根據(jù)以上分析可知 ,，白光干涉時域解調(diào)方案的優(yōu)點是：①能夠?qū)崿F(xiàn)測量,；②抗干擾能力強,，系統(tǒng)的分辨率與光源輸出功率的波動,，光源的波長漂移以及外界環(huán)境對光纖的擾動等因素無關(guān)；③測量精度與零級干涉條紋的確定精度以及反射鏡的精度有關(guān),；④結(jié)構(gòu)簡單,，成本較低。但是,，時域解調(diào)方法需要借助掃描部件移動干涉儀一端的反射鏡來進行相位補償,，所以掃描裝置的分辨率將影響系統(tǒng)的精度。采用這種解調(diào)方案的測量分辨率一般是幾個微米,，達到亞微米的分辨率，主要受機械掃描部件的分辨率和穩(wěn)定性限制,。文獻[46]所報道的位移掃描的分辨率可以達到0.54μm,。當所測光程差較小時，F(xiàn)-P腔前后表面干涉峰值相距很近,，難以區(qū)分,，此時時域解調(diào)方案的應(yīng)用受到限制,。白光干涉膜厚測量技術(shù)可以實現(xiàn)對薄膜的快速測量和分析 。高速膜厚儀技術(shù)指導

白光干涉的分析方法利用白光干涉感知空間位置的變化 ,，從而得到被測物體的信息 ,。它是在單色光相移干涉術(shù)的基礎(chǔ)上發(fā)展而來的。單色光相移干涉術(shù)利用光路使參考光和被測表面的反射光發(fā)生干涉,，再使用相移的方法調(diào)制相位,，利用干涉場中光強的變化計算出其每個數(shù)據(jù)點的初始相位，但是這樣得到的相位是位于（-π,，+π]間,，所以得到的是不連續(xù)的相位。因此,，需要進行相位展開使其變?yōu)檫B續(xù)相位,。再利用高度與相位的信息求出被測物體的表面形貌。單色光相移法具有測量速度快,、測量分辨力高,、對背景光強不敏感等優(yōu)點。但是,，由于單色光干涉無法確定干涉條紋的零級位置,。因此，在相位解包裹中無法得到相位差的周期數(shù),，所以只能假定相位差不超過一個周期,，相當于測試表面的相鄰高度不能超過四分之一波長[27]。這就限制了其測量的范圍,，使它只能測試連續(xù)結(jié)構(gòu)或者光滑表面結(jié)構(gòu),。微米級膜厚儀常見問題白光干涉膜厚儀可以配合不同的軟件進行分析和數(shù)據(jù)處理，例如建立數(shù)據(jù)庫,、統(tǒng)計數(shù)據(jù)等,。

薄膜作為一種特殊的微結(jié)構(gòu) ，近年來在電子學 ,、摩擦學,、現(xiàn)代光學得到了廣泛的應(yīng)用，薄膜的測試技術(shù)變得越來越重要,。尤其是在厚度這一特定方向上,，尺寸很小，基本上都是微觀可測量,。因此,，在微納測量領(lǐng)域中，薄膜厚度的測試是一個非常重要而且很實用的研究方向,。在工業(yè)生產(chǎn)中,，薄膜的厚度直接關(guān)系到薄膜能否正常工作,。在半導體工業(yè)中，膜厚的測量是硅單晶體表面熱氧化厚度以及平整度質(zhì)量控制的重要手段,。薄膜的厚度影響薄膜的電磁性能,、力學性能和光學性能等，所以準確地測量薄膜的厚度成為一種關(guān)鍵技術(shù),。

采用峰峰值法處理光譜數(shù)據(jù)時 ,，被測光程差的分辨率取決于光譜儀或CCD的分辨率。我們只需獲得相鄰的兩干涉峰值處的波長信息即可得出光程差,，不必關(guān)心此波長處的光強大小,，從而降低數(shù)據(jù)處理的難度。也可以利用多組相鄰的干涉光譜極值對應(yīng)的波長來分別求出光程差,，然后再求平均值作為測量光程差,，這樣可以提高該方法的測量精度。但是,，峰峰值法存在著一些缺點：當使用寬帶光源作為輸入光源時,，接收光譜中不可避免地疊加有與光源同分布的背景光，從而引起峰值處波長的改變,，引入測量誤差,。同時，當兩干涉信號之間的光程差很小,，導致其干涉光譜只有一個干涉峰的時候,，此法便不再適用。白光干涉膜厚儀是用于測量薄膜厚度的一種儀器,，可用于透明薄膜和平行表面薄膜的測量,。

光譜擬合法易于測量具有應(yīng)用領(lǐng)域 ，由于使用了迭代算法,，因此該方法的優(yōu)缺點在很大程度上取決于所選擇的算法,。隨著各種全局優(yōu)化算法的引入，遺傳算法和模擬退火算法等新算法被用于薄膜參數(shù)的測量,。其缺點是不夠?qū)嵱?，該方法需要一個較好的薄膜的光學模型(包括色散系數(shù)、吸收系數(shù),、多層膜系統(tǒng)),，但是在實際測試過程中，薄膜的色散和吸收的公式通常不準確,，尤其是對于多層膜體系,，建立光學模型非常困難，無法用公式準確地表示出來。在實際應(yīng)用中只能使用簡化模型,，因此，通常全光譜擬合法不如極值法有效,。另外該方法的計算速度慢也不能滿足快速計算的要求,。可測量大氣壓下薄膜厚度在1納米到1毫米之間,。國內(nèi)膜厚儀答疑解惑

白光干涉膜厚儀需要校準,，標準樣品的選擇和使用至關(guān)重要。高速膜厚儀技術(shù)指導

針對微米級工業(yè)薄膜厚度測量 ,，研究了基于寬光譜干涉的反射式法測量方法,。根據(jù)薄膜干涉及光譜共聚焦原理 ，綜合考慮成本,、穩(wěn)定性,、體積等因素要求，研制了滿足工業(yè)應(yīng)用的小型薄膜厚度測量系統(tǒng),。根據(jù)波長分辨下的薄膜反射干涉光譜模型,，結(jié)合經(jīng)典模態(tài)分解和非均勻傅里葉變換思想，提出了一種基于相位功率譜分析的膜厚解算算法,，能有效利用全光譜數(shù)據(jù)準確提取相位變化,，對由環(huán)境噪聲帶來的假頻干擾，具有很好的抗干擾性,。通過對PVC標準厚度片,，PCB板芯片膜層及鍺基SiO2膜層的測量實驗對系統(tǒng)性能進行了驗證，結(jié)果表明測厚系統(tǒng)具有1~75μm厚度的測量量程,，μm.的測量不確定度,。由于無需對焦，可在10ms內(nèi)完成單次測量,，滿足工業(yè)級測量高效便捷的應(yīng)用要求,。高速膜厚儀技術(shù)指導