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包括以下步驟:①對(duì)釹鐵硼磁體進(jìn)行預(yù)處理;②對(duì)預(yù)處理后的釹鐵硼磁體進(jìn)行連續(xù)磁控濺射鍍鎳處理,;③對(duì)連續(xù)磁控濺射鍍鎳處理后的釹鐵硼磁體進(jìn)行電鍍化學(xué)鎳處理,。本實(shí)施例中,對(duì)預(yù)處理后的釹鐵硼磁體進(jìn)行連續(xù)磁控濺射鍍鎳處理的具體過程為:②-1搭建對(duì)預(yù)處理后的釹鐵硼磁體進(jìn)行連續(xù)磁控濺射鍍鎳處理過程中所需的處理室,,處理室包括從前往后依次設(shè)置的五個(gè)工作室,,每相鄰兩個(gè)工作室之間設(shè)置封閉門,當(dāng)相鄰兩個(gè)工作室之間設(shè)置的封閉門打開時(shí),,該相鄰兩個(gè)工作室連通,,當(dāng)相鄰兩個(gè)工作室之間設(shè)置的封閉門封閉時(shí),該相鄰兩個(gè)工作室隔離,;在初始狀態(tài),所有的封閉門均處于封閉狀態(tài),;設(shè)置一自動(dòng)傳送設(shè)備貫穿五個(gè)工作室,,將五個(gè)工作室從前往后依次稱為進(jìn)料室、預(yù)熱室,、磁控濺射室,、冷卻室和出料室,②-2將釹鐵硼磁體間隔擺放至網(wǎng)板上,,每相鄰兩塊釹鐵硼磁體之間的間隔距離大于釹鐵硼磁體的厚度,;②-3將擺放好釹鐵硼磁體的網(wǎng)板采用自動(dòng)傳送設(shè)備送入進(jìn)料室,然后將進(jìn)料室密封后抽真空至×10-3pa,;②-4將進(jìn)料室和預(yù)熱室之間的封閉門打開,,自動(dòng)傳送設(shè)備將進(jìn)料室中的釹鐵硼磁體送入預(yù)熱室中,將進(jìn)料室和預(yù)熱室之間的封閉門再次封閉,,在預(yù)熱室中采用預(yù)烘設(shè)備對(duì)釹鐵硼磁體進(jìn)行預(yù)烘,。釹鐵硼磁體的磁性能優(yōu)異,能夠滿足磁力計(jì)的需求,。方形釹鐵硼價(jià)格
為后續(xù)的浸滲工藝和表面處理工藝打下良好的基礎(chǔ),,保證后續(xù)浸滲工藝和表面處理工藝的效果。所述的浸滲處理的具體過程為:②-1將浸滲膠水倒入真空浸滲罐中,,浸滲膠水溫度保持在20℃以下,;②-2將前處理后的粘結(jié)釹鐵硼磁體,裝入網(wǎng)袋或者網(wǎng)籃中后放入真空浸滲罐中,,浸滲膠水的液面高度高于粘結(jié)釹鐵硼磁體至少15mm,;②-3采用蓋子將真空浸滲罐封閉后采用真空泵對(duì)真空浸滲罐抽真空,,在抽真空過程中實(shí)時(shí)觀察真空浸滲罐中泡沫的高度,若泡沫超過抽真空口,,此時(shí)關(guān)閉真空泵,,待泡沫下降至真空浸滲罐的抽真空口以下后再開啟真空泵抽真空,周而復(fù)始,,直至真空浸滲罐內(nèi)壓力到,,保壓10分鐘;②-4對(duì)真空浸滲罐卸壓,,使其內(nèi)壓力常壓后打開蓋子,,將粘結(jié)釹鐵硼磁體從真空浸滲罐中取出。該方法中,,采用溫度在20℃以下的浸滲膠水進(jìn)行浸滲,,且浸滲膠水的液面高度高于粘結(jié)釹鐵硼磁體至少15mm,先采用蓋子將真空浸滲罐封閉后采用真空泵對(duì)真空浸滲罐抽真空,,在抽真空過程中實(shí)時(shí)觀察真空浸滲罐中泡沫的高度,,若泡沫超過抽真空口,此時(shí)關(guān)閉真空泵,,待泡沫下降至真空浸滲罐的抽真空口以下后再開啟真空泵抽真空,,周而復(fù)始,直至真空浸滲罐內(nèi)壓力到,,保壓10分鐘,,然后對(duì)真空浸滲罐卸壓。桐廬國產(chǎn)釹鐵硼釹鐵硼的磁性能力可以通過改變其化學(xué)成分和熱處理方式來調(diào)節(jié),。
所述密封排氣裝置的底部設(shè)置有若干進(jìn)氣口,;所述進(jìn)氣口連接有乒乓球柱;所述乒乓球柱頂端相切放置有用于排氣的乒乓球,;所述密封排氣裝置的頂部通過第二法蘭連接有用于排氣的排氣管,;當(dāng)機(jī)臺(tái)內(nèi)的氣體通過所述密封排氣裝置向上排放時(shí),氣體向上流動(dòng)對(duì)乒乓球產(chǎn)生向上的推力,,乒乓球離開所述乒乓球柱,,在所述密封排氣裝置內(nèi)進(jìn)行上下跳動(dòng)運(yùn)動(dòng),氣體從所述排氣管排出,。進(jìn)一步地,,所述密封排氣裝置的底部設(shè)置有三個(gè)所述進(jìn)氣口,三個(gè)所述進(jìn)氣口對(duì)應(yīng)連接有三個(gè)所述乒乓球柱,,三個(gè)所述乒乓球柱頂端相切放置有三個(gè)乒乓球,。進(jìn)一步地,所述透明觀察窗采用透明硬質(zhì)材料制作而成,;所述透明觀察窗為圓柱形,。進(jìn)一步地,,所述法蘭與所述第二法蘭之間連接有固定支柱。本實(shí)用新型的有益效果:本實(shí)用新型通過設(shè)置密封排氣裝置,;密封排氣裝置設(shè)有透明觀察窗,;所述密封排氣裝置的底部設(shè)置有進(jìn)氣口;所述進(jìn)氣口連接有乒乓球柱,;所述乒乓球柱頂端相切放置有用于排氣的乒乓球,;所述密封排氣裝置的頂部通過第二法蘭連接有用于排氣的排氣管;當(dāng)機(jī)臺(tái)內(nèi)的氣體通過所述密封排氣裝置向上排放時(shí),,氣體向上流動(dòng)對(duì)乒乓球產(chǎn)生向上的推力,,推力帶動(dòng)乒乓球離開所述乒乓球柱。
electrophoresisprocessingorpaintingprocessingandtheelectrophoresisprocessingorpaintprocessingafterthefirstbondedNdFeBmagnetsatthetemperatureof30minutesat7090Cunder10,againatthetemperatureof100under200DEGCbaking1040minutes;advantageisthroughinfiltrationprocesssothatthesealinggluefromthebondedNdFeBmagnetsintotheporesofbondedNdFeBmagnetwithinthebondedNdFeBmagnetporesealing,thenbyelectrophoresisorpaintinginthebondedNdFeBmagnetstoformaprotectivelayerofbondedNdFeBmagnethashighcorrosionresistanceandsolventresistancetest,theSolventresistancecapacityofmorethan30days,neutralsaltspraytestcanreachmorethan24hours,hightemperatureandhumidity(85degreesC,85%RH)morethan240hours.全部詳細(xì)技術(shù)資料下載【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】一種提高粘結(jié)釹鐵硼磁體性能的方法本技術(shù)涉及一種粘結(jié)釹鐵硼磁體表面處理技術(shù),,尤其是涉及一種提高粘結(jié)釹鐵硼磁體性能的方法,。技術(shù)介紹粘結(jié)釹鐵硼磁體具有優(yōu)異的磁性能和很高的性價(jià)比,被廣泛應(yīng)用于電子,、汽車,、電機(jī)和通信等但是,粘結(jié)釹鐵硼磁體具有以下缺陷:一,、粘結(jié)釹鐵硼磁體的性質(zhì)非?;顫姟bS鐵硼可以用于制造各種電子元件,,如傳感器、電機(jī),、發(fā)電機(jī)等,。
⑦烘干:將吹干或甩干的粘結(jié)釹鐵硼磁體平放在鋪設(shè)有脫脂紗布的網(wǎng)板上放入烘干機(jī)中,在溫度為100℃?130℃條件下烘烤30?60分鐘,;⑧將烘干的粘結(jié)釹鐵硼磁體進(jìn)行再次前處理,;⑨將再次前處理后的粘結(jié)釹鐵硼磁體進(jìn)行電泳處理或涂漆處理,粘結(jié)釹鐵硼磁體表面形成防護(hù)層,,防護(hù)層的厚度為10?35um,;⑩將電泳處理或涂漆處理后的粘結(jié)釹鐵硼磁體先在溫度為70℃?90℃條件平10?30分鐘,再在溫度為100?200℃條件下烘烤10?40分鐘,?!炯夹g(shù)特征摘要】1.一種提高粘結(jié)釹鐵硼磁體性能的方法,其特征在于包括以下步驟:①將待處理的粘結(jié)釹鐵硼磁體進(jìn)行前處理,;②對(duì)前處理后的粘結(jié)釹鐵硼磁體進(jìn)行浸滲處理,;③甩膠:將浸滲處理后的粘結(jié)釹鐵硼磁體平鋪在甩膠機(jī)底部,啟動(dòng)甩膠機(jī)進(jìn)行甩膠處理,,時(shí)間為1-5分鐘,;④清洗:將甩膠處理后的粘結(jié)釹鐵硼磁體進(jìn)行至少兩次清洗,;⑤將清洗后的粘結(jié)釹鐵硼磁體放入溫度為50-80℃的水中浸泡1-5分鐘;⑥將浸泡后的粘結(jié)釹鐵硼磁體吹干或甩干,;⑦烘干:將吹干或甩干的粘結(jié)釹鐵硼磁體平放在鋪設(shè)有脫脂紗布的網(wǎng)板上放入烘干機(jī)中,,在溫度為100℃-130℃條件下烘烤30-60分鐘;⑧將烘干的粘結(jié)釹鐵硼磁體進(jìn)行再次前處理,。釹鐵硼可以用于制造各種磁性輔助設(shè)備,,如磁性燈、磁性鐘表等,。慈溪高性能釹鐵硼
釹鐵硼磁體的磁性能優(yōu)異,,能夠滿足風(fēng)力發(fā)電機(jī)的需求。方形釹鐵硼價(jià)格
預(yù)烘溫度為120℃,,預(yù)烘時(shí)間為20分鐘,;②-5將預(yù)熱室和磁控濺射室之間的封閉門打開,自動(dòng)傳送設(shè)備將預(yù)熱后的釹鐵硼磁體送入磁控濺射室中,,然后將磁控濺射室和預(yù)熱室之間的封閉門再次封閉,,在磁控濺射室中采用磁控濺射設(shè)備對(duì)釹鐵硼磁體進(jìn)行磁控濺射處理,其中,,磁控濺射處理靶材采用鎳,,靶功率為400w,氣壓為,,在釹鐵硼磁體表面形成的濺射膜層的厚度為3-8μm,,處理時(shí)間為20分鐘;②-6將磁控濺射室和冷卻室之間的封閉門打開,,自動(dòng)傳送設(shè)備將磁控濺射處理后的釹鐵硼磁體送入冷卻室中,,磁控濺射室和冷卻室之間的封閉門封閉,在冷卻室中采用冷卻設(shè)備將釹鐵硼磁體冷卻至80℃以下,;②-7將冷卻室和出料室之間的封閉門打開,,自動(dòng)傳送設(shè)備將冷卻后的釹鐵硼磁體送入出料室中,將冷卻室和出料室之間的封閉門封閉,,從出料室內(nèi)取出網(wǎng)板,;②-8將網(wǎng)板上的釹鐵硼磁體翻面后間隔擺放至網(wǎng)板上,每相鄰兩塊釹鐵硼磁體之間的間隔距離大于釹鐵硼磁體的厚度,;②-9按照步驟②-3~②-7的方法對(duì)釹鐵硼磁體進(jìn)行再次處理,,得到連續(xù)磁控濺射鍍鎳處理后的釹鐵硼磁體。本實(shí)施例中,。方形釹鐵硼價(jià)格