以多種方式利用,。低動態(tài)損耗帶來輸出功率的明顯增加,將提供減輕重量和減小體積的機(jī)會,。值得一提的是,,無需額外的冷卻能力就可實現(xiàn)功率的增加。因為與硅器件相比,,SiC帶來實際的損耗減少,,可能在相同的冷卻條件下得到更高的輸出功率。低的功率損耗能提高能效,,允許設(shè)計高效率的逆變器,,例如用于太陽能和UPS應(yīng)用。此外,,低動態(tài)損耗使得SiC器件非常適用于20kHz以上的較高開關(guān)頻率,。利用高開關(guān)頻率,,可以減少LC濾波器的成本和尺寸。根據(jù)所使用的芯片面積,,在4kHz的低開關(guān)頻率下也可以展示SiC的優(yōu)點,。SiC的其它優(yōu)點涉及到增強(qiáng)的散熱和正溫度系數(shù),這對并聯(lián)的的SiC芯片很重要,。所有這一切都使得SiC在普遍的可能應(yīng)用范圍內(nèi)成為非常有吸引力的材料,。

該電爐所用的燒成方法俗稱:埋粉燒成。它一通電即為加熱開始,,爐心體溫度約2500℃,,甚至更高(2600~2700℃),爐料達(dá)到1450℃時開始合成SiC(但SiC主要是在≥1800℃時形成),,且放出CO,。。然而,,≥2600℃時SiC會分解,,但分解出的Si又會與爐料中的C生成SiC。每組電爐配備一組變壓器,,但生產(chǎn)時只對單一電爐供電,,以便根據(jù)電負(fù)荷特性調(diào)節(jié)電壓來基本上保持恒功率,大功率電爐要加熱約24 h,,停電后生成SiC的反應(yīng)基本結(jié)束,,再經(jīng)過一段時間的冷卻就可以拆除側(cè)墻,然后逐步取出爐料,。綠碳化硅含SiC約97%以上,,自銳性好、鈦合金和光學(xué)玻璃,,用于珩磨汽缸套和精磨高速鋼刀具,。

碳化硅單晶的制備一直是全球性難題,而高穩(wěn)定性的晶體生長工藝則是其中較重要的技術(shù),。之前,,這項技術(shù)只掌握在美國人手里,且長期對我國技術(shù)封鎖,。過去,,我國的半導(dǎo)體材料長期依賴國外進(jìn)口,由此帶來的問題就是半導(dǎo)體材料價格昂貴,、渠道不穩(wěn),,隨時都可能面對禁運(yùn)的風(fēng)險,而且產(chǎn)品的質(zhì)量也難以得到有效保證,,國人備受半導(dǎo)體材料和重要技術(shù) “卡脖子”之痛,。碳化硅晶體的生長條件十分嚴(yán)苛,,不只需要經(jīng)歷高溫還需要壓力精確控制的生長環(huán)境,同時這些晶體的生長速度很緩慢,,生長質(zhì)量也不易控制,。在生長的過程中即便只出現(xiàn)一絲肉眼無法察覺的管洞,也可能影響這個晶體的生長質(zhì)量,。碳化硅晶體的生長過程就如同“蒙眼繡花”一樣,,因為溫度太高,難以進(jìn)行人工干預(yù),,所以晶體的生長過程十分容易遭到擾動,,而如何在苛刻的生長條件下穩(wěn)定生長環(huán)境恰恰又是晶體生長較重要的技術(shù)。要想生產(chǎn)出高質(zhì)量的碳化硅晶片,,就必須攻克這些技術(shù)難關(guān)。 碳化硅有黑碳化硅和綠碳化硅兩個常用的基本品種,,都屬α-SiC,。普陀區(qū)碳化硅供應(yīng)商

同成型壓力對粘土質(zhì)碳化硅制品質(zhì)量的影響還是非常大的。碳化硅廠家電話

近期,,基板質(zhì)量的進(jìn)步已經(jīng)導(dǎo)致SiC器件的良率和可靠性的顯著提高,。襯底的這種可用性以及更高的可用性極大地提高了這些晶體管的效率和制造成本,從而促進(jìn)了它們在諸如車載充電器和牽引逆變器之類的電動汽車系統(tǒng)中的普遍采用,。憑借SiC晶體管可實現(xiàn)更高效率和更高的開關(guān)頻率,,從而減小了磁性元件的尺寸,WBG材料推動了SiC在工業(yè)市場上許多功率轉(zhuǎn)換領(lǐng)域的采用,,這是汽車應(yīng)用所獲得的收益,。碳化硅(SiC)是碳和硅的化合物,碳化硅單晶材料目前采用物相輸運(yùn)(PVT)法,,在超過2000℃的高溫下,,將碳粉和硅粉通過高溫分解成原子,通過溫度控制沉積在碳化硅籽晶上形成碳化硅晶體,。 碳化硅廠家電話

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