光譜擬合法易于測量具有應(yīng)用領(lǐng)域,，由于使用了迭代算法,，因此該方法的優(yōu)缺點在很大程度上取決于所選擇的算法。隨著各種全局優(yōu)化算法的引入,，遺傳算法和模擬退火算法等新算法被用于薄膜參數(shù)的測量,。其缺點是不夠?qū)嵱茫摲椒ㄐ枰粋€較好的薄膜的光學(xué)模型(包括色散系數(shù),、吸收系數(shù),、多層膜系統(tǒng))，但是在實際測試過程中,，薄膜的色散和吸收的公式通常不準(zhǔn)確,，尤其是對于多層膜體系，建立光學(xué)模型非常困難,，無法用公式準(zhǔn)確地表示出來,。在實際應(yīng)用中只能使用簡化模型，因此,，通常全光譜擬合法不如極值法有效,。另外該方法的計算速度慢也不能滿足快速計算的要求。白光干涉膜厚測量技術(shù)可以通過對干涉圖像的分析實現(xiàn)對薄膜的表面和內(nèi)部結(jié)構(gòu)的聯(lián)合測量和分析,。新型膜厚儀行情

基于表面等離子體共振傳感的測量方案,，利用共振曲線的三個特征參量—共振角、半高寬和反射率小值,，通過反演計算得到待測金屬薄膜的厚度,。該測量方案可同時得到金屬薄膜的介電常數(shù)和厚度，操作方法簡單,。我們利用Kretschmann型結(jié)構(gòu)的表面等離子體共振實驗系統(tǒng),，測得金膜在入射光波長分別為632.8nm和652.1nm時的共振曲線，由此得到金膜的厚度為55.2nm,。由于該方案是一種強度測量方案,，測量精度受環(huán)境影響較大，且測量結(jié)果存在多值性的問題,，所以我們進一步對偏振外差干涉的改進方案進行了理論分析,，根據(jù)P光和S光之間相位差的變化實現(xiàn)厚度測量,。高頻膜厚儀定做價格白光干涉膜厚測量技術(shù)的研究主要集中在實驗方法的優(yōu)化和算法的改進上。

    在白光反射光譜探測模塊中,，入射光經(jīng)過分光鏡1分光后,，一部分光通過物鏡聚焦到靶丸表面，靶丸殼層上,、下表面的反射光經(jīng)過物鏡,、分光鏡1、聚焦透鏡,、分光鏡2后,，一部分光聚焦到光纖端面并到達光譜儀探測器，可實現(xiàn)靶丸殼層白光干涉光譜的測量,，一部分光到達CCD探測器,，可獲得靶丸表面的光學(xué)圖像。靶丸吸附轉(zhuǎn)位模塊和三維運動模塊分別用于靶丸的吸附定位以及靶丸特定角度轉(zhuǎn)位以及靶丸位置的輔助調(diào)整,，測量過程中,，將靶丸放置于軸系吸嘴前端，通過微型真空泵負壓吸附于吸嘴上,；然后,，移動位移平臺，將靶丸移動至CCD視場中心,，通過Z向位移臺,，使靶丸表面成像清晰；利用光譜儀探測靶丸殼層的白光反射光譜,；靶丸在軸系的帶動下,，平穩(wěn)轉(zhuǎn)位到特定角度，由于軸系的回轉(zhuǎn)誤差,，轉(zhuǎn)位后靶丸可能偏移CCD視場中心,，此時可通過調(diào)整軸系前端的調(diào)心結(jié)構(gòu)，使靶丸定點位于視場中心并采集其白光反射光譜,；重復(fù)以上步驟,，可實現(xiàn)靶丸特定位置或圓周輪廓白光反射光譜數(shù)據(jù)的測量。為減少外界干擾和震動而引起的測量誤差,，該裝置放置于氣浮平臺上,，通過高性能的隔振效果可保證測量結(jié)果的穩(wěn)定性。

針對靶丸自身獨特的特點及極端實驗條件需求,，使得靶丸參數(shù)的測試工作變得異常復(fù)雜,。如何精確地測定靶丸的光學(xué)參數(shù)，一直是激光聚變研究者非常關(guān)注的課題。由于光學(xué)測量方法具有無損,、非接觸,、測量效率高、操作簡便等優(yōu)越性,，靶丸參數(shù)測量通常采用光學(xué)測量方式,。常用的光學(xué)參數(shù)測量手段很多，目前,，常用于測量靶丸幾何參數(shù)或光學(xué)參數(shù)的測量方法有白光干涉法,、光學(xué)顯微干涉法、激光差動共焦法等,。靶丸殼層折射率是沖擊波分時調(diào)控實驗研究中的重要參數(shù),，因此,，精密測量靶丸殼層折射率十分有意義,。而常用的折射率測量方法[13]，如橢圓偏振法,、折射率匹配法,、白光光譜法、布儒斯特角法等,。白光干涉膜厚測量技術(shù)可以應(yīng)用于光學(xué)傳感器中的薄膜厚度測量,。

論文主要以半導(dǎo)體鍺和貴金屬金兩種材料為對象，研究了白光干涉法,、表面等離子體共振法和外差干涉法實現(xiàn)納米級薄膜厚度準(zhǔn)確測量的可行性,。由于不同材料薄膜的特性不同，所適用的測量方法也不同,。半導(dǎo)體鍺膜具有折射率高,，在通信波段（1550nm附近）不透明的特點，選擇采用白光干涉的測量方法,；而厚度更薄的金膜的折射率為復(fù)數(shù),，且能激發(fā)明顯的表面等離子體效應(yīng)，因而可借助基于表面等離子體共振的測量方法,；為了進一步改善測量的精度,，論文還研究了外差干涉測量法，通過引入高精度的相位解調(diào)手段,，檢測P光與S光之間的相位差提升厚度測量的精度,。白光干涉膜厚測量技術(shù)可以應(yīng)用于材料科學(xué)中的薄膜微結(jié)構(gòu)分析。廣東原裝膜厚儀

白光干涉膜厚測量技術(shù)的發(fā)展將促進相關(guān)產(chǎn)業(yè)的發(fā)展和科學(xué)技術(shù)的進步,。新型膜厚儀行情

白光干涉時域解調(diào)方案需要借助機械掃描部件帶動干涉儀的反射鏡移動,，補償光程差，實現(xiàn)對信號的解調(diào)[44-45]。系統(tǒng)基本結(jié)構(gòu)如圖2-1所示,。光纖白光干涉儀的兩輸出臂分別作為參考臂和測量臂,，作用是將待測的物理量轉(zhuǎn)換為干涉儀兩臂的光程差變化。測量臂因待測物理量而增加了一個未知的光程,，參考臂則通過移動反射鏡來實現(xiàn)對測量臂引入的光程差的補償,。當(dāng)干涉儀兩臂光程差ΔL=0時，即兩干涉光束為等光程的時候,，出現(xiàn)干涉極大值,，可以觀察到中心零級干涉條紋，而這一現(xiàn)象與外界的干擾因素?zé)o關(guān),，因而可據(jù)此得到待測物理量的值,。干擾輸出信號強度的因素包括：入射光功率、光纖的傳輸損耗,、各端面的反射等,。外界環(huán)境的擾動會影響輸出信號的強度，但是對零級干涉條紋的位置不會產(chǎn)生影響,。新型膜厚儀行情