采用峰峰值法處理光譜數(shù)據(jù)時(shí) ,，被測(cè)光程差的分辨率取決于光譜儀或CCD的分辨率。我們只需獲得相鄰的兩干涉峰值處的波長信息即可得出光程差,，不必關(guān)心此波長處的光強(qiáng)大小,，從而降低數(shù)據(jù)處理的難度。也可以利用多組相鄰的干涉光譜極值對(duì)應(yīng)的波長來分別求出光程差,，然后再求平均值作為測(cè)量光程差,，這樣可以提高該方法的測(cè)量精度。但是,，峰峰值法存在著一些缺點(diǎn)：當(dāng)使用寬帶光源作為輸入光源時(shí),，接收光譜中不可避免地疊加有與光源同分布的背景光，從而引起峰值處波長的改變,，引入測(cè)量誤差,。同時(shí),，當(dāng)兩干涉信號(hào)之間的光程差很小，導(dǎo)致其干涉光譜只有一個(gè)干涉峰的時(shí)候,，此法便不再適用,。光路長度越長，分辨率越高,，但同時(shí)也更容易受到靜態(tài)振動(dòng)等干擾因素的影響,。白光干涉膜厚儀測(cè)量方法

白光掃描干涉法能免除色光相移干涉術(shù)測(cè)量的局限性 。白光掃描干涉法采用白光作為光源,，白光作為一種寬光譜的光源,，相干長度較短，因此發(fā)生干涉的位置只能在很小的空間范圍內(nèi),。而且在白光干涉時(shí),，有一個(gè)確切的零點(diǎn)位置。測(cè)量光和參考光的光程相等時(shí),，所有波段的光都會(huì)發(fā)生相長干涉，這時(shí)就能觀測(cè)到有一個(gè)很明亮的零級(jí)條紋,，同時(shí)干涉信號(hào)也出現(xiàn)最大值,，通過分析這個(gè)干涉信號(hào)，就能得到表面上對(duì)應(yīng)數(shù)據(jù)點(diǎn)的相對(duì)高度,，從而得到被測(cè)物體的幾何形貌,。白光掃描干涉術(shù)是通過測(cè)量干涉條紋來完成的，而干涉條紋的清晰度直接影響測(cè)試精度,。因此,，為了提高精度，就需要更為復(fù)雜的光學(xué)系統(tǒng),，這使得條紋的測(cè)量變成一項(xiàng)費(fèi)力又費(fèi)時(shí)的工作,。高精度膜厚儀銷售價(jià)格可以配合不同的軟件進(jìn)行分析和數(shù)據(jù)處理，例如建立數(shù)據(jù)庫,、統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)等 ,。

在納米量級(jí)薄膜的各項(xiàng)相關(guān)參數(shù)中 ，薄膜材料的厚度是薄膜設(shè)計(jì)和制備過程中的重要參數(shù),，是決定薄膜性質(zhì)和性能的基本參量之一,，它對(duì)于薄膜的光學(xué)、力學(xué)和電磁性能等都有重要的影響[3],。但是由于納米量級(jí)薄膜的極小尺寸及其突出的表面效應(yīng),，使得對(duì)其厚度的準(zhǔn)確測(cè)量變得困難。經(jīng)過眾多科研技術(shù)人員的探索和研究,，新的薄膜厚度測(cè)量理論和測(cè)量技術(shù)不斷涌現(xiàn),，測(cè)量方法實(shí)現(xiàn)了從手動(dòng)到自動(dòng)，有損到無損測(cè)量。由于待測(cè)薄膜材料的性質(zhì)不同,，其適用的厚度測(cè)量方案也不盡相同,。對(duì)于厚度在納米量級(jí)的薄膜，利用光學(xué)原理的測(cè)量技術(shù)應(yīng)用,。相比于其他方法,，光學(xué)測(cè)量方法因?yàn)榫哂芯雀撸俣瓤?，無損測(cè)量等優(yōu)勢(shì)而成為主要的檢測(cè)手段,。其中具有代表性的測(cè)量方法有橢圓偏振法，干涉法,，光譜法,，棱鏡耦合法等。

光譜擬合法易于測(cè)量具有應(yīng)用領(lǐng)域 ,，由于使用了迭代算法,，因此該方法的優(yōu)缺點(diǎn)在很大程度上取決于所選擇的算法。隨著各種全局優(yōu)化算法的引入,，遺傳算法和模擬退火算法等新算法被用于薄膜參數(shù)的測(cè)量,。其缺點(diǎn)是不夠?qū)嵱茫摲椒ㄐ枰粋€(gè)較好的薄膜的光學(xué)模型(包括色散系數(shù),、吸收系數(shù),、多層膜系統(tǒng))，但是在實(shí)際測(cè)試過程中,，薄膜的色散和吸收的公式通常不準(zhǔn)確,，尤其是對(duì)于多層膜體系，建立光學(xué)模型非常困難,，無法用公式準(zhǔn)確地表示出來,。在實(shí)際應(yīng)用中只能使用簡(jiǎn)化模型，因此,，通常全光譜擬合法不如極值法有效,。另外該方法的計(jì)算速度慢也不能滿足快速計(jì)算的要求?？偟膩碚f,，白光干涉膜厚儀是一種應(yīng)用廣、具有高精度和可靠性的薄膜厚度測(cè)量?jī)x器,。

論文所研究的鍺膜厚度約300nm ,，導(dǎo)致其白光干涉輸出光譜只有一個(gè)干涉峰，此時(shí)常規(guī)基于相鄰干涉峰間距解調(diào)的方案（如峰峰值法等）將不再適用,。為此,，我們提出了一種基于單峰值波長移動(dòng)的白光干涉測(cè)量方案,，并設(shè)計(jì)搭建了膜厚測(cè)量系統(tǒng)。溫度測(cè)量實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,，峰值波長與溫度變化之間具有良好的線性關(guān)系,。利用該測(cè)量方案，我們測(cè)得實(shí)驗(yàn)用鍺膜的厚度為338.8nm,，實(shí)驗(yàn)誤差主要來自于溫度控制誤差和光源波長漂移,。論文通過對(duì)納米級(jí)薄膜厚度的測(cè)量方案研究，實(shí)現(xiàn)了對(duì)鍺膜和金膜的厚度測(cè)量,。論文主要的創(chuàng)新點(diǎn)是提出了白光干涉單峰值波長移動(dòng)的解調(diào)方案,，并將其應(yīng)用于極短光程差的測(cè)量。白光干涉膜厚測(cè)量技術(shù)的優(yōu)化需要對(duì)實(shí)驗(yàn)方法和算法進(jìn)行改進(jìn),。國產(chǎn)膜厚儀品牌企業(yè)

白光干涉膜厚儀可以配合不同的軟件進(jìn)行分析和數(shù)據(jù)處理,，例如建立數(shù)據(jù)庫、統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)等,。白光干涉膜厚儀測(cè)量方法

薄膜作為重要元件 ,，通常使用金屬、合金,、化合物,、聚合物等作為其主要基材，品類涵蓋光學(xué)膜,、電隔膜、阻隔膜,、保護(hù)膜,、裝飾膜等多種功能性薄膜，廣泛應(yīng)用于現(xiàn)代光學(xué),、電子,、醫(yī)療、能源,、建材等技術(shù)領(lǐng)域,。常用薄膜的厚度范圍從納米級(jí)到微米級(jí)不等。納米和亞微米級(jí)薄膜主要是基于干涉效應(yīng)調(diào)制的光學(xué)薄膜,，包括各種增透增反膜,、偏振膜、干涉濾光片和分光膜等,。部分薄膜經(jīng)特殊工藝處理后還具有耐高溫,、耐腐蝕、耐磨損等特性,，對(duì)通訊,、顯示,、存儲(chǔ)等領(lǐng)域內(nèi)光學(xué)儀器的質(zhì)量起決定性作用[1-3]，如平面顯示器使用的ITO鍍膜,，太陽能電池表面的SiO2減反射膜等,。微米級(jí)以上的薄膜以工農(nóng)業(yè)薄膜為主，多使用聚酯材料,，具有易改性,、可回收、適用范圍廣等特點(diǎn),。例如6微米厚度以下的電容器膜,，20微米厚度以下的大部分包裝印刷用薄膜，25~38微米厚的建筑玻璃貼膜及汽車貼膜,，以及厚度為25~65微米的防偽標(biāo)牌及拉線膠帶等,。微米級(jí)薄膜利用其良好的延展、密封,、絕緣特性,，遍及食品包裝、表面保護(hù),、磁帶基材,、感光儲(chǔ)能等應(yīng)用市場(chǎng)，加工速度快,，市場(chǎng)占比高,。白光干涉膜厚儀測(cè)量方法