在航空航天科研中,，某科研團(tuán)隊(duì)致力于研發(fā)用于環(huán)境監(jiān)測(cè)和偵察的微型飛行器。其中,，制造輕量化且高性能的微機(jī)械部件是關(guān)鍵,。德國(guó) Polos 光刻機(jī)憑借無(wú)掩模激光光刻技術(shù)，助力團(tuán)隊(duì)制造出尺寸precise,、質(zhì)量輕盈的微型齒輪,、機(jī)翼骨架等微機(jī)械結(jié)構(gòu)。例如,，利用該光刻機(jī)制造的微型齒輪,，齒距精度達(dá)到納米級(jí)別，極大提高了飛行器動(dòng)力傳輸系統(tǒng)的效率和穩(wěn)定性,?；诖耍蒲袌F(tuán)隊(duì)成功試飛了一款新型微型飛行器,，其續(xù)航時(shí)間和飛行靈活性遠(yuǎn)超同類產(chǎn)品,，為未來(lái)微型飛行器在復(fù)雜環(huán)境下的應(yīng)用奠定了堅(jiān)實(shí)基礎(chǔ)。多材料兼容性：同步加工陶瓷 / PDMS / 金屬,，微流控芯片集成電極與通道一步成型。天津桌面無(wú)掩模光刻機(jī)讓你隨意進(jìn)行納米圖案化

無(wú)掩模激光光刻：科研效率的revolution性提升,！Polos-BESM系列采用無(wú)掩模激光直寫(xiě)技術(shù),，用戶可通過(guò)軟件直接輸入任意圖案，省去傳統(tǒng)光刻中掩膜制備的高昂成本與時(shí)間,。其405 nm紫外光源和亞微米分辨率（most小線寬0.8 μm）支持5英寸晶圓的高精度加工,，特別適合實(shí)驗(yàn)室快速原型開(kāi)發(fā),。閉環(huán)自動(dòng)對(duì)焦系統(tǒng)（1秒完成）和半自動(dòng)多層對(duì)準(zhǔn)功能，remarkable提升微流體芯片和MEMS器件的研發(fā)效率62,。無(wú)掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過(guò)無(wú)縫集成硬件和軟件組件,，開(kāi)發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng),。通過(guò)與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無(wú)縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實(shí)驗(yàn)室，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個(gè)領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢(shì)擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會(huì),。POLOSBEAM-XL光刻機(jī)光源波長(zhǎng)405微米快速自動(dòng)對(duì)焦：閉環(huán)對(duì)焦系統(tǒng)1秒完成,，多層半自動(dòng)對(duì)準(zhǔn)提升實(shí)驗(yàn)效率。

某revolution生物醫(yī)學(xué)研究機(jī)構(gòu)致力于開(kāi)發(fā)快速,、precise的疾病診斷技術(shù),。在研發(fā)一種用于早期tumor篩查的微流體診斷芯片時(shí)，采用了德國(guó) Polos 光刻機(jī),。利用其無(wú)掩模激光光刻技術(shù),，科研團(tuán)隊(duì)成功制造出擁有復(fù)雜微通道網(wǎng)絡(luò)的芯片。這些微通道能精確控制生物樣本與檢測(cè)試劑的混合及反應(yīng)過(guò)程,，極大提高了檢測(cè)的靈敏度和準(zhǔn)確性,。以往使用傳統(tǒng)光刻技術(shù)制備此類芯片，不only周期長(zhǎng),，且精度難以保證,。而 Polos 光刻機(jī)使制備周期縮短了近三分之一，助力該機(jī)構(gòu)在tumor早期診斷研究上取得重大突破,，相關(guān)成果已發(fā)表在國(guó)際authority醫(yī)學(xué)期刊上,。無(wú)掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù)，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過(guò)無(wú)縫集成硬件和軟件組件,，開(kāi)發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng)。通過(guò)與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無(wú)縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小，非常適合研究實(shí)驗(yàn)室，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個(gè)領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢(shì)擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會(huì),。

形狀記憶合金,、壓電陶瓷等智能材料的微結(jié)構(gòu)加工需要高精度圖案定位。Polos 光刻機(jī)的亞微米級(jí)定位精度,，幫助科研團(tuán)隊(duì)在鎳鈦合金薄膜上刻制出復(fù)雜驅(qū)動(dòng)電路,，成功制備出微型可編程抓手。該抓手在 40℃溫場(chǎng)中可實(shí)現(xiàn) 0.1mm 行程的precise控制,，抓取力達(dá) 50mN,，較傳統(tǒng)微加工方法性能提升 50%。該技術(shù)被應(yīng)用于微納操作機(jī)器人,，在單細(xì)胞膜片鉗實(shí)驗(yàn)中成功率從 40% 提升至 75%,，為細(xì)胞級(jí)precise操作提供了關(guān)鍵工具。無(wú)掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過(guò)無(wú)縫集成硬件和軟件組件，開(kāi)發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng),。通過(guò)與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無(wú)縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實(shí)驗(yàn)室,，并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個(gè)領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢(shì)擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會(huì)。德國(guó) SPS Polos：深耕微納加工 35 年,，專注半導(dǎo)體與生命科學(xué)領(lǐng)域,，全球布局 6 大技術(shù)中心，服務(wù) 500 + 科研機(jī)構(gòu),。

上海有機(jī)化學(xué)研究所通過(guò)光刻技術(shù)制備多組分納米纖維,，實(shí)現(xiàn)了功能材料的精確組裝。類似地,，Polos系列設(shè)備可支持此類結(jié)構(gòu)的可控加工,，為新能源器件（如柔性電池）和智能材料提供技術(shù)基礎(chǔ)3。設(shè)備的高重復(fù)性（0.1 μm）確保了科研成果的可轉(zhuǎn)化性,。掩模光刻技術(shù)可以隨意進(jìn)行納米級(jí)圖案化,，無(wú)需使用速度慢且昂貴的光罩,。這種便利對(duì)于科研和快速原型制作非常有用,。POL0S@ Beam XL在性能上沒(méi)有任何妥協(xié)的情況下,，將該技術(shù)帶到了桌面上，進(jìn)一步提升了其優(yōu)勢(shì),。環(huán)保低能耗設(shè)計(jì)：固態(tài)光源能耗較傳統(tǒng)設(shè)備降低30%,，符合綠色實(shí)驗(yàn)室標(biāo)準(zhǔn)。江蘇POLOSBEAM-XL光刻機(jī)不需要緩慢且昂貴的光掩模

Polos-BESM 光刻機(jī)：無(wú)掩模激光直寫(xiě),，50nm 精度,，支持金屬 / 聚合物同步加工，適配第三代半導(dǎo)體器件研發(fā),。天津桌面無(wú)掩模光刻機(jī)讓你隨意進(jìn)行納米圖案化

某分析化學(xué)實(shí)驗(yàn)室采用 Polos 光刻機(jī)開(kāi)發(fā)了集成電化學(xué)傳感器的微流控芯片,。其多材料同步曝光技術(shù)在 PDMS 通道底部直接制備出 10μm 寬的金電極，傳感器的檢測(cè)限達(dá) 1nM,，較傳統(tǒng)電化學(xué)工作站提升 100 倍,。通過(guò)軟件輸入不同圖案，可在 24 小時(shí)內(nèi)完成從葡萄糖檢測(cè)到重金屬離子分析的模塊切換,。該芯片被用于即時(shí)檢測(cè)（POCT）設(shè)備,，使現(xiàn)場(chǎng)水質(zhì)監(jiān)測(cè)時(shí)間從 2 小時(shí)縮短至 10 分鐘，相關(guān)設(shè)備已通過(guò)歐盟 CE 認(rèn)證,。無(wú)掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過(guò)無(wú)縫集成硬件和軟件組件,，開(kāi)發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng),。通過(guò)與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無(wú)縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實(shí)驗(yàn)室，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個(gè)領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢(shì)擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會(huì),。天津桌面無(wú)掩模光刻機(jī)讓你隨意進(jìn)行納米圖案化