白光掃描干涉法采用白光為光源，壓電陶瓷驅(qū)動參考鏡進行掃描,，干涉條紋掃過被測面,，通過感知相干峰位置來獲得表面形貌信息。測量原理圖如圖1-5所示,。而對于薄膜的測量,，上下表面形貌、粗糙度,、厚度等信息能通過一次測量得到,，但是由于薄膜上下表面的反射，會使提取出來的白光干涉信號出現(xiàn)雙峰形式,，變得更復(fù)雜,。另外，由于白光掃描法需要掃描過程,，因此測量時間較長而且易受外界干擾,?；趫D像分割技術(shù)的薄膜結(jié)構(gòu)測試方法，實現(xiàn)了對雙峰干涉信號的自動分離,，實現(xiàn)了薄膜厚度的測量,。白光干涉膜厚測量技術(shù)的優(yōu)化需要對實驗方法和算法進行改進。黃浦區(qū)防水膜厚儀

薄膜是指分子,、原子或者是離子在基底表面沉積形成的一種特殊的二維材料,。近幾十年來，隨著材料科學(xué)和鍍膜工藝的不斷發(fā)展,，厚度在納米量級（幾納米到幾百納米范圍內(nèi)）薄膜的研究和應(yīng)用迅速增加,。與體材料相比，因為納米薄膜的尺寸很小,，使得表面積與體積的比值增加,，表面效應(yīng)所表現(xiàn)出的性質(zhì)非常突出，因而在光學(xué)性質(zhì)和電學(xué)性質(zhì)上有許多獨特的表現(xiàn),。納米薄膜應(yīng)用于傳統(tǒng)光學(xué)領(lǐng)域,，在生產(chǎn)實踐中也得到了越來越廣泛的應(yīng)用，尤其是在光通訊,、光學(xué)測量,，傳感，微電子器件,，生物與醫(yī)學(xué)工程等領(lǐng)域的應(yīng)用空間更為廣闊,。品牌膜厚儀成本價白光干涉膜厚測量技術(shù)可以通過對干涉曲線的分析實現(xiàn)對薄膜的光學(xué)參數(shù)和厚度分布的聯(lián)合測量和分析。

利用包絡(luò)線法計算薄膜的光學(xué)常數(shù)和厚度,，但目前看來包絡(luò)法還存在很多不足,，包絡(luò)線法需要產(chǎn)生干涉波動，要求在測量波段內(nèi)存在多個干涉極值點,，且干涉極值點足夠多,，精度才高。理想的包絡(luò)線是根據(jù)聯(lián)合透射曲線的切點建立的,，在沒有正確方法建立包絡(luò)線時,，通常使用拋物線插值法建立，這樣造成的誤差較大,。包絡(luò)法對測量對象要求高,，如果薄膜較薄或厚度不足情況下，會造成干涉條紋減少,，干涉波峰個數(shù)較少,，要利用干涉極值點建立包絡(luò)線就越困難，且利用拋物線插值法擬合也很困難,，從而降低該方法的準確度,。其次,，薄膜吸收的強弱也會影響該方法的準確度，對于吸收較強的薄膜,，隨干涉條紋減少,，極大值與極小值包絡(luò)線逐漸匯聚成一條曲線，該方法就不再適用,。因此,，包絡(luò)法適用于膜層較厚且弱吸收的樣品。

在納米量級薄膜的各項相關(guān)參數(shù)中,，薄膜材料的厚度是薄膜設(shè)計和制備過程中的重要參數(shù),，是決定薄膜性質(zhì)和性能的基本參量之一，它對于薄膜的光學(xué),、力學(xué)和電磁性能等都有重要的影響[3],。但是由于納米量級薄膜的極小尺寸及其突出的表面效應(yīng)，使得對其厚度的準確測量變得困難,。經(jīng)過眾多科研技術(shù)人員的探索和研究,，新的薄膜厚度測量理論和測量技術(shù)不斷涌現(xiàn)，測量方法實現(xiàn)了從手動到自動,，有損到無損測量,。由于待測薄膜材料的性質(zhì)不同，其適用的厚度測量方案也不盡相同,。對于厚度在納米量級的薄膜,，利用光學(xué)原理的測量技術(shù)應(yīng)用。相比于其他方法,，光學(xué)測量方法因為具有精度高,，速度快，無損測量等優(yōu)勢而成為主要的檢測手段,。其中具有代表性的測量方法有橢圓偏振法,，干涉法，光譜法,，棱鏡耦合法等。白光干涉膜厚測量技術(shù)可以通過對干涉圖像的分析實現(xiàn)對不同材料的薄膜的測量和分析,。

根據(jù)以上分析可知,，白光干涉時域解調(diào)方案的優(yōu)點是：①能夠?qū)崿F(xiàn)測量；②抗干擾能力強,，系統(tǒng)的分辨率與光源輸出功率的波動,，光源的波長漂移以及外界環(huán)境對光纖的擾動等因素?zé)o關(guān)；③測量精度與零級干涉條紋的確定精度以及反射鏡的精度有關(guān),；④結(jié)構(gòu)簡單,，成本較低,。但是，時域解調(diào)方法需要借助掃描部件移動干涉儀一端的反射鏡來進行相位補償,，所以掃描裝置的分辨率將影響系統(tǒng)的精度,。采用這種解調(diào)方案的測量分辨率一般是幾個微米，達到亞微米的分辨率,，主要受機械掃描部件的分辨率和穩(wěn)定性限制,。文獻[46]所報道的位移掃描的分辨率可以達到0.54μm。當(dāng)所測光程差較小時,，F(xiàn)-P腔前后表面干涉峰值相距很近,，難以區(qū)分，此時時域解調(diào)方案的應(yīng)用受到限制,。白光干涉膜厚測量技術(shù)可以應(yīng)用于半導(dǎo)體制造中的薄膜厚度控制,。黃浦區(qū)防水膜厚儀

白光干涉膜厚測量技術(shù)可以實現(xiàn)對薄膜的在線檢測和控制。黃浦區(qū)防水膜厚儀

光學(xué)測厚方法集光學(xué),、機械,、電子、計算機圖像處理技術(shù)為一體,，以其光波長為測量基準,，從原理上保證了納米級的測量精度。同時,，光學(xué)測厚作為非接觸式的測量方法,，被廣泛應(yīng)用于精密元件表面形貌及厚度的無損測量。其中,，薄膜厚度光學(xué)測量方法按光吸收,、透反射、偏振和干涉等光學(xué)原理可分為分光光度法,、橢圓偏振法,、干涉法等多種測量方法。不同的測量方法,，其適用范圍各有側(cè)重,，褒貶不一。因此結(jié)合多種測量方法的多通道式復(fù)合測量法也有研究,，如橢圓偏振法和光度法結(jié)合的光譜橢偏法,，彩色共焦光譜干涉和白光顯微干涉的結(jié)合法等。黃浦區(qū)防水膜厚儀