由于不同性質(zhì)和形態(tài)的薄膜對系統(tǒng)的測量量程和精度的需求不盡相同,，因而多種測量方法各有優(yōu)缺，難以一概而論,。按照薄膜厚度的增加,，適用的測量方式分別為橢圓偏振法、分光光度法,、共聚焦法和干涉法,。對于小于1μm的較薄薄膜，白光干涉輪廓儀的測量精度較低,，分光光度法和橢圓偏振法較適合,。而對于小于200nm的薄膜，由于透過率曲線缺少峰谷值,，橢圓偏振法結(jié)果更加可靠,。基于白光干涉原理的光學薄膜厚度測量方案目前主要集中于測量透明或者半透明薄膜,，通過使用不同的解調(diào)技術(shù)處理白光干涉的圖樣,，得到待測薄膜厚度。本章在詳細研究白光干涉測量技術(shù)的常用解調(diào)方案,、解調(diào)原理及其局限性的基礎(chǔ)上,，分析得到了常用的基于兩個相鄰干涉峰的白光干涉解調(diào)方案不適用于極短光程差測量的結(jié)論。在此基礎(chǔ)上,，我們提出了基于干涉光譜單峰值波長移動的白光干涉測量解調(diào)技術(shù),?？梢耘浜喜煌能浖M行分析和數(shù)據(jù)處理，例如建立數(shù)據(jù)庫,、統(tǒng)計數(shù)據(jù)等,；白光干涉膜厚儀制作廠家

傅里葉變換是白光頻域解調(diào)方法中的一種低精度信號解調(diào)方法，起初由G.F.Fernando和T.Liu等人提出,，用于低精度光纖法布里-珀羅傳感器的解調(diào),。該解調(diào)方案的原理是通過傅里葉變換得到頻域的峰值頻率從而獲得光程差，并得到待測物理量的信息,。傅里葉變換解調(diào)方案的優(yōu)勢是解調(diào)速度快,，受干擾信號影響較小，但精度不高,。根據(jù)數(shù)字信號處理FFT理論,，若輸入光源波長范圍為[λ1,λ2]，則所測光程差的理論小分辨率為λ1λ2/(λ2-λ1),，因此該方法主要應用于解調(diào)精度要求不高的場合,。傅里葉變換白光干涉法是對傅里葉變換法的改進。該方法總結(jié)起來是對采集到的光譜信號進行傅里葉變換,，然后濾波,、提取主頻信號，接著進行逆傅里葉變換,、對數(shù)運算,，之后取其虛部進行相位反包裹運算，從而通過得到的相位來獲得干涉儀的光程差,。經(jīng)實驗證明,，該方法測量精度比傅里葉變換方法更高。國內(nèi)膜厚儀行情當光路長度增加,，儀器的分辨率越高,，也越容易受到靜態(tài)振動等干擾因素的影響，需采取一些減小噪聲的措施,。

基于白光干涉法的晶圓膜厚測量裝置,，其特征在于：該裝置包括白光光源、顯微鏡,、分束鏡,、干涉物鏡、光纖傳輸單元,、準直器,、光譜儀、USB傳輸線,、計算機,；光譜儀主要包括六部分,，分別是：光纖入口、準直鏡,、光柵,、聚焦鏡、區(qū)域檢測器,、帶OFLV濾波器的探測器,；

光源發(fā)出的白光經(jīng)準直鏡擴束準直后成平行光，經(jīng)分束鏡射入Michelson干涉物鏡,，準直透鏡將白光縮束準直后垂直照射到待測晶圓上,，反射光之間相互發(fā)生干涉，經(jīng)準直鏡后干涉光強進入光纖耦合單元,，完成干涉部分,；

光纖傳輸?shù)母缮嫘盘栠M入光譜儀,，計算機定時從光譜儀中采集光譜信號,，獲取諸如光強、反射率等信息,，計算機對這些信息進行信號處理,，濾除高頻噪聲信息，然后對光譜信息進行歸一化處理,，利用峰值對應的波長值,，計算晶圓膜厚。

白光干涉的相干原理早在1975年就已經(jīng)被提出,，隨后于1976年在光纖通信領(lǐng)域中獲得了實現(xiàn),。1983年，BrianCulshaw的研究小組報道了白光干涉技術(shù)在光纖傳感領(lǐng)域中的應用,。隨后在1984年,，報道了基于白光干涉原理的完整的位移傳感系統(tǒng)。該研究成果證明了白光干涉技術(shù)可以被用于測量能夠轉(zhuǎn)換成位移的物理參量,。此后的幾年間,，白光干涉應用于溫度、壓力等的研究相繼被報道,。自上世紀九十年代以來,，白光干涉技術(shù)快速發(fā)展，提供了實現(xiàn)測量的更多的解決方案,。近幾年以來,，由于傳感器設(shè)計與研制的進步，信號處理新方案的提出,，以及傳感器的多路復用等技術(shù)的發(fā)展,，使得白光干涉測量技術(shù)的發(fā)展更加迅速,。該儀器的使用需要一定的專業(yè)技能和經(jīng)驗，操作前需要進行充分的培訓和實踐,。

膜厚儀是一種可以用于精確測量光學薄膜厚度的儀器,，是光學薄膜制備和表征中不可或缺的工具。在光學薄膜領(lǐng)域,，薄膜的厚度直接影響到薄膜的光學性能和應用效果,。因此，準確測量薄膜厚度對于研究和生產(chǎn)具有重要意義,。膜厚儀測量光學薄膜的具體方法通常包括以下幾個步驟：樣品準備：首先需要準備待測薄膜樣品,，通常是將薄膜沉積在基片上，確保樣品表面平整干凈,，無雜質(zhì)和損傷,。儀器校準：在進行測量之前，需要對膜厚儀進行校準,，確保儀器的準確性和穩(wěn)定性,。校準過程通常包括使用標準樣品進行比對，調(diào)整儀器參數(shù),。測量操作：將樣品放置在膜厚儀的測量臺上,，調(diào)節(jié)儀器參數(shù)，如波長,、入射角等,，然后啟動測量程序。膜厚儀會通過光學干涉原理測量樣品表面反射的光線,，從而得到薄膜的厚度信息,。數(shù)據(jù)分析：膜厚儀通常會輸出一系列的數(shù)據(jù)，包括薄膜的厚度,、折射率等信息,。對于這些數(shù)據(jù)，需要進行進一步的分析和處理,，以確保測量結(jié)果的準確性和可靠性,。膜厚儀測量光學薄膜的具體方法需要注意的一些關(guān)鍵點包括：樣品表面的處理對測量結(jié)果有重要影響，因此在進行測量之前需要確保樣品表面的平整和清潔白光干涉膜厚測量技術(shù)可以應用于電子工業(yè)中的薄膜電阻率測量,；微米級膜厚儀廠家

操作需要一定的專業(yè)素養(yǎng)和經(jīng)驗,，需要進行充分的培訓和實踐。白光干涉膜厚儀制作廠家

在激光慣性約束聚變（ICF）物理實驗中,，靶丸殼層折射率,、厚度以及其分布參數(shù)是非常關(guān)鍵的參數(shù)。因此，實現(xiàn)對靶丸殼層折射率,、厚度及其分布的精密測量對精密ICF物理實驗研究非常重要,。由于靶丸尺寸微小、結(jié)構(gòu)特殊,、測量精度要求高,，因此如何實現(xiàn)對靶丸殼層折射率及其厚度分布的精密測量是靶參數(shù)測量技術(shù)研究中的重要內(nèi)容。本文針對這一需求,，開展了基于白光干涉技術(shù)的靶丸殼層折射率及厚度分布測量技術(shù)研究,。精確測量靶丸殼層折射率、厚度及其分布是激光慣性約束聚變中至關(guān)重要的,，對于ICF物理實驗的研究至關(guān)重要,。由于靶丸特殊的結(jié)構(gòu)和微小的尺寸，以及測量的高精度要求,，如何實現(xiàn)靶丸殼層折射率及其厚度分布的精密測量是靶參數(shù)測量技術(shù)研究中的重要目標,。本文就此需求開展了基于白光干涉技術(shù)的靶丸殼層折射率及厚度分布測量技術(shù)的研究。白光干涉膜厚儀制作廠家