自1986年E.Wolf證明了相關(guān)誘導(dǎo)光譜的變化以來,，人們在理論和實(shí)驗上展開了討論和研究。結(jié)果表明,，動態(tài)的光譜位移可以產(chǎn)生新的濾波器,，應(yīng)用于光學(xué)信號處理和加密領(lǐng)域。在論文中,，我們提出的基于白光干涉光譜單峰值波長移動的解調(diào)方案,，可以用于當(dāng)光程差非常小導(dǎo)致其干涉光譜只有一個干涉峰時的信號解調(diào)，實(shí)現(xiàn)納米薄膜厚度測量,。在頻域干涉中,，當(dāng)干涉光程差超過光源相干長度的時候，仍然可以觀察到干涉條紋,。出現(xiàn)這種現(xiàn)象的原因是白光光源的光譜可以看成是許多單色光的疊加,，每一列單色光的相干長度都是無限的。當(dāng)我們使用光譜儀來接收干涉光譜時,，由于光譜儀光柵的分光作用,，將寬光譜的白光變成了窄帶光譜，從而使相干長度發(fā)生變化,。白光干涉膜厚測量技術(shù)可以應(yīng)用于不同材料的薄膜的研究和制造中,。高速膜厚儀工廠

干涉測量法[9-10]是基于光的干涉原理實(shí)現(xiàn)對薄膜厚度測量的光學(xué)方法，是一種高精度的測量技術(shù),。采用光學(xué)干涉原理的測量系統(tǒng)一般具有結(jié)構(gòu)簡單,，成本低廉，穩(wěn)定性好,，抗干擾能力強(qiáng),，使用范圍廣等優(yōu)點(diǎn)。對于大多數(shù)的干涉測量任務(wù),，都是通過薄膜表面和基底表面之間產(chǎn)生的干涉條紋的形狀和分布規(guī)律,，來研究干涉裝置中待測物理量引入的光程差或者是位相差的變化，從而達(dá)到測量目的,。光學(xué)干涉測量方法的測量精度可達(dá)到甚至優(yōu)于納米量級,，而利用外差干涉進(jìn)行測量，其精度甚至可以達(dá)到10-3nm量級[11],。根據(jù)所使用光源的不同,，干涉測量方法又可以分為激光干涉測量和白光干涉測量兩大類。激光干涉測量的分辨率更高,，但是不能實(shí)現(xiàn)對靜態(tài)信號的測量,，只能測量輸出信號的變化量或者是連續(xù)信號的變化,，即只能實(shí)現(xiàn)相對測量。而白光干涉是通過對干涉信號中心條紋的有效識別來實(shí)現(xiàn)對物理量的測量,，是一種測量方式,，在薄膜厚度的測量中得到了廣泛的應(yīng)用。原裝膜厚儀供應(yīng)鏈白光干涉膜厚測量技術(shù)可以實(shí)現(xiàn)對薄膜的快速測量和分析,。

光學(xué)測厚方法集光學(xué),、機(jī)械、電子,、計算機(jī)圖像處理技術(shù)為一體,，以其光波長為測量基準(zhǔn)，從原理上保證了納米級的測量精度,。同時,，光學(xué)測厚作為非接觸式的測量方法，被廣泛應(yīng)用于精密元件表面形貌及厚度的無損測量,。其中,，薄膜厚度光學(xué)測量方法按光吸收、透反射,、偏振和干涉等光學(xué)原理可分為分光光度法,、橢圓偏振法、干涉法等多種測量方法,。不同的測量方法,，其適用范圍各有側(cè)重，褒貶不一,。因此結(jié)合多種測量方法的多通道式復(fù)合測量法也有研究,，如橢圓偏振法和光度法結(jié)合的光譜橢偏法，彩色共焦光譜干涉和白光顯微干涉的結(jié)合法等,。

針對靶丸自身獨(dú)特的特點(diǎn)及極端實(shí)驗條件需求，使得靶丸參數(shù)的測試工作變得異常復(fù)雜,。如何精確地測定靶丸的光學(xué)參數(shù),，一直是激光聚變研究者非常關(guān)注的課題。由于光學(xué)測量方法具有無損,、非接觸,、測量效率高、操作簡便等優(yōu)越性,，靶丸參數(shù)測量通常采用光學(xué)測量方式,。常用的光學(xué)參數(shù)測量手段很多，目前,，常用于測量靶丸幾何參數(shù)或光學(xué)參數(shù)的測量方法有白光干涉法,、光學(xué)顯微干涉法,、激光差動共焦法等。靶丸殼層折射率是沖擊波分時調(diào)控實(shí)驗研究中的重要參數(shù),，因此,，精密測量靶丸殼層折射率十分有意義。而常用的折射率測量方法[13],，如橢圓偏振法,、折射率匹配法、白光光譜法,、布儒斯特角法等,。白光干涉膜厚測量技術(shù)的優(yōu)化需要對實(shí)驗方法和算法進(jìn)行改進(jìn)。

基于表面等離子體共振傳感的測量方案,，利用共振曲線的三個特征參量—共振角,、半高寬和反射率小值，通過反演計算得到待測金屬薄膜的厚度,。該測量方案可同時得到金屬薄膜的介電常數(shù)和厚度,，操作方法簡單。我們利用Kretschmann型結(jié)構(gòu)的表面等離子體共振實(shí)驗系統(tǒng),，測得金膜在入射光波長分別為632.8nm和652.1nm時的共振曲線,，由此得到金膜的厚度為55.2nm。由于該方案是一種強(qiáng)度測量方案,，測量精度受環(huán)境影響較大,，且測量結(jié)果存在多值性的問題，所以我們進(jìn)一步對偏振外差干涉的改進(jìn)方案進(jìn)行了理論分析,，根據(jù)P光和S光之間相位差的變化實(shí)現(xiàn)厚度測量,。白光干涉膜厚測量技術(shù)的研究需要對光學(xué)理論和光學(xué)儀器有較深入的了解。特色服務(wù)膜厚儀生產(chǎn)商

白光干涉膜厚測量技術(shù)可以通過對干涉曲線的分析實(shí)現(xiàn)對薄膜的厚度和形貌的聯(lián)合測量和分析,。高速膜厚儀工廠

白光干涉頻域解調(diào)顧名思義是在頻域分析解調(diào)信號,，測量裝置與時域解調(diào)裝置幾乎相同，只需把光強(qiáng)測量裝置換為光譜儀或者是CCD,，接收到的信號是光強(qiáng)隨著光波長的分布,。由于時域解調(diào)中接收到的信號是一定范圍內(nèi)所有波長的光強(qiáng)疊加，因此將頻譜信號中各個波長的光強(qiáng)疊加,，即可得到與它對應(yīng)的時域接收信號,。由此可見，頻域的白光干涉條紋不僅包含了時域白光干涉條紋的所有信息,，還包含了時域干涉條紋中沒有的波長信息,。在頻域干涉中，當(dāng)兩束相干光的光程差遠(yuǎn)大于光源的相干長度時,，仍可以在光譜儀上觀察到頻域干涉條紋,。這是由于光譜儀內(nèi)部的光柵具有分光作用,，能夠?qū)捵V光變成窄帶光譜，從而增加了光譜的相干長度,。這一解調(diào)技術(shù)的優(yōu)點(diǎn)就是在整個測量系統(tǒng)中沒有使用機(jī)械掃描部件,，從而在測量的穩(wěn)定性和可靠性上得到很大的提高。常見的頻域解調(diào)方法有峰峰值檢測法,、傅里葉解調(diào)法以及傅里葉變換白光干涉解調(diào)法等,。高速膜厚儀工廠