白光干涉測(cè)量技術(shù),，也稱(chēng)為光學(xué)低相干干涉測(cè)量技術(shù),，使用的是低相干的寬譜光源,，如超輻射發(fā)光二極管,、發(fā)光二極管等。與所有光學(xué)干涉原理一樣,，白光干涉也是通過(guò)觀察干涉圖案變化來(lái)分析干涉光程差變化,，并通過(guò)各種解調(diào)方案實(shí)現(xiàn)對(duì)待測(cè)物理量的測(cè)量,。采用寬譜光源的優(yōu)點(diǎn)是，由于白光光源的相干長(zhǎng)度很?。ㄒ话銥閹孜⒚椎綆资⒚字g）,，所有波長(zhǎng)的零級(jí)干涉條紋重合于主極大值，即中心條紋,，與零光程差的位置對(duì)應(yīng),。因此，中心零級(jí)干涉條紋的存在為測(cè)量提供了一個(gè)可靠的位置參考,，只需一個(gè)干涉儀即可進(jìn)行待測(cè)物理量的測(cè)量,，克服了傳統(tǒng)干涉儀不能進(jìn)行測(cè)量的缺點(diǎn),。同時(shí),，相對(duì)于其他測(cè)量技術(shù)，白光干涉測(cè)量方法還具有環(huán)境不敏感,、抗干擾能力強(qiáng),、動(dòng)態(tài)范圍大、結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單和成本低廉等優(yōu)點(diǎn),。經(jīng)過(guò)幾十年的研究與發(fā)展,，白光干涉技術(shù)在膜厚、壓力,、溫度,、應(yīng)變、位移等領(lǐng)域已得到廣泛應(yīng)用,。光路長(zhǎng)度越長(zhǎng),，儀器分辨率越高，但也越容易受到干擾因素的影響,，需要采取降噪措施,。品牌膜厚儀定做

為限度提高靶丸內(nèi)爆壓縮效率 ，期望靶丸所有幾何參數(shù),、物性參數(shù)均為理想球?qū)ΨQ(chēng)狀態(tài),。因此，需要對(duì)靶丸殼層厚度分布進(jìn)行精密的檢測(cè),。靶丸殼層厚度常用的測(cè)量手法有X射線顯微輻照法,、激光差動(dòng)共焦法、白光干涉法等,。下面分別介紹了各個(gè)方法的特點(diǎn)與不足,，以及各種測(cè)量方法的應(yīng)用領(lǐng)域。白光干涉法[30]是以白光作為光源,，寬光譜的白光準(zhǔn)直后經(jīng)分光棱鏡分成兩束光,，一束光入射到參考鏡,。一束光入射到待測(cè)樣品。由計(jì)算機(jī)控制壓電陶瓷(PZT)沿Z軸方向進(jìn)行掃描,，當(dāng)兩路之間的光程差為零時(shí),，在分光棱鏡匯聚后再次被分成兩束，一束光通過(guò)光纖傳輸,，并由光譜儀收集,，另一束則被傳遞到CCD相機(jī)，用于樣品觀測(cè),。利用光譜分析算法對(duì)干涉信號(hào)圖進(jìn)行分析得到薄膜的厚度,。該方法能應(yīng)用靶丸殼層壁厚的測(cè)量，但是該測(cè)量方法需要已知靶丸殼層材料的折射率,，同時(shí),，該方法也難以實(shí)現(xiàn)靶丸殼層厚度分布的測(cè)量。蘇州膜厚儀檢測(cè)可以配合不同的軟件進(jìn)行分析和數(shù)據(jù)處理,，例如建立數(shù)據(jù)庫(kù),、統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)等。

薄膜是一種特殊的微結(jié)構(gòu),，在電子學(xué),、摩擦學(xué)、現(xiàn)代光學(xué)等領(lǐng)域得到了廣泛應(yīng)用,，因此薄膜的測(cè)試技術(shù)變得越來(lái)越重要,。尤其是在厚度這一特定方向上，尺寸很小,，基本上都是微觀可測(cè)量的,。因此，在微納測(cè)量領(lǐng)域中,，薄膜厚度的測(cè)試是一個(gè)非常重要且實(shí)用的研究方向,。在工業(yè)生產(chǎn)中，薄膜的厚度直接影響薄膜是否能正常工作,。在半導(dǎo)體工業(yè)中,，膜厚的測(cè)量是硅單晶體表面熱氧化厚度以及平整度質(zhì)量控制的重要手段。薄膜的厚度會(huì)影響其電磁性能,、力學(xué)性能和光學(xué)性能等,，因此準(zhǔn)確地測(cè)量薄膜的厚度成為一種關(guān)鍵技術(shù)。

本文溫所研究的鍺膜厚度約300nm,，導(dǎo)致其白光干涉輸出光譜只有一個(gè)干涉峰,，此時(shí)常規(guī)基于相鄰干涉峰間距解調(diào)的方案（如峰峰值法等）將不再適用。為此,，我們提出了一種基于單峰值波長(zhǎng)移動(dòng)的白光干涉測(cè)量方案,，并設(shè)計(jì)搭建了膜厚測(cè)量系統(tǒng),。溫度測(cè)量實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明，峰值波長(zhǎng)與溫度變化之間具有良好的線性關(guān)系,。利用該測(cè)量方案,，我們測(cè)得實(shí)驗(yàn)用鍺膜的厚度為338.8nm，實(shí)驗(yàn)誤差主要來(lái)自于溫度控制誤差和光源波長(zhǎng)漂移,。通過(guò)對(duì)納米級(jí)薄膜厚度的測(cè)量方案研究,，實(shí)現(xiàn)了對(duì)鍺膜和金膜的厚度測(cè)量。本文主要的創(chuàng)新點(diǎn)是提出了白光干涉單峰值波長(zhǎng)移動(dòng)的解調(diào)方案,，并將其應(yīng)用于極短光程差的測(cè)量,。白光干涉膜厚儀需要校準(zhǔn)。

由于不同性質(zhì)和形態(tài)的薄膜對(duì)系統(tǒng)的測(cè)量量程和精度的需求不盡相同,，因而多種測(cè)量方法各有優(yōu)缺,，難以一概而論。將上述各測(cè)量特點(diǎn)總結(jié)如表1-1所示,，按照薄膜厚度的增加,，適用的測(cè)量方式分別為橢圓偏振法、分光光度法,、共聚焦法和干涉法。對(duì)于小于1μm的較薄薄膜,，白光干涉輪廓儀的測(cè)量精度較低,，分光光度法和橢圓偏振法較適合。而對(duì)于小于200 nm的薄膜,，由于透過(guò)率曲線缺少峰谷值,，橢圓偏振法結(jié)果更加可靠?；诎坠飧缮嬖淼墓鈱W(xué)薄膜厚度測(cè)量方案目前主要集中于測(cè)量透明或者半透明薄膜,，通過(guò)使用不同的解調(diào)技術(shù)處理白光干涉的圖樣，得到待測(cè)薄膜厚度,。本章在詳細(xì)研究白光干涉測(cè)量技術(shù)的常用解調(diào)方案,、解調(diào)原理及其局限性的基礎(chǔ)上，分析得到了常用的基于兩個(gè)相鄰干涉峰的白光干涉解調(diào)方案不適用于極短光程差測(cè)量的結(jié)論,。在此基礎(chǔ)上,，我們提出了基于干涉光譜單峰值波長(zhǎng)移動(dòng)的白光干涉測(cè)量解調(diào)技術(shù)。它可以用不同的軟件進(jìn)行數(shù)據(jù)處理和分析,，比如建立數(shù)據(jù)庫(kù),、統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)等。光干涉膜厚儀大概價(jià)格多少

白光干涉膜厚測(cè)量技術(shù)的優(yōu)化需要對(duì)實(shí)驗(yàn)方法和算法進(jìn)行改進(jìn),。品牌膜厚儀定做

白光光譜法克服了干涉級(jí)次的模糊識(shí)別問(wèn)題 ,，具有動(dòng)態(tài)測(cè)量范圍大,，連續(xù)測(cè)量時(shí)波動(dòng)范圍小的特點(diǎn)，但在實(shí)際測(cè)量中,，由于測(cè)量誤差,、儀器誤差、擬合誤差等因素,，干涉級(jí)次的測(cè)量精度仍其受影響,，會(huì)出現(xiàn)干擾級(jí)次的誤判和干擾級(jí)次的跳變現(xiàn)象。導(dǎo)致公式計(jì)算得到的干擾級(jí)次m值與實(shí)際譜峰干涉級(jí)次m'(整數(shù))之間有誤差,。為得到準(zhǔn)確的干涉級(jí)次,，本文依據(jù)干涉級(jí)次的連續(xù)特性設(shè)計(jì)了以下校正流程圖，獲得了靶丸殼層光學(xué)厚度的精確值,。導(dǎo)入白光干涉光譜測(cè)量曲線,。品牌膜厚儀定做