光譜法是以光的干涉效應(yīng)為基礎(chǔ)的一種薄膜厚度測(cè)量方法 ,，分為反射法和透射法兩類(lèi)[12],。入射光在薄膜-基底-薄膜界面上的反射和透射會(huì)引起多光束干涉效應(yīng),，不同特性的薄膜材料的反射率和透過(guò)率曲線(xiàn)是不同的,，并且在全光譜范圍內(nèi)與厚度之間是一一對(duì)應(yīng)關(guān)系。因此,，根據(jù)這一光譜特性可以得到薄膜的厚度以及光學(xué)參數(shù)。光譜法的優(yōu)點(diǎn)是可以同時(shí)測(cè)量多個(gè)參數(shù)且可以有效的排除解的多值性,，測(cè)量范圍廣,，是一種無(wú)損測(cè)量技術(shù)；缺點(diǎn)是對(duì)樣品薄膜表面條件的依賴(lài)性強(qiáng),，測(cè)量穩(wěn)定性較差,，因而測(cè)量精度不高；對(duì)于不同材料的薄膜需要使用不同波段的光源等,。目前,，這種方法主要應(yīng)用于有機(jī)薄膜的厚度測(cè)量。該儀器的工作原理是通過(guò)測(cè)量反射光的干涉來(lái)計(jì)算膜層厚度,，基于反射率和相位差,。薄膜膜厚儀成本價(jià)

針對(duì)靶丸自身獨(dú)特的特點(diǎn)及極端實(shí)驗(yàn)條件需求 ，使得靶丸參數(shù)的測(cè)試工作變得異常復(fù)雜,。如何精確地測(cè)定靶丸的光學(xué)參數(shù),，一直是激光聚變研究者非常關(guān)注的課題。由于光學(xué)測(cè)量方法具有無(wú)損,、非接觸,、測(cè)量效率高、操作簡(jiǎn)便等優(yōu)越性,，靶丸參數(shù)測(cè)量通常采用光學(xué)測(cè)量方式,。常用的光學(xué)參數(shù)測(cè)量手段很多，目前,，常用于測(cè)量靶丸幾何參數(shù)或光學(xué)參數(shù)的測(cè)量方法有白光干涉法,、光學(xué)顯微干涉法、激光差動(dòng)共焦法等,。靶丸殼層折射率是沖擊波分時(shí)調(diào)控實(shí)驗(yàn)研究中的重要參數(shù),，因此，精密測(cè)量靶丸殼層折射率十分有意義。而常用的折射率測(cè)量方法[13],，如橢圓偏振法,、折射率匹配法、白光光譜法,、布儒斯特角法等,。蘇州膜厚儀位移計(jì)白光干涉膜厚測(cè)量技術(shù)可以實(shí)現(xiàn)對(duì)薄膜的大范圍測(cè)量和分析。

白光掃描干涉法采用白光為光源 ,，壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)參考鏡進(jìn)行掃描 ,，干涉條紋掃過(guò)被測(cè)面，通過(guò)感知相干峰位置來(lái)獲得表面形貌信息,。測(cè)量原理圖如圖1-5所示,。而對(duì)于薄膜的測(cè)量，上下表面形貌,、粗糙度,、厚度等信息能通過(guò)一次測(cè)量得到，但是由于薄膜上下表面的反射,，會(huì)使提取出來(lái)的白光干涉信號(hào)出現(xiàn)雙峰形式,，變得更復(fù)雜。另外,，由于白光掃描法需要掃描過(guò)程,，因此測(cè)量時(shí)間較長(zhǎng)而且易受外界干擾?；趫D像分割技術(shù)的薄膜結(jié)構(gòu)測(cè)試方法,，實(shí)現(xiàn)了對(duì)雙峰干涉信號(hào)的自動(dòng)分離，實(shí)現(xiàn)了薄膜厚度的測(cè)量,。

開(kāi)展白光干涉理論分析 ,，在此基礎(chǔ)詳細(xì)介紹了白光垂直掃描干涉技術(shù)和白光反射光譜技術(shù)的基本原理，完成了應(yīng)用于靶丸殼層折射率和厚度分布測(cè)量實(shí)驗(yàn)裝置的設(shè)計(jì)及搭建,。該實(shí)驗(yàn)裝置主要由白光反射光譜探測(cè)模塊,、靶丸吸附轉(zhuǎn)位模塊、三維運(yùn)動(dòng)模塊,、氣浮隔震平臺(tái)等幾部分組成,，可實(shí)現(xiàn)靶丸的負(fù)壓吸附、靶丸位置的精密調(diào)整以及靶丸360°范圍的旋轉(zhuǎn)及特定角度下靶丸殼層白光反射光譜的測(cè)量,?；诎坠獯怪睊呙韪缮婧桶坠夥瓷涔庾V的基本原理,建立了二者聯(lián)用的靶丸殼層折射率測(cè)量方法，該方法利用白光反射光譜測(cè)量靶丸殼層光學(xué)厚度,，利用白光垂直掃描干涉技術(shù)測(cè)量光線(xiàn)通過(guò)靶丸殼層后的光程增量,，二者聯(lián)立即可求得靶丸折射率和厚度數(shù)據(jù),。白光干涉膜厚測(cè)量技術(shù)可以應(yīng)用于光學(xué)元件制造中的薄膜厚度控制。

光纖白光干涉測(cè)量使用的是寬譜光源 ,。光源的輸出光功率和中心波長(zhǎng)的穩(wěn)定性是光源選取時(shí)需要重點(diǎn)考慮的參數(shù),。論文所設(shè)計(jì)的解調(diào)系統(tǒng)是通過(guò)檢測(cè)干涉峰值的中心波長(zhǎng)的移動(dòng)實(shí)現(xiàn)的，所以光源中心波長(zhǎng)的穩(wěn)定性將對(duì)實(shí)驗(yàn)結(jié)果產(chǎn)生很大的影響,。實(shí)驗(yàn)中我們所選用的光源是由INPHENIX公司生產(chǎn)的SLED光源,，相對(duì)于一般的寬帶光源具有輸出功率高、覆蓋光譜范圍寬等特點(diǎn),。該光源采用+5V的直流供電,，標(biāo)定中心波長(zhǎng)為1550nm，且其輸出功率在一定范圍內(nèi)是可調(diào)的,，驅(qū)動(dòng)電流可以達(dá)到600mA,。白光干涉膜厚測(cè)量技術(shù)可以在不同環(huán)境下進(jìn)行測(cè)量。納米級(jí)膜厚儀找哪家

增加光路長(zhǎng)度可以提高儀器分辨率,，但同時(shí)也會(huì)更容易受到振動(dòng)等干擾,，需要采取降噪措施。薄膜膜厚儀成本價(jià)

基于表面等離子體共振傳感的測(cè)量方案 ,，利用共振曲線(xiàn)的三個(gè)特征參量—共振角,、半高寬和反射率小值,，通過(guò)反演計(jì)算得到待測(cè)金屬薄膜的厚度,。該測(cè)量方案可同時(shí)得到金屬薄膜的介電常數(shù)和厚度，操作方法簡(jiǎn)單,。我們利用Kretschmann型結(jié)構(gòu)的表面等離子體共振實(shí)驗(yàn)系統(tǒng),，測(cè)得金膜在入射光波長(zhǎng)分別為632.8nm和652.1nm時(shí)的共振曲線(xiàn)，由此得到金膜的厚度為55.2nm,。由于該方案是一種強(qiáng)度測(cè)量方案,，測(cè)量精度受環(huán)境影響較大，且測(cè)量結(jié)果存在多值性的問(wèn)題,，所以我們進(jìn)一步對(duì)偏振外差干涉的改進(jìn)方案進(jìn)行了理論分析,，根據(jù)P光和S光之間相位差的變化實(shí)現(xiàn)厚度測(cè)量。薄膜膜厚儀成本價(jià)