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高速膜厚儀制作廠(chǎng)家

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2024-01-27

白光干涉法和激光光源相比具有短相干長(zhǎng)度的特點(diǎn),,使得兩束光只有在光程差非常小的情況下才能發(fā)生干涉,因此不會(huì)產(chǎn)生干擾條紋,。同時(shí),,白光干涉產(chǎn)生的干涉條紋具有明顯的零光程差位置,避免了干涉級(jí)次不確定的問(wèn)題,。本文基于白光干涉原理對(duì)單層透明薄膜厚度測(cè)量進(jìn)行了研究,,特別是對(duì)厚度小于光源相干長(zhǎng)度的薄膜進(jìn)行了探究。文章首先詳細(xì)闡述了白光干涉原理和薄膜測(cè)厚原理,,然后在金相顯微鏡的基礎(chǔ)上構(gòu)建了一種型垂直白光掃描系統(tǒng),,作為實(shí)驗(yàn)中測(cè)試薄膜厚度的儀器,并利用白光干涉原理對(duì)位移量進(jìn)行了標(biāo)定,。 操作需要一定的專(zhuān)業(yè)基礎(chǔ)和經(jīng)驗(yàn),,需要進(jìn)行充分的培訓(xùn)和實(shí)踐,。高速膜厚儀制作廠(chǎng)家

折射率分別為1.45和1.62的2塊玻璃板,使其一端相接觸,,形成67的尖劈.將波長(zhǎng)為550nm的單色光垂直投射在劈上,,并在上方觀(guān)察劈的干涉條紋,試求條紋間距,。

我們可以分2種可能的情況來(lái)討論:

一般玻璃的厚度可估計(jì)為1mm的量級(jí),,這個(gè)量級(jí)相對(duì)于光的波長(zhǎng)550nm而言,應(yīng)該算是膜厚e遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于波長(zhǎng)^的厚玻璃了,,所以光線(xiàn)通過(guò)上玻璃板時(shí)應(yīng)該無(wú)干涉現(xiàn)象,,同理光線(xiàn)通過(guò)下玻璃板時(shí)也無(wú)干涉現(xiàn)象.空氣膜厚度因劈角很小而很薄,與波長(zhǎng)可比擬,,所以光線(xiàn)通過(guò)空氣膜應(yīng)該有干涉現(xiàn)象,,在空氣膜的下表面處有一半波損失,故光程差應(yīng)該為2n2e+λ/2.

(2)假設(shè)玻璃板厚度的量級(jí)與可見(jiàn)光波長(zhǎng)量級(jí)可比擬,,當(dāng)單色光垂直投射在劈尖上時(shí),,上玻璃板能滿(mǎn)足形成薄膜干涉的條件,其光程差為2n2e+λ/2,,下玻璃板也能滿(mǎn)足形成薄膜于涉的條件,,光程差為2n1h+λ/2,但由于玻璃板膜厚均勻,,h不變,,人射角i=儼也不變,故玻璃板形成的薄膜干涉為等傾又等厚干涉條紋,,要么玻璃板全亮,,要么全暗,它不會(huì)影響空氣劈尖干涉條紋的位置和條紋間距,??諝馀飧缮婀獬滩钊詾?n2e+λ/2,但玻璃板會(huì)影響劈尖干涉條紋的亮度對(duì)比度. 塑料薄膜厚度檢測(cè) 膜厚儀這種膜厚儀可以測(cè)量大氣壓下,,1 nm到1mm范圍內(nèi)的薄膜厚度,。

白光反射光譜探測(cè)模塊中,入射光經(jīng)過(guò)分光鏡1分光后,,一部分光照射到靶丸表面,,靶丸殼層上、下表面的反射光經(jīng)物鏡,、分光鏡1,、聚焦透鏡、分光鏡2后,,一部分光聚焦到光纖端面并到達(dá)光譜儀探測(cè)器,,實(shí)現(xiàn)了靶丸殼層白光干涉光譜的測(cè)量,。另一部分光到達(dá)CCD探測(cè)器,獲得靶丸表面的光學(xué)圖像,。靶丸吸附轉(zhuǎn)位模塊和三維運(yùn)動(dòng)模塊分別用于靶丸的吸附定位以及靶丸特定角度的轉(zhuǎn)位和靶丸位置的調(diào)整,。在測(cè)量過(guò)程中,將靶丸放置于軸系吸嘴前端,,通過(guò)微型真空泵將其吸附于吸嘴上,;然后,移動(dòng)位移平臺(tái),,將靶丸移動(dòng)至CCD視場(chǎng)中心,,Z向位移臺(tái)可調(diào)整視場(chǎng)清晰度;利用光譜儀探測(cè)靶丸殼層的白光反射光譜,;靶丸在軸系的帶動(dòng)下,,平穩(wěn)轉(zhuǎn)動(dòng)到特定角度,為消除軸系回轉(zhuǎn)誤差所帶來(lái)的誤差,,可通過(guò)調(diào)整調(diào)心結(jié)構(gòu),,使靶丸定點(diǎn)位于視場(chǎng)中心并采集其白光反射光譜。重復(fù)以上步驟,,可實(shí)現(xiàn)靶丸特定位置或圓周輪廓白光反射光譜數(shù)據(jù)的測(cè)量,。為減少外界干擾和震動(dòng)所引起的測(cè)量誤差,該裝置放置于氣浮平臺(tái)上,,通過(guò)高性能的隔振效果,保證了測(cè)量結(jié)果的穩(wěn)定性,。

本文主要研究了如何采用白光干涉法,、表面等離子體共振法和外差干涉法來(lái)實(shí)現(xiàn)納米級(jí)薄膜厚度的準(zhǔn)確測(cè)量,研究對(duì)象為半導(dǎo)體鍺和貴金屬金兩種材料,。由于不同材料薄膜的特性差異,,所適用的測(cè)量方法也會(huì)有所不同。對(duì)于折射率高,,在通信波段(1550nm附近)不透明的半導(dǎo)體鍺膜,,采用白光干涉的測(cè)量方法;而對(duì)于厚度更薄的金膜,,由于其折射率為復(fù)數(shù),,且具有表面等離子體效應(yīng),所以采用基于表面等離子體共振的測(cè)量方法會(huì)更合適,。為了進(jìn)一步提高測(cè)量精度,,本文還研究了外差干涉測(cè)量法,通過(guò)引入高精度的相位解調(diào)手段來(lái)檢測(cè)P光與S光之間的相位差,,以提高厚度測(cè)量的精度,。白光干涉膜厚儀需要校準(zhǔn),,標(biāo)準(zhǔn)樣品的選擇和使用至關(guān)重要。

,。白光干涉膜厚儀基于薄膜對(duì)白光的反射和透射產(chǎn)生干涉現(xiàn)象,,通過(guò)測(cè)量干涉條紋的位置和間距來(lái)計(jì)算出薄膜的厚度。這種儀器在光學(xué)薄膜,、半導(dǎo)體,、涂層和其他薄膜材料的生產(chǎn)和研發(fā)過(guò)程中具有重要的應(yīng)用價(jià)值。白光干涉膜厚儀的原理是基于薄膜對(duì)白光的干涉現(xiàn)象,。當(dāng)白光照射到薄膜表面時(shí),,部分光線(xiàn)會(huì)被薄膜反射,而另一部分光線(xiàn)會(huì)穿透薄膜并在薄膜內(nèi)部發(fā)生多次反射和折射,。這些反射和折射的光線(xiàn)會(huì)與原始入射光線(xiàn)產(chǎn)生干涉,,形成干涉條紋。通過(guò)測(cè)量干涉條紋的位置和間距,,可以推導(dǎo)出薄膜的厚度信息,。白光干涉膜厚儀在光學(xué)薄膜領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用。光學(xué)薄膜是一種具有特殊光學(xué)性質(zhì)的薄膜材料,,廣泛應(yīng)用于激光器,、光學(xué)鏡片、光學(xué)濾波器等光學(xué)元件中,。通過(guò)白光干涉膜厚儀可以實(shí)現(xiàn)對(duì)光學(xué)薄膜厚度的精確測(cè)量,,保證光學(xué)薄膜元件的光學(xué)性能。此外,,白光干涉膜厚儀還可以用于半導(dǎo)體行業(yè)中薄膜材料的生產(chǎn)和質(zhì)量控制,,確保半導(dǎo)體器件的性能穩(wěn)定和可靠性。白光干涉膜厚儀還可以應(yīng)用于涂層材料的生產(chǎn)和研發(fā)過(guò)程中,。涂層材料是一種在材料表面形成一層薄膜的工藝,,用于增強(qiáng)材料的表面性能。通過(guò)白光干涉膜厚儀可以對(duì)涂層材料的厚度進(jìn)行精確測(cè)量,,保證涂層的均勻性和穩(wěn)定性,,提高涂層材料的質(zhì)量和性能。標(biāo)準(zhǔn)樣品的選擇和使用對(duì)于保持儀器準(zhǔn)確度至關(guān)重要,。塑料薄膜厚度檢測(cè) 膜厚儀

高精度的白光干涉膜厚儀通常采用Michelson干涉儀的結(jié)構(gòu),。高速膜厚儀制作廠(chǎng)家

干涉法和分光光度法都是基于相干光形成等厚干涉條紋的原理來(lái)確定薄膜厚度和折射率。不同于薄膜自發(fā)產(chǎn)生的等傾干涉,,干涉法是通過(guò)設(shè)置參考光路來(lái)形成參考平面和測(cè)量平面間干涉條紋,,因此其相位信息包含兩個(gè)部分,分別是由掃描高度引起的附加相位和由薄膜內(nèi)部多次反射引起的膜厚相位,。干涉法的測(cè)量光路使用面陣CCD接收參考平面和測(cè)量平面間相干波面的干涉光強(qiáng)分布,。與以上三種點(diǎn)測(cè)量方式不同,,干涉法能夠一次性生成薄膜待測(cè)區(qū)域的表面形貌信息,但因存在大量軸向掃描和數(shù)據(jù)解算,,完成單次測(cè)量的時(shí)間相對(duì)較長(zhǎng),。高速膜厚儀制作廠(chǎng)家