由于靶丸自身特殊的特點和極端的實驗條件,，使得靶丸參數(shù)的測試工作變得異常復(fù)雜,。光學(xué)測量方法具有無損,、非接觸、測量效率高,、操作簡便等優(yōu)勢，因此成為了測量靶丸參數(shù)的常用方式,。目前常用于靶丸幾何參數(shù)或光學(xué)參數(shù)測量的方法有白光干涉法,、光學(xué)顯微干涉法,、激光差動共焦法等。然而,，靶丸殼層折射率是沖擊波分時調(diào)控實驗研究中的重要參數(shù),，因此對其進行精密測量具有重要意義。 常用的折射率測量方法有橢圓偏振法,、折射率匹配法,、白光光譜法、布儒斯特角法等,。廣泛應(yīng)用于電子,、半導(dǎo)體、光學(xué),、化學(xué)等領(lǐng)域,，為研究和開發(fā)提供了有力的手段。高精度膜厚儀精度

白光掃描干涉法可以避免色光相移干涉法測量的局限性,。該方法利用白光作為光源,，由于白光是一種寬光譜的光源，相干長度相對較短,，因此發(fā)生干涉的位置范圍很小,。在白光干涉時，存在一個確定的零位置,，當(dāng)測量光和參考光的光程相等時,，所有波長的光均會發(fā)生相長干涉，此時可以觀察到一個明亮的零級條紋,，同時干涉信號也達到最大值,。通過分析這個干涉信號，可以得到被測物體的幾何形貌,。白光掃描干涉術(shù)是通過測量干涉條紋來完成的,，而干涉條紋的清晰度直接影響測試精度。因此,，為了提高精度,，需要更為復(fù)雜的光學(xué)系統(tǒng)，這使得條紋的測量變得費力費時,。測量膜厚儀使用方法隨著技術(shù)的進步和應(yīng)用領(lǐng)域的拓展,，白光干涉膜厚儀的性能和功能將不斷提升和擴展。

微納制造技術(shù)的發(fā)展推動著檢測技術(shù)進入微納領(lǐng)域,，微結(jié)構(gòu)和薄膜結(jié)構(gòu)作為微納器件的重要部分,，在半導(dǎo)體、航天航空,、醫(yī)學(xué),、現(xiàn)代制造等領(lǐng)域得到了廣泛應(yīng)用,。由于微小和精細的特征，傳統(tǒng)的檢測方法無法滿足要求,。白光干涉法被廣泛應(yīng)用于微納檢測領(lǐng)域,，具有非接觸、無損傷,、高精度等特點,。另外，光譜測量具有高效率和測量速度快的優(yōu)點,。因此,，這篇文章提出了一種白光干涉光譜測量方法，并構(gòu)建了相應(yīng)的測量系統(tǒng),。相比傳統(tǒng)的白光掃描干涉方法,，這種方法具有更強的環(huán)境噪聲抵御能力，并且測量速度更快,。

光譜擬合法易于測量具有應(yīng)用領(lǐng)域,，由于使用了迭代算法，因此該方法的優(yōu)缺點在很大程度上取決于所選擇的算法,。隨著各種全局優(yōu)化算法的引入,，遺傳算法和模擬退火算法等新算法被用于薄膜參數(shù)的測量。其缺點是不夠?qū)嵱?，該方法需要一個較好的薄膜的光學(xué)模型（包括色散系數(shù),、吸收系數(shù)、多層膜系統(tǒng)）,，但是在實際測試過程中,，薄膜的色散和吸收的公式會有出入，尤其是對于多層膜體系,，建立光學(xué)模型非常困難,，無法用公式準(zhǔn)確地表示出來。在實際應(yīng)用中只能使用簡化模型,，因此,，通常全光譜擬合法不如極值法有效。另外該方法的計算速度慢也不能滿足快速計算的要求,。操作需要一定的專業(yè)素養(yǎng)和經(jīng)驗，需要進行充分的培訓(xùn)和實踐,。

常用白光垂直掃描干涉系統(tǒng)的原理：入射的白光光束通過半反半透鏡進入到顯微干涉物鏡后,，被分光鏡分成兩部分，一個部分入射到固定的參考鏡,，一部分入射到樣品表面,，當(dāng)參考鏡表面和樣品表面的反射光通過分光鏡后,，再次匯聚產(chǎn)生干涉條紋，干涉光通過透鏡后,，利用電荷耦合器(CCD)可探測整個視場內(nèi)雙白光光束的干涉圖像,。利用Z向精密位移臺帶動干涉鏡頭或樣品臺Z向掃描，可獲得一系列的干涉圖像,。根據(jù)干涉圖像序列中對應(yīng)點的光強隨光程差變化曲線,，可得該點的Z向相對位移；然后,，由CCD圖像中每個像素點光強最大值對應(yīng)的Z向位置獲得被測樣品表面的三維形貌,。增加光路長度可以提高儀器分辨率，但同時也會更容易受到振動等干擾,，需要采取降噪措施,。微米級膜厚儀制作廠家

Michelson干涉儀的光路長度決定了儀器的精度。高精度膜厚儀精度

薄膜在現(xiàn)代光學(xué),、電子,、醫(yī)療、能源和建材等技術(shù)領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用,，可以提高器件性能,。但是由于薄膜制備工藝和生產(chǎn)環(huán)境等因素的影響，成品薄膜存在厚度分布不均和表面粗糙度大等問題,，導(dǎo)致其光學(xué)和物理性能無法達到設(shè)計要求,，嚴(yán)重影響其性能和應(yīng)用。因此,，需要開發(fā)出精度高,、體積小、穩(wěn)定性好的測量系統(tǒng)以滿足微米級工業(yè)薄膜的在線檢測需求,。當(dāng)前的光學(xué)薄膜測厚方法無法同時兼顧高精度,、輕小體積和合理的成本，而具有納米級測量分辨率的商用薄膜測厚儀器價格昂貴,、體積大,，無法滿足工業(yè)生產(chǎn)現(xiàn)場的在線測量需求。因此,，提出了一種基于反射光譜原理的高精度工業(yè)薄膜厚度測量解決方案,，研發(fā)了小型化、低成本的薄膜厚度測量系統(tǒng),，并提出了一種無需標(biāo)定樣品的高效穩(wěn)定的膜厚計算算法,。該系統(tǒng)可以實現(xiàn)微米級工業(yè)薄膜的厚度測量。高精度膜厚儀精度