激光檢測(cè)器同時(shí)檢測(cè)顆粒對(duì)光的散射程度,，根據(jù)米氏散射理論,，得出不同尺寸顆粒的相對(duì)含量,，從而得到顆粒粒徑的分布曲線,。主要參數(shù)：測(cè)量范圍：0.005-75μm，光源：405nmLED，旋轉(zhuǎn)速度：12.000RPM,、18.000RPM,、24.000RPM，標(biāo)準(zhǔn)分析圓盤：CR-39聚合物（耐有機(jī)溶劑和水溶液）,，可選 配：低密度樣品分析擴(kuò)展,、變速圓盤；自動(dòng)密度梯度液生成器（型號(hào)AG300）,；自動(dòng)進(jìn)樣器（型號(hào)AS200）,；標(biāo)定用標(biāo)準(zhǔn)顆粒。半導(dǎo)體CMP用拋光墊,、清洗液,、修整盤、拋光液,、納米研磨粒子以及OLED顯示光敏聚酰亞胺,、封裝墨水、低溫光阻材料等20余款“卡脖子”材料,。我公司生產(chǎn)的產(chǎn)品,、設(shè)備用途非常多。重慶納米粒度分析儀

對(duì)于粒徑分布范圍很寬的樣品,，通過可選的速度調(diào)節(jié)功能圓盤,，只需常規(guī)圓盤分析時(shí)間的1/20。經(jīng)過CPS納米粒度儀對(duì)裂解后炭黑進(jìn)行粒徑測(cè)試后的結(jié)果所示：與掃描電鏡所顯示的結(jié)果基本一致,，裂解后的炭黑較小粒徑為3um,，較大可至50多微米，并且出現(xiàn)很多峰值,，證明樣液中具有不同粒徑且含量不同的的炭黑,。峰值粒徑處于30um左右。真實(shí)反映了不同炭黑粒徑的分布狀態(tài),。隨著半導(dǎo)體工業(yè)飛速發(fā)展，電子器件尺寸縮小,，要求晶片表面平整度達(dá)到納米級(jí),。作為芯片制造不可或缺的一環(huán)，CMP工藝在設(shè)備和材料領(lǐng)域歷來是受歡迎的,。四川納米粒度分析儀價(jià)格馳光機(jī)電科技設(shè)備的引進(jìn)更加豐富了公司的設(shè)備品種,，為用戶提供了更多的選擇空間。

CPS分析儀基本原理：CPS納米粒度分析儀依據(jù)Stokes定律,，V=D2(ρP-ρF)G/18η,，即顆粒沉降的速度與顆粒的尺寸平方成正比來進(jìn)行粒度的測(cè)量,。待測(cè)樣品從圓盤中心進(jìn)入高速旋轉(zhuǎn)的圓盤，在離心力的作用下發(fā)生沉降,，沉降的速度遵循Stokes公式，在距離圓盤的邊緣固定位置設(shè)有激光檢測(cè)器,，顆粒按尺寸大小依次通過探測(cè)器,，儀器記錄顆粒通過探測(cè)器的時(shí)間，由于所有顆粒走過的路程都一樣,，因此,，顆粒運(yùn)動(dòng)所需的時(shí)間與顆粒本身尺寸的平方成反比，激光檢測(cè)器同時(shí)檢測(cè)顆粒對(duì)光的散射程度,。

為了提高粒徑的測(cè)量精度,，需要較高的圓盤轉(zhuǎn)速，目前市面上常見的運(yùn)行速度較高在15000RPM,，而國內(nèi)在1500RPM,，無法滿足CPM化學(xué)機(jī)械拋光的需求。CPS-24000納米粒度儀的最高轉(zhuǎn)速為24000轉(zhuǎn),，測(cè)試范圍在5nm-75um,，每次加樣只需要0.1ml，降低樣液的測(cè)試成本,，可連續(xù)測(cè)量多達(dá)40個(gè)樣品,。CPS納米粒度分析儀的使用方法已經(jīng)列入國標(biāo)，包括《金屬粉末粒度分布的測(cè)量-重力沉淀光透法》,、《煤礦粉塵粒度分布測(cè)定方法》,、《橡膠配合劑-炭黑-聚集體尺寸的測(cè)定-使用光跟蹤盤式離心沉淀儀法》等。馳光機(jī)電是多層次的團(tuán)體與管理模式,。

能夠允許用戶為不同樣品設(shè)置標(biāo)準(zhǔn)測(cè)量方法SOP,，并且可以對(duì)SOP進(jìn)行編輯和保存。EyeTech 是一個(gè)模塊化的系統(tǒng),，可以選配10種不同的測(cè)量池,。更換測(cè)量池簡(jiǎn)便快速，儀器便于分析各種顆粒,，如液相,、乳化液、干粉,、纖維,、磁粉、加熱的液體和氣溶膠等,。這些測(cè)量池模塊都是配合不同的分析方法而開發(fā)的,，確保能夠根據(jù)樣品的特性來測(cè)量,。纖維測(cè)量池：ACM-104L，氣溶膠測(cè)量池ACM-106,，微流量測(cè)量池ACM-108,，載玻片測(cè)量池ACM-110，加熱測(cè)量池ACM-111,，自由落體測(cè)量池ACM-112,。在每一次分析過程中，激光光束與顆粒之間發(fā)生了上百萬次的交互作用,。馳光機(jī)電科技以發(fā)展求壯大,，就一定會(huì)贏得更好的明天。吉林病毒顆粒分析儀哪家好

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為了實(shí)現(xiàn)較佳過程控制,，樣品測(cè)量時(shí)間為5分鐘左右,。催化劑濃度通常在40至1000ppm范圍內(nèi)。C-Quand在線XRF分析儀是一款真正的過程分析儀,，專為化工廠的惡劣環(huán)境而設(shè)計(jì),。分析儀配置和操作簡(jiǎn)單。它配有模擬和串行數(shù)據(jù)傳輸協(xié)議,。C-Quand在線 XRF分析儀可以連續(xù)測(cè)量多達(dá)四個(gè)流路,，每個(gè)流都有自己的校準(zhǔn)曲線。此外,，C-Quand在線XRF分析儀有各種方法來檢查和確?？煽康臄?shù)據(jù)。每小時(shí)分析一次內(nèi)置的固體參考,。有了這個(gè)內(nèi)置的自動(dòng)參考,，您將能夠在一年內(nèi)實(shí)現(xiàn)無漂移過程測(cè)量。重慶納米粒度分析儀