目前，常用的顯微干涉方式主要有Mirau和Michelson兩種方式。Mirau型顯微干涉結(jié)構(gòu)中,，物鏡和被測樣品之間有兩塊平板,，一塊涂覆高反射膜的平板作為參考鏡，另一塊涂覆半透半反射膜的平板作為分光棱鏡,。由于參考鏡位于物鏡和被測樣品之間,，物鏡外殼更加緊湊，工作距離相對較短,，倍率一般為10-50倍,。Mirau顯微干涉物鏡的參考端使用與測量端相同的顯微物鏡，因此不存在額外的光程差,，因此是常用的顯微干涉測量方法之一,。Mirau顯微干涉結(jié)構(gòu)中，參考鏡位于物鏡和被測樣品之間,，且物鏡外殼更加緊湊,，工作距離相對較短，倍率一般為10-50倍,。Mirau顯微干涉物鏡的參考端使用與測量端相同的顯微物鏡,，因此不存在額外的光程差，同時該結(jié)構(gòu)具有高分辨率和高靈敏度等特點,，適用于微小樣品的測量,。因此，在生物醫(yī)學(xué),、半導(dǎo)體工業(yè)等領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用,。白光干涉膜厚儀的工作原理是基于膜層與底材的反射率及其相位差，通過測量反射光的干涉來計算膜層厚度,。納米級膜厚儀企業(yè)

自1986年E.Wolf證明了相關(guān)誘導(dǎo)光譜的變化以來,，人們開始在理論和實驗上進(jìn)行探討和研究。結(jié)果表明，動態(tài)的光譜位移可以產(chǎn)生新的濾波器,，可應(yīng)用于光學(xué)信號處理和加密領(lǐng)域,。本文提出的基于白光干涉光譜單峰值波長移動的解調(diào)方案，可應(yīng)用于當(dāng)兩光程差非常小導(dǎo)致干涉光譜只有一個干涉峰的信號解調(diào),，實現(xiàn)納米薄膜厚度測量,。在頻域干涉中，當(dāng)干涉光程差超過光源相干長度時,，仍然可以觀察到干涉條紋,。這種現(xiàn)象是因為白光光源的光譜可以看成是許多單色光的疊加，每一列單色光的相干長度都是無限的,。當(dāng)使用光譜儀接收干涉光譜時,，由于光譜儀光柵的分光作用，寬光譜的白光變成了窄帶光譜,，導(dǎo)致相干長度發(fā)生變化,。蘇州膜厚儀傳感器精度白光干涉膜厚測量技術(shù)可以實現(xiàn)對薄膜的三維成像和分析。

光譜法是一種以光的干涉效應(yīng)為基礎(chǔ)的薄膜厚度測量方法,，分為反射法和透射法兩種類型,。入射光在薄膜-基底-薄膜界面上的反射和透射會引起多光束干涉效應(yīng)，不同特性的薄膜材料的反射率和透過率曲線是不同的,，并且在全光譜范圍內(nèi)與厚度一一對應(yīng),。因此，可以根據(jù)這種光譜特性來確定薄膜的厚度和光學(xué)參數(shù),。光譜法的優(yōu)點是可以同時測量多個參數(shù),，并能有效地排除解的多值性，測量范圍廣,，是一種無損測量技術(shù),。其缺點是對樣品薄膜表面條件的依賴性強，測量穩(wěn)定性較差,，因此測量精度不高,，對于不同材料的薄膜需要使用不同波段的光源等。目前,，這種方法主要用于有機薄膜的厚度測量,。

針對現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種基于白光干涉法的晶圓膜厚測量裝置,。該裝置包括白光光源,、顯微鏡、分束鏡,、干涉物鏡,、光纖傳輸單元、準(zhǔn)直器,、光譜儀,、USB傳輸線、計算機,。光譜儀主要包括六部分,，分別是：光纖入口、準(zhǔn)直鏡,、光柵,、聚焦鏡、區(qū)域檢測器,、帶OFLV濾波器的探測器,。測量具體步驟為：白光光源發(fā)出白光，經(jīng)由光纖,，通過光纖探頭垂直入射至晶圓表面,，樣品薄膜上表面和下表面反射光相干涉形成的干涉譜，由反射光纖探頭接收,，再由光纖傳送到光譜儀,，光譜儀連續(xù)記錄反射信號，通過USB線將測量數(shù)據(jù)傳輸?shù)诫娔X,?？梢詫崿F(xiàn)對晶圓膜厚的無損測量，時間快,、設(shè)備小巧,、操作簡單、精度高,，適合實驗室檢測,。光路長度越長，分辨率越高,，但同時也更容易受到靜態(tài)振動等干擾因素的影響,。

光學(xué)測厚方法結(jié)合了光學(xué)、機械,、電子和計算機圖像處理技術(shù),，以光波長為測量基準(zhǔn)，從原理上保證了納米級的測量精度,。由于光學(xué)測厚是非接觸式的測量方法,，因此被用于精密元件表面形貌及厚度的無損測量。針對薄膜厚度的光學(xué)測量方法,，可以按照光吸收,、透反射,、偏振和干涉等不同光學(xué)原理分為分光光度法、橢圓偏振法,、干涉法等多種測量方法,。不同的測量方法各有優(yōu)缺點和適用范圍。因此,，有一些研究采用了多通道式復(fù)合測量法,，結(jié)合多種測量方法，例如橢圓偏振法和光度法結(jié)合的光譜橢偏法,，彩色共焦光譜干涉和白光顯微干涉的結(jié)合法等,。在半導(dǎo)體、光學(xué),、電子,、化學(xué)等領(lǐng)域廣泛應(yīng)用，有助于研究和開發(fā)新產(chǎn)品,。納米級膜厚儀企業(yè)

白光干涉膜厚測量技術(shù)可以對薄膜的厚度和形貌進(jìn)行聯(lián)合測量和分析,。納米級膜厚儀企業(yè)

干涉測量法是基于光的干涉原理實現(xiàn)對薄膜厚度測量的光學(xué)方法，是一種高精度的測量技術(shù),。采用光學(xué)干涉原理的測量系統(tǒng)一般具有結(jié)構(gòu)簡單,，成本低廉，穩(wěn)定性好,，抗干擾能力強,，使用范圍廣等優(yōu)點。對于大多數(shù)的干涉測量任務(wù),，都是通過薄膜表面和基底表面之間產(chǎn)生的干涉條紋的形狀和分布規(guī)律,，來研究干涉裝置中待測物理量引入的光程差或者是位相差的變化，從而達(dá)到測量目的,。光學(xué)干涉測量方法的測量精度可達(dá)到甚至優(yōu)于納米量級,，而利用外差干涉進(jìn)行測量，其精度甚至可以達(dá)到10-3nm量級,。根據(jù)所使用光源的不同,，干涉測量方法又可以分為激光干涉測量和白光干涉測量兩大類。激光干涉測量的分辨率更高,，但是不能實現(xiàn)對靜態(tài)信號的測量,，只能測量輸出信號的變化量或者是連續(xù)信號的變化，即只能實現(xiàn)相對測量,。而白光干涉是通過對干涉信號中心條紋的有效識別來實現(xiàn)對物理量的測量,，是一種測量方式，在薄膜厚度的測量中得到了廣泛的應(yīng)用,。納米級膜厚儀企業(yè)