針對微米級工業(yè)薄膜厚度測量,,開發(fā)了一種基于寬光譜干涉的反射式法測量方法,,并研制了適用于工業(yè)應用的小型薄膜厚度測量系統(tǒng),考慮了成本,、穩(wěn)定性,、體積等因素要求。該系統(tǒng)結合了薄膜干涉和光譜共聚焦原理,,采用波長分辨下的薄膜反射干涉光譜模型,,利用經典模態(tài)分解和非均勻傅里葉變換的思想,提出了一種基于相位功率譜分析的膜厚解算算法,。該算法能夠有效利用全光譜數(shù)據(jù)準確提取相位變化,,抗干擾能力強,能夠排除環(huán)境噪聲等假頻干擾。經過對PVC標準厚度片,、PCB板芯片膜層及鍺基SiO2膜層的測量實驗驗證,,結果表明該測厚系統(tǒng)具有1~75微米厚度的測量量程和微米級的測量不確定度,而且無需對焦,,可以在10ms內完成單次測量,,滿足工業(yè)級測量需要的高效便捷的應用要求,。這種膜厚儀可以測量大氣壓下 ,。小型膜厚儀按需定制
目前,常用的顯微干涉方式主要有Mirau和Michelson兩種方式,。Mirau型顯微干涉結構中,,物鏡和被測樣品之間有兩塊平板,一塊涂覆高反射膜的平板作為參考鏡,,另一塊涂覆半透半反射膜的平板作為分光棱鏡,。由于參考鏡位于物鏡和被測樣品之間,物鏡外殼更加緊湊,,工作距離相對較短,,倍率一般為10-50倍。Mirau顯微干涉物鏡的參考端使用與測量端相同的顯微物鏡,,因此不存在額外的光程差,,因此是常用的顯微干涉測量方法之一。Mirau顯微干涉結構中,,參考鏡位于物鏡和被測樣品之間,,且物鏡外殼更加緊湊,工作距離相對較短,,倍率一般為10-50倍,。Mirau顯微干涉物鏡的參考端使用與測量端相同的顯微物鏡,因此不存在額外的光程差,,同時該結構具有高分辨率和高靈敏度等特點,,適用于微小樣品的測量。因此,,在生物醫(yī)學,、半導體工業(yè)等領域得到廣泛應用。品牌膜厚儀廠家供應隨著技術的進步和應用領域的拓展,,白光干涉膜厚儀的性能和功能將不斷提升和擴展,。
薄膜材料的厚度在納米級薄膜的各項相關參數(shù)中,是制備和設計中一個重要的參量,,也是決定薄膜性質和性能的關鍵參量之一,。然而,由于其極小尺寸及表面效應的影響,納米級薄膜的厚度準確測量變得困難,??蒲屑夹g人員通過不斷的探索研究,提出了新的薄膜厚度測量理論和技術,,并將測量方法從手動到自動,、有損到無損等不斷改進。對于不同性質的薄膜,,其適用的厚度測量方案也不相同,。在納米級薄膜中,采用光學原理的測量技術可以實現(xiàn)精度高,、速度快,、無損測量等優(yōu)點,成為主要的檢測手段,。典型的測量方法包括橢圓偏振法,、干涉法、光譜法,、棱鏡耦合法等,。
論文所研究的鍺膜厚度約300nm ,導致其白光干涉輸出光譜只有一個干涉峰,,此時常規(guī)基于相鄰干涉峰間距解調的方案(如峰峰值法等)將不再適用,。為此,我們提出了一種基于單峰值波長移動的白光干涉測量方案,,并設計搭建了膜厚測量系統(tǒng),。溫度測量實驗結果表明,峰值波長與溫度變化之間具有良好的線性關系,。利用該測量方案,,我們測得實驗用鍺膜的厚度為338.8nm,實驗誤差主要來自于溫度控制誤差和光源波長漂移,。論文通過對納米級薄膜厚度的測量方案研究,,實現(xiàn)了對鍺膜和金膜的厚度測量。論文主要的創(chuàng)新點是提出了白光干涉單峰值波長移動的解調方案,,并將其應用于極短光程差的測量,。白光干涉膜厚儀的應用非常廣,特別是在半導體,、光學,、電子和化學等領域。
白光干涉光譜分析是目前白光干涉測量的一個重要方向 ,,此項技術主要是利用光譜儀將對條紋的測量轉變成為對不同波長光譜的測量 ,。通過分析被測物體的光譜特性,,就能夠得到相應的長度信息和形貌信息。相比于白光掃描干涉術,,它不需要大量的掃描過程,,因此提高了測量效率,而且也減小了環(huán)境對它的影響,。此項技術能夠測量距離,、位移、塊狀材料的群折射率以及多層薄膜厚度,。白干干涉光譜法是基于頻域干涉的理論,,采用白光作為寬波段光源,經過分光棱鏡,,被分成兩束光,,這兩束光分別入射到參考面和被測物體,,反射回來后經過分光棱鏡合成后,,由色散元件分光至探測器,記錄頻域上的干涉信號,。此光譜信號包含了被測表面的信息,,如果此時被測物體是薄膜,則薄膜的厚度也包含在這光譜信號當中,。這樣就把白光干涉的精度和光譜測量的速度結合起來,,形成了一種精度高而且速度快的測量方法。白光干涉膜厚測量技術的優(yōu)化需要對實驗方法和算法進行改進,。小型膜厚儀產品原理
隨著技術的不斷進步和應用領域的擴展,,白光干涉膜厚儀的性能和功能將得到進一步提高。小型膜厚儀按需定制
薄膜作為重要元件 ,,通常使用金屬,、合金、化合物,、聚合物等作為其主要基材,,品類涵蓋光學膜、電隔膜,、阻隔膜,、保護膜、裝飾膜等多種功能性薄膜,,廣泛應用于現(xiàn)代光學,、電子、醫(yī)療,、能源,、建材等技術領域,。常用薄膜的厚度范圍從納米級到微米級不等。納米和亞微米級薄膜主要是基于干涉效應調制的光學薄膜,,包括各種增透增反膜,、偏振膜、干涉濾光片和分光膜等,。部分薄膜經特殊工藝處理后還具有耐高溫,、耐腐蝕、耐磨損等特性,,對通訊,、顯示、存儲等領域內光學儀器的質量起決定性作用[1-3],,如平面顯示器使用的ITO鍍膜,,太陽能電池表面的SiO2減反射膜等。微米級以上的薄膜以工農業(yè)薄膜為主,,多使用聚酯材料,,具有易改性、可回收,、適用范圍廣等特點,。例如6微米厚度以下的電容器膜,20微米厚度以下的大部分包裝印刷用薄膜,,25~38微米厚的建筑玻璃貼膜及汽車貼膜,,以及厚度為25~65微米的防偽標牌及拉線膠帶等。微米級薄膜利用其良好的延展,、密封,、絕緣特性,遍及食品包裝,、表面保護,、磁帶基材、感光儲能等應用市場,,加工速度快,,市場占比高。小型膜厚儀按需定制