自上世紀(jì)60年代起 ,，利用X及β射線、近紅外光源開發(fā)的在線薄膜測厚系統(tǒng)廣泛應(yīng)用于西方先進國家的工業(yè)生產(chǎn)線中,。20世紀(jì)70年代后,，為滿足日益增長的質(zhì)檢需求，電渦流,、電磁電容,、超聲波、晶體振蕩等多種膜厚測量技術(shù)相繼問世,。90年代中期,，隨著離子輔助、離子束濺射,、磁控濺射,、凝膠溶膠等新型薄膜制備技術(shù)取得巨大突破，以橢圓偏振法和光度法為展示的光學(xué)檢測技術(shù)以高精度,、低成本,、輕便環(huán)保、高速穩(wěn)固為研發(fā)方向不斷迭代更新,，迅速占領(lǐng)日用電器及工業(yè)生產(chǎn)市場,，并發(fā)展出依據(jù)用戶需求個性化定制產(chǎn)品的能力。其中,，對于市場份額占比較大的微米級薄膜,，除要求測量系統(tǒng)不僅具有百納米級的測量準(zhǔn)確度及分辨力以外，還要求測量系統(tǒng)在存在不規(guī)則環(huán)境干擾的工業(yè)現(xiàn)場下,，具備較高的穩(wěn)定性和抗干擾能力,。白光干涉膜厚測量技術(shù)可以應(yīng)用于光學(xué)元件制造中的薄膜厚度控制。光干涉膜厚儀標(biāo)價

論文所研究的鍺膜厚度約300nm ,，導(dǎo)致其白光干涉輸出光譜只有一個干涉峰,，此時常規(guī)基于相鄰干涉峰間距解調(diào)的方案（如峰峰值法等）將不再適用。為此,，我們提出了一種基于單峰值波長移動的白光干涉測量方案,，并設(shè)計搭建了膜厚測量系統(tǒng)。溫度測量實驗結(jié)果表明,，峰值波長與溫度變化之間具有良好的線性關(guān)系,。利用該測量方案，我們測得實驗用鍺膜的厚度為338.8nm,，實驗誤差主要來自于溫度控制誤差和光源波長漂移,。論文通過對納米級薄膜厚度的測量方案研究，實現(xiàn)了對鍺膜和金膜的厚度測量,。論文主要的創(chuàng)新點是提出了白光干涉單峰值波長移動的解調(diào)方案,，并將其應(yīng)用于極短光程差的測量。原裝膜厚儀誠信企業(yè)推薦工作原理是基于膜層與底材反射率及相位差,，通過測量反射光的干涉來計算膜層厚度,。

根據(jù)以上分析可知 ,，白光干涉時域解調(diào)方案的優(yōu)點是：①能夠?qū)崿F(xiàn)測量；②抗干擾能力強,，系統(tǒng)的分辨率與光源輸出功率的波動,，光源的波長漂移以及外界環(huán)境對光纖的擾動等因素?zé)o關(guān)；③測量精度與零級干涉條紋的確定精度以及反射鏡的精度有關(guān),；④結(jié)構(gòu)簡單,，成本較低。但是,，時域解調(diào)方法需要借助掃描部件移動干涉儀一端的反射鏡來進行相位補償,，所以掃描裝置的分辨率將影響系統(tǒng)的精度。采用這種解調(diào)方案的測量分辨率一般是幾個微米,，達到亞微米的分辨率,，主要受機械掃描部件的分辨率和穩(wěn)定性限制。文獻[46]所報道的位移掃描的分辨率可以達到0.54μm,。當(dāng)所測光程差較小時,，F(xiàn)-P腔前后表面干涉峰值相距很近，難以區(qū)分,，此時時域解調(diào)方案的應(yīng)用受到限制,。

白光干涉光譜分析是目前白光干涉測量的一個重要方向 ，此項技術(shù)主要是利用光譜儀將對條紋的測量轉(zhuǎn)變成為對不同波長光譜的測量 ,。通過分析被測物體的光譜特性,，就能夠得到相應(yīng)的長度信息和形貌信息。相比于白光掃描干涉術(shù),，它不需要大量的掃描過程,，因此提高了測量效率，而且也減小了環(huán)境對它的影響,。此項技術(shù)能夠測量距離,、位移、塊狀材料的群折射率以及多層薄膜厚度,。白干干涉光譜法是基于頻域干涉的理論,，采用白光作為寬波段光源，經(jīng)過分光棱鏡,，被分成兩束光,，這兩束光分別入射到參考面和被測物體，反射回來后經(jīng)過分光棱鏡合成后,，由色散元件分光至探測器,，記錄頻域上的干涉信號。此光譜信號包含了被測表面的信息,，如果此時被測物體是薄膜,，則薄膜的厚度也包含在這光譜信號當(dāng)中,。這樣就把白光干涉的精度和光譜測量的速度結(jié)合起來，形成了一種精度高而且速度快的測量方法,。白光干涉膜厚測量技術(shù)的優(yōu)化需要對實驗方法和算法進行改進 ,。

利用包絡(luò)線法計算薄膜的光學(xué)常數(shù)和厚度 ，但目前看來包絡(luò)法還存在很多不足,，包絡(luò)線法需要產(chǎn)生干涉波動，要求在測量波段內(nèi)存在多個干涉極值點,，且干涉極值點足夠多,，精度才高。理想的包絡(luò)線是根據(jù)聯(lián)合透射曲線的切點建立的,，在沒有正確方法建立包絡(luò)線時,，通常使用拋物線插值法建立，這樣造成的誤差較大,。包絡(luò)法對測量對象要求高,，如果薄膜較薄或厚度不足情況下，會造成干涉條紋減少,，干涉波峰個數(shù)較少,，要利用干涉極值點建立包絡(luò)線就越困難，且利用拋物線插值法擬合也很困難,，從而降低該方法的準(zhǔn)確度,。其次，薄膜吸收的強弱也會影響該方法的準(zhǔn)確度,，對于吸收較強的薄膜,，隨干涉條紋減少，極大值與極小值包絡(luò)線逐漸匯聚成一條曲線,，該方法就不再適用,。因此，包絡(luò)法適用于膜層較厚且弱吸收的樣品,。白光干涉膜厚儀需要校準(zhǔn),，標(biāo)準(zhǔn)樣品的選擇和使用至關(guān)重要。國產(chǎn)膜厚儀詳情

白光干涉膜厚儀可以配合不同的軟件進行分析和數(shù)據(jù)處理,，例如建立數(shù)據(jù)庫,、統(tǒng)計數(shù)據(jù)等。光干涉膜厚儀標(biāo)價

針對靶丸自身獨特的特點及極端實驗條件需求 ,，使得靶丸參數(shù)的測試工作變得異常復(fù)雜,。如何精確地測定靶丸的光學(xué)參數(shù)，一直是激光聚變研究者非常關(guān)注的課題,。由于光學(xué)測量方法具有無損,、非接觸,、測量效率高、操作簡便等優(yōu)越性,，靶丸參數(shù)測量通常采用光學(xué)測量方式,。常用的光學(xué)參數(shù)測量手段很多，目前,，常用于測量靶丸幾何參數(shù)或光學(xué)參數(shù)的測量方法有白光干涉法,、光學(xué)顯微干涉法、激光差動共焦法等,。靶丸殼層折射率是沖擊波分時調(diào)控實驗研究中的重要參數(shù),，因此，精密測量靶丸殼層折射率十分有意義,。而常用的折射率測量方法[13],，如橢圓偏振法、折射率匹配法,、白光光譜法,、布儒斯特角法等。光干涉膜厚儀標(biāo)價