在電池制造流程里,，電解液的注入環(huán)節(jié)堪稱重中之重,，其對溫濕度的要求近乎嚴(yán)苛,。哪怕是極其細(xì)微的溫度波動(dòng),，都可能引發(fā)電解液的密度與黏度發(fā)生改變,。這看似不起眼的變化,，卻會(huì)直接干擾注液量的控制,。一旦注液量出現(xiàn)偏差,，電池內(nèi)部的電化學(xué)反應(yīng)便無法在正常狀態(tài)下進(jìn)行,，導(dǎo)致電池容量大打折扣,，使用壽命也大幅縮短。而當(dāng)濕度攀升過高,，空氣中游離的水分便會(huì)趁機(jī)混入電解液之中,。這些水分會(huì)與電解液的成分發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，生成一系列有害雜質(zhì),。這些雜質(zhì)會(huì)無情地腐蝕電池內(nèi)部結(jié)構(gòu),，嚴(yán)重破壞電池的穩(wěn)定性與安全性，給電池的使用埋下諸多隱患,。電子顯微鏡觀測時(shí),，設(shè)備營造的穩(wěn)定環(huán)境，確保成像清晰，助力科研突破,。精密加工恒溫恒濕

我司自主研發(fā)的高精密控溫技術(shù),，控制輸出精度達(dá) 0.1%，能精細(xì)掌控溫度變化,。溫度波動(dòng)控制可選 ±0.1℃,、±0.05℃、±0.01℃,、±0.005℃,、±0.002℃等多檔，滿足嚴(yán)苛溫度需求,。該系統(tǒng)潔凈度表現(xiàn)優(yōu)異,，可達(dá)百級、十級,、一級,。關(guān)鍵區(qū)域靜態(tài)溫度穩(wěn)定性 ±5mK，內(nèi)部溫度均勻性小于 16mK/m,，為芯片研發(fā)等敏感項(xiàng)目營造理想溫場,，保障實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)不受溫度干擾。濕度方面,，8 小時(shí)內(nèi)穩(wěn)定性可達(dá) ±0.5%,；壓力穩(wěn)定性為 +/-3Pa，設(shè)備還能連續(xù)穩(wěn)定工作 144 小時(shí),，助力長時(shí)間實(shí)驗(yàn)與制造,。在潔凈度上，工作區(qū)潔凈度優(yōu)于 ISO class3,，既確保實(shí)驗(yàn)結(jié)果準(zhǔn)確可靠,，又保障精密儀器正常工作與使用壽命，推動(dòng)科研與生產(chǎn)進(jìn)步,。江蘇半導(dǎo)體恒溫恒濕該系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn)潔凈度百級,、十級、一級,，溫度波動(dòng)值±0.1℃,、±0.05℃、±0.01℃,、±0.005℃,、±0.002℃。

在高濕度環(huán)境中,，空氣里水汽含量增大，這對光學(xué)儀器而言，無疑是巨大的威脅,。儀器內(nèi)部的鏡片猶如極易受潮的精密元件,，當(dāng)水汽附著其上，便會(huì)在表面悄然形成一層輕薄且均勻的水膜,。這層水膜宛如光線傳播的阻礙,，大幅降低光線的透過率，致使成像亮度明顯減弱,，對比度也隨之降低,，觀測視野仿佛被蒙上一層朦朧的薄紗，原本清晰的景象變得模糊不清,。倘若光學(xué)儀器長期處于這樣的高濕度環(huán)境,，問題將愈發(fā)嚴(yán)重。水汽會(huì)逐漸滲透至鏡片與鏡筒的結(jié)合處,，對金屬部件發(fā)起 “攻擊”,，使之遭受腐蝕。隨著時(shí)間的推移,，金屬部件被腐蝕得千瘡百孔,，無法穩(wěn)固地固定鏡片，導(dǎo)致鏡片出現(xiàn)松動(dòng)現(xiàn)象,，光路精度被進(jìn)一步破壞,。對于那些運(yùn)用鍍膜技術(shù)來提升光學(xué)性能的鏡片，高濕度同樣是一大勁敵,，它會(huì)使鍍膜層受損,，鏡片的抗反射能力大打折扣，進(jìn)而嚴(yán)重影響成像效果,，讓光學(xué)儀器難以發(fā)揮應(yīng)有的作用,。

我司憑借深厚的技術(shù)積累，自主研發(fā)出高精密控溫技術(shù),，精度高達(dá) 0.1% 的控制輸出,。溫度波動(dòng)值可實(shí)現(xiàn)±0.1℃、±0.05℃,、±0.01℃,、±0.005℃、±0.002℃等精密環(huán)境控制,。該系統(tǒng)潔凈度可實(shí)現(xiàn)百級,、十級、一級,。關(guān)鍵區(qū)域 ±5mK（靜態(tài)）的溫度穩(wěn)定性,，以及均勻性小于 16mK/m 的內(nèi)部溫度規(guī)格，為諸如芯片研發(fā)這類對溫度極度敏感的項(xiàng)目，打造了近乎完美的溫場環(huán)境,，保障實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)不受溫度干擾,。同時(shí)，設(shè)備內(nèi)部濕度穩(wěn)定性可達(dá)±0.5%@8h,，壓力穩(wěn)定性可達(dá)+/-3Pa,，長達(dá) 144h 的連續(xù)穩(wěn)定工作更是讓長時(shí)間實(shí)驗(yàn)和制造無后顧之憂。在潔凈度方面,，實(shí)現(xiàn)百級以上潔凈度控制,，工作區(qū)潔凈度優(yōu)于 ISO class3，確保實(shí)驗(yàn)結(jié)果的準(zhǔn)確性與可靠性,，也保障了精密儀器的正常工作和使用壽命,。針對一些局部溫度波動(dòng)精度要求比較高的區(qū)域，可以采用局部氣浴的控制方式,，對局部進(jìn)行高精密溫控,。

光刻設(shè)備對溫濕度的要求也極高，光源發(fā)出的光線需經(jīng)過一系列復(fù)雜的光學(xué)系統(tǒng)聚焦到硅片表面特定區(qū)域,，以實(shí)現(xiàn)對光刻膠的曝光,，將設(shè)計(jì)好的電路圖案印制上去。當(dāng)環(huán)境溫度出現(xiàn)極其微小的波動(dòng),，哪怕只是零點(diǎn)幾攝氏度的變化,，光刻機(jī)內(nèi)部的精密光學(xué)元件就會(huì)因熱脹冷縮特性而產(chǎn)生細(xì)微的尺寸改變。這些光學(xué)元件包括鏡片,、反射鏡等,，它們的微小位移或形狀變化，會(huì)使得光路發(fā)生偏差,。原本校準(zhǔn),、聚焦于硅片特定坐標(biāo)的光線，就可能因?yàn)楣饴返母淖兌x預(yù)定的曝光位置,，出現(xiàn)曝光位置的漂移,。提供培訓(xùn)服務(wù)，讓用戶熟練掌握設(shè)備操作與維護(hù)要點(diǎn),。白光干涉儀恒溫恒濕調(diào)節(jié)

精密環(huán)境控制設(shè)備內(nèi)部,，關(guān)鍵區(qū)域靜態(tài)下溫度穩(wěn)定性高，可達(dá) +/-5mK 精度,。精密加工恒溫恒濕

在航天器電子元器件的制造和裝配過程中,，精密環(huán)控柜的作用同樣關(guān)鍵。電子元器件對靜電,、潔凈度以及溫濕度都十分敏感,。靜電可能會(huì)擊穿電子元件,，導(dǎo)致其損壞；而不合適的溫濕度條件會(huì)影響電子元件的性能和可靠性,。精密環(huán)控柜通過配備高效的靜電消除裝置以及精確的溫濕度控制系統(tǒng),，為電子元器件的生產(chǎn)提供了一個(gè)穩(wěn)定、潔凈且無靜電干擾的環(huán)境,。這不僅保證了電子元器件在制造過程中的質(zhì)量，也提高了其在航天器復(fù)雜空間環(huán)境下的穩(wěn)定性和可靠性,，為我國航空航天事業(yè)的蓬勃發(fā)展奠定了堅(jiān)實(shí)基礎(chǔ),。精密加工恒溫恒濕