針對微米級工業(yè)薄膜厚度測量,，開發(fā)了一種基于寬光譜干涉的反射式法測量方法,，并研制了適用于工業(yè)應(yīng)用的小型薄膜厚度測量系統(tǒng)，考慮了成本,、穩(wěn)定性,、體積等因素要求。該系統(tǒng)結(jié)合了薄膜干涉和光譜共聚焦原理,，采用波長分辨下的薄膜反射干涉光譜模型,，利用經(jīng)典模態(tài)分解和非均勻傅里葉變換的思想，提出了一種基于相位功率譜分析的膜厚解算算法,。該算法能夠有效利用全光譜數(shù)據(jù)準(zhǔn)確提取相位變化,，抗干擾能力強(qiáng)，能夠排除環(huán)境噪聲等假頻干擾,。經(jīng)過對PVC標(biāo)準(zhǔn)厚度片,、PCB板芯片膜層及鍺基SiO2膜層的測量實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證，結(jié)果表明該測厚系統(tǒng)具有1~75微米厚度的測量量程和微米級的測量不確定度,，而且無需對焦,，可以在10ms內(nèi)完成單次測量，滿足工業(yè)級測量需要的高效便捷的應(yīng)用要求,。這種膜厚儀可以測量大氣壓下 ,。小型膜厚儀按需定制

目前，常用的顯微干涉方式主要有Mirau和Michelson兩種方式,。Mirau型顯微干涉結(jié)構(gòu)中,，物鏡和被測樣品之間有兩塊平板,，一塊涂覆高反射膜的平板作為參考鏡，另一塊涂覆半透半反射膜的平板作為分光棱鏡,。由于參考鏡位于物鏡和被測樣品之間,，物鏡外殼更加緊湊，工作距離相對較短,，倍率一般為10-50倍,。Mirau顯微干涉物鏡的參考端使用與測量端相同的顯微物鏡，因此不存在額外的光程差,，因此是常用的顯微干涉測量方法之一,。Mirau顯微干涉結(jié)構(gòu)中，參考鏡位于物鏡和被測樣品之間,，且物鏡外殼更加緊湊,，工作距離相對較短，倍率一般為10-50倍,。Mirau顯微干涉物鏡的參考端使用與測量端相同的顯微物鏡,，因此不存在額外的光程差，同時(shí)該結(jié)構(gòu)具有高分辨率和高靈敏度等特點(diǎn),，適用于微小樣品的測量,。因此，在生物醫(yī)學(xué),、半導(dǎo)體工業(yè)等領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用,。品牌膜厚儀廠家供應(yīng)隨著技術(shù)的進(jìn)步和應(yīng)用領(lǐng)域的拓展，白光干涉膜厚儀的性能和功能將不斷提升和擴(kuò)展,。

薄膜材料的厚度在納米級薄膜的各項(xiàng)相關(guān)參數(shù)中,，是制備和設(shè)計(jì)中一個(gè)重要的參量，也是決定薄膜性質(zhì)和性能的關(guān)鍵參量之一,。然而,，由于其極小尺寸及表面效應(yīng)的影響，納米級薄膜的厚度準(zhǔn)確測量變得困難,?？蒲屑夹g(shù)人員通過不斷的探索研究，提出了新的薄膜厚度測量理論和技術(shù),，并將測量方法從手動(dòng)到自動(dòng),、有損到無損等不斷改進(jìn)。對于不同性質(zhì)的薄膜,，其適用的厚度測量方案也不相同,。在納米級薄膜中，采用光學(xué)原理的測量技術(shù)可以實(shí)現(xiàn)精度高,、速度快,、無損測量等優(yōu)點(diǎn),，成為主要的檢測手段。典型的測量方法包括橢圓偏振法,、干涉法,、光譜法、棱鏡耦合法等,。

論文所研究的鍺膜厚度約300nm ,，導(dǎo)致其白光干涉輸出光譜只有一個(gè)干涉峰，此時(shí)常規(guī)基于相鄰干涉峰間距解調(diào)的方案（如峰峰值法等）將不再適用,。為此,，我們提出了一種基于單峰值波長移動(dòng)的白光干涉測量方案，并設(shè)計(jì)搭建了膜厚測量系統(tǒng),。溫度測量實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,，峰值波長與溫度變化之間具有良好的線性關(guān)系。利用該測量方案,，我們測得實(shí)驗(yàn)用鍺膜的厚度為338.8nm,，實(shí)驗(yàn)誤差主要來自于溫度控制誤差和光源波長漂移。論文通過對納米級薄膜厚度的測量方案研究,，實(shí)現(xiàn)了對鍺膜和金膜的厚度測量。論文主要的創(chuàng)新點(diǎn)是提出了白光干涉單峰值波長移動(dòng)的解調(diào)方案,，并將其應(yīng)用于極短光程差的測量,。白光干涉膜厚儀的應(yīng)用非常廣，特別是在半導(dǎo)體,、光學(xué),、電子和化學(xué)等領(lǐng)域。

白光干涉光譜分析是目前白光干涉測量的一個(gè)重要方向 ,，此項(xiàng)技術(shù)主要是利用光譜儀將對條紋的測量轉(zhuǎn)變成為對不同波長光譜的測量 ,。通過分析被測物體的光譜特性，就能夠得到相應(yīng)的長度信息和形貌信息,。相比于白光掃描干涉術(shù),，它不需要大量的掃描過程，因此提高了測量效率,，而且也減小了環(huán)境對它的影響,。此項(xiàng)技術(shù)能夠測量距離、位移,、塊狀材料的群折射率以及多層薄膜厚度,。白干干涉光譜法是基于頻域干涉的理論，采用白光作為寬波段光源,，經(jīng)過分光棱鏡,，被分成兩束光,，這兩束光分別入射到參考面和被測物體，反射回來后經(jīng)過分光棱鏡合成后,，由色散元件分光至探測器,，記錄頻域上的干涉信號。此光譜信號包含了被測表面的信息,，如果此時(shí)被測物體是薄膜,，則薄膜的厚度也包含在這光譜信號當(dāng)中。這樣就把白光干涉的精度和光譜測量的速度結(jié)合起來,，形成了一種精度高而且速度快的測量方法,。白光干涉膜厚測量技術(shù)的優(yōu)化需要對實(shí)驗(yàn)方法和算法進(jìn)行改進(jìn)。小型膜厚儀產(chǎn)品原理

隨著技術(shù)的不斷進(jìn)步和應(yīng)用領(lǐng)域的擴(kuò)展,，白光干涉膜厚儀的性能和功能將得到進(jìn)一步提高,。小型膜厚儀按需定制

薄膜作為重要元件 ，通常使用金屬,、合金,、化合物、聚合物等作為其主要基材,，品類涵蓋光學(xué)膜,、電隔膜、阻隔膜,、保護(hù)膜,、裝飾膜等多種功能性薄膜，廣泛應(yīng)用于現(xiàn)代光學(xué),、電子,、醫(yī)療、能源,、建材等技術(shù)領(lǐng)域,。常用薄膜的厚度范圍從納米級到微米級不等。納米和亞微米級薄膜主要是基于干涉效應(yīng)調(diào)制的光學(xué)薄膜,，包括各種增透增反膜,、偏振膜、干涉濾光片和分光膜等,。部分薄膜經(jīng)特殊工藝處理后還具有耐高溫,、耐腐蝕、耐磨損等特性,，對通訊,、顯示、存儲(chǔ)等領(lǐng)域內(nèi)光學(xué)儀器的質(zhì)量起決定性作用[1-3]，如平面顯示器使用的ITO鍍膜,，太陽能電池表面的SiO2減反射膜等,。微米級以上的薄膜以工農(nóng)業(yè)薄膜為主，多使用聚酯材料,，具有易改性,、可回收、適用范圍廣等特點(diǎn),。例如6微米厚度以下的電容器膜,，20微米厚度以下的大部分包裝印刷用薄膜，25~38微米厚的建筑玻璃貼膜及汽車貼膜,，以及厚度為25~65微米的防偽標(biāo)牌及拉線膠帶等,。微米級薄膜利用其良好的延展、密封,、絕緣特性,，遍及食品包裝、表面保護(hù),、磁帶基材,、感光儲(chǔ)能等應(yīng)用市場，加工速度快,，市場占比高,。小型膜厚儀按需定制