針對靶丸自身獨特的特點及極端實驗條件需求,，使得靶丸參數(shù)的測試工作變得異常復雜,。如何精確地測定靶丸的光學參數(shù),，一直是激光聚變研究者非常關注的課題。由于光學測量方法具有無損、非接觸、測量效率高,、操作簡便等優(yōu)越性，靶丸參數(shù)測量通常采用光學測量方式,。常用的光學參數(shù)測量手段很多,，目前，常用于測量靶丸幾何參數(shù)或光學參數(shù)的測量方法有白光干涉法,、光學顯微干涉法,、激光差動共焦法等。靶丸殼層折射率是沖擊波分時調(diào)控實驗研究中的重要參數(shù),，因此,，精密測量靶丸殼層折射率十分有意義。而常用的折射率測量方法[13],，如橢圓偏振法,、折射率匹配法、白光光譜法,、布儒斯特角法等,。白光干涉膜厚測量技術可以對薄膜的厚度和形貌進行聯(lián)合測量和分析。上饒膜厚儀廠家直銷價格

白光干涉時域解調(diào)方案需要借助機械掃描部件帶動干涉儀的反射鏡移動,，補償光程差，實現(xiàn)對信號的解調(diào)[44-45],。系統(tǒng)基本結(jié)構(gòu)如圖2-1所示,。光纖白光干涉儀的兩輸出臂分別作為參考臂和測量臂，作用是將待測的物理量轉(zhuǎn)換為干涉儀兩臂的光程差變化,。測量臂因待測物理量而增加了一個未知的光程,，參考臂則通過移動反射鏡來實現(xiàn)對測量臂引入的光程差的補償。當干涉儀兩臂光程差ΔL=0時,，即兩干涉光束為等光程的時候,，出現(xiàn)干涉極大值，可以觀察到中心零級干涉條紋,，而這一現(xiàn)象與外界的干擾因素無關,，因而可據(jù)此得到待測物理量的值。干擾輸出信號強度的因素包括：入射光功率,、光纖的傳輸損耗,、各端面的反射等,。外界環(huán)境的擾動會影響輸出信號的強度，但是對零級干涉條紋的位置不會產(chǎn)生影響,。新鄉(xiāng)膜厚儀主要功能與優(yōu)勢白光干涉膜厚測量技術可以通過對干涉曲線的分析實現(xiàn)對薄膜的厚度和形貌的聯(lián)合測量和分析,。

白光干涉在零光程差處，出現(xiàn)零級干涉條紋,，隨著光程差的增加,，光源譜寬范圍內(nèi)的每條譜線各自形成的干涉條紋之間互有偏移，疊加的整體效果使條紋對比度下降,。測量精度高,，可以實現(xiàn)測量,采用白光干涉原理的測量系統(tǒng)的抗干擾能力強，動態(tài)范圍大,，具有快速檢測和結(jié)構(gòu)緊湊等優(yōu)點,。普通的激光干涉與白光干涉之間雖然有差別，但也有很多的共同之處,?？梢哉f，白光干涉實際上就是將白光看作一系列理想的單色光在時域上的相干疊加,，在頻域上觀察到的就是不同波長對應的干涉光強變化曲線,。

根據(jù)以上分析可知，白光干涉時域解調(diào)方案的優(yōu)點是：①能夠?qū)崿F(xiàn)測量,；②抗干擾能力強,，系統(tǒng)的分辨率與光源輸出功率的波動，光源的波長漂移以及外界環(huán)境對光纖的擾動等因素無關,；③測量精度與零級干涉條紋的確定精度以及反射鏡的精度有關,；④結(jié)構(gòu)簡單，成本較低,。但是,，時域解調(diào)方法需要借助掃描部件移動干涉儀一端的反射鏡來進行相位補償，所以掃描裝置的分辨率將影響系統(tǒng)的精度,。采用這種解調(diào)方案的測量分辨率一般是幾個微米,，達到亞微米的分辨率，主要受機械掃描部件的分辨率和穩(wěn)定性限制,。文獻[46]所報道的位移掃描的分辨率可以達到0.54μm,。當所測光程差較小時，F(xiàn)-P腔前后表面干涉峰值相距很近,，難以區(qū)分,，此時時域解調(diào)方案的應用受到限制。白光干涉膜厚測量技術可以通過對干涉圖像的分析實現(xiàn)對不同材料的薄膜的測量和分析。

采用峰峰值法處理光譜數(shù)據(jù)時,，被測光程差的分辨率取決于光譜儀或CCD的分辨率,。我們只需獲得相鄰的兩干涉峰值處的波長信息即可得出光程差，不必關心此波長處的光強大小,，從而降低數(shù)據(jù)處理的難度,。也可以利用多組相鄰的干涉光譜極值對應的波長來分別求出光程差，然后再求平均值作為測量光程差,，這樣可以提高該方法的測量精度,。但是，峰峰值法存在著一些缺點：當使用寬帶光源作為輸入光源時,，接收光譜中不可避免地疊加有與光源同分布的背景光,，從而引起峰值處波長的改變，引入測量誤差,。同時,，當兩干涉信號之間的光程差很小，導致其干涉光譜只有一個干涉峰的時候,，此法便不再適用,。該技術可以通過測量干涉曲線來計算薄膜的厚度。合肥膜厚儀供應

白光干涉膜厚測量技術的研究主要集中在實驗方法的優(yōu)化和算法的改進上,。上饒膜厚儀廠家直銷價格

    自上世紀60年代起,，利用X及β射線、近紅外光源開發(fā)的在線薄膜測厚系統(tǒng)廣泛應用于西方先進國家的工業(yè)生產(chǎn)線中,。20世紀70年代后,，為滿足日益增長的質(zhì)檢需求，電渦流,、電磁電容,、超聲波、晶體振蕩等多種膜厚測量技術相繼問世,。90年代中期,，隨著離子輔助、離子束濺射,、磁控濺射、凝膠溶膠等新型薄膜制備技術取得巨大突破,，以橢圓偏振法和光度法為展示的光學檢測技術以高精度,、低成本、輕便環(huán)保,、高速穩(wěn)固為研發(fā)方向不斷迭代更新,，迅速占領日用電器及工業(yè)生產(chǎn)市場，并發(fā)展出依據(jù)用戶需求個性化定制產(chǎn)品的能力,。其中,，對于市場份額占比較大的微米級薄膜,，除要求測量系統(tǒng)不僅具有百納米級的測量準確度及分辨力以外，還要求測量系統(tǒng)在存在不規(guī)則環(huán)境干擾的工業(yè)現(xiàn)場下,，具備較高的穩(wěn)定性和抗干擾能力,。 上饒膜厚儀廠家直銷價格