一所高校的電子工程實驗室專注于新型傳感器的研究。在開發(fā)一款超靈敏壓力傳感器時，面臨著如何在微小尺寸上構(gòu)建高精度電路圖案的難題。德國 Polos 光刻機的引入解決了這一困境,。其可輕松輸入任意圖案進行曝光的特性，讓研究人員能夠根據(jù)傳感器的特殊需求,，設計并制作出獨特的電路結(jié)構(gòu),。通過 Polos 光刻機precise的光刻，成功制造出的壓力傳感器,，靈敏度比現(xiàn)有市場產(chǎn)品提高了兩倍以上,。該成果已獲得多項patent，并吸引了多家科技企業(yè)的關注,，有望實現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化應用,，為可穿戴設備、智能機器人等領域帶來新的發(fā)展機遇,。技術Benchmark：Polos-μPrinter 入選《半導體技術》年度創(chuàng)新產(chǎn)品,，推動無掩模光刻技術普及,。河南POLOSBEAM-XL光刻機

某基因treatment團隊采用 Polos 光刻機開發(fā)了微米級 DNA 遞送載體。通過 STL 模型直接導入,，在生物可降解聚合物表面刻制出 1-5μm 的蜂窩狀微孔結(jié)構(gòu),，載體的 DNA 負載量達 200μg/mg，較傳統(tǒng)電穿孔法提升 5 倍,。動物實驗顯示,，該載體在肝臟靶向遞送中，基因轉(zhuǎn)染效率達 65%,，且免疫原性降低 70%,。其無掩模特性支持根據(jù)不同細胞表面受體定制載體形貌，在 CAR-T 細胞treatment中,，CAR 基因?qū)胄蕪?30% 提升至 75%,，相關技術已申請國際patent。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案,。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實驗室,，并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領域，為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會,。陜西BEAM-XL光刻機讓你隨意進行納米圖案化圖案靈活性：支持 STL 模型直接導入,，30 分鐘完成從設計到曝光全流程。

低成本桌面化光刻：SPS POLOS μ的科研普惠,！Polos系列在微流體領域?qū)崿F(xiàn)復雜3D流道結(jié)構(gòu)的快速成型,。例如，中科院理化所利用類似技術制備跨尺度微盤陣列,，研究細胞浸潤行為,，為組織工程提供新策略3。Polos的高精度與靈活性支持仿生結(jié)構(gòu)批量生產(chǎn),，推動醫(yī)療診斷芯片研發(fā),，如tumor篩查與藥物遞送系統(tǒng)的微型化64。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案,。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小，非常適合研究實驗室,，并broad應用于微流體,、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,，為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會,。

某智能機器人實驗室采用 Polos 光刻機制造了磁控微納機器人。其激光直寫技術在鎳鈦合金薄膜上刻制出 10μm 的螺旋槳結(jié)構(gòu),，機器人在旋轉(zhuǎn)磁場下的推進速度達 50μm/s,，轉(zhuǎn)向精度小于 5°。通過自定義三維運動軌跡,，該機器人在微流控芯片中成功實現(xiàn)了單個紅細胞的捕獲與轉(zhuǎn)運,，操作成功率從傳統(tǒng)方法的 40% 提升至 85%。其輕量化設計（質(zhì)量 < 1μg）還支持在活細胞表面進行納米級手術,，相關成果入選《Science Robotics》年度創(chuàng)新技術,。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案,。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小，非常適合研究實驗室,，并broad應用于微流體,、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,，為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會,。全球產(chǎn)業(yè)鏈整合：德國精密制造背書，與Lab14集團共推光通信芯片封裝技術,。

石墨烯,、二硫化鉬等二維材料的器件制備依賴高精度圖案轉(zhuǎn)移，Polos 光刻機的激光直寫技術避免了傳統(tǒng)濕法轉(zhuǎn)移的污染問題,。某納米電子實驗室在 SiO?基底上直接曝光出 10nm 間隔的電極陣列,，成功制備出石墨烯場效應晶體管，其電子遷移率達 2×10? cm2/(V?s)，接近理論極限,。該技術支持快速構(gòu)建多種二維材料異質(zhì)結(jié),，使器件研發(fā)效率提升 5 倍，相關成果推動二維材料在柔性電子,、量子計算領域的應用研究進入快車道,。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案,。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小，非常適合研究實驗室,，并broad應用于微流體,、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,，為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會,。微型傳感器量產(chǎn)：80 μm開環(huán)諧振器加工能力，推動工業(yè)級MEMS傳感器升級,。北京BEAM-XL光刻機不需要緩慢且昂貴的光掩模

POLOS μ 光刻機：微型化機身,，納米級曝光精度，微流體芯片制備周期縮短 40%,。河南POLOSBEAM-XL光刻機

細胞培養(yǎng)芯片需根據(jù)不同細胞類型設計表面微結(jié)構(gòu),，傳統(tǒng)光刻依賴掩模庫，難以滿足個性化需求,。Polos 光刻機支持 STL 模型直接導入,，某干細胞研究所在 24 小時內(nèi)完成了神經(jīng)干細胞三維培養(yǎng)支架的定制加工。其制造的微柱陣列間距可精確控制在 5-50μm,，適配不同分化階段的細胞黏附需求,。實驗顯示，使用該支架的神經(jīng)細胞軸突生長速度提升 30%,，為神經(jīng)再生機制研究提供了高效工具，相關技術已授權給生物芯片企業(yè)實現(xiàn)量產(chǎn),。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實驗室,，并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,，為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。河南POLOSBEAM-XL光刻機