可編程微流控芯片需要集成電路控制與流體通道，傳統(tǒng)工藝需多次掩模對準(zhǔn),，良率only 30%,。Polos 光刻機(jī)的多材料同步曝光技術(shù),，支持在同一塊基板上直接制備金屬電極與 PDMS 通道,，將良率提升至 85%,。某微系統(tǒng)實(shí)驗(yàn)室利用該特性,，開發(fā)出可實(shí)時切換流路的生化分析芯片,，通過軟件輸入不同圖案,，10 分鐘內(nèi)即可完成從 DNA 擴(kuò)增到蛋白質(zhì)檢測的模塊切換。該成果應(yīng)用于 POCT 設(shè)備,，使現(xiàn)場快速檢測系統(tǒng)的體積縮小 60%,，檢測時間縮短至傳統(tǒng)方法的 1/3。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過無縫集成硬件和軟件組件，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計算機(jī)輔助設(shè)計軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實(shí)驗(yàn)室,，并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會。光束引擎高速掃描：SPS POLOS μ單次寫入400 μm區(qū)域,，壓電驅(qū)動提升掃描速度,。四川POLOSBEAM-XL光刻機(jī)MAX層厚可達(dá)到10微米

細(xì)胞培養(yǎng)芯片需根據(jù)不同細(xì)胞類型設(shè)計表面微結(jié)構(gòu)，傳統(tǒng)光刻依賴掩模庫,，難以滿足個性化需求,。Polos 光刻機(jī)支持 STL 模型直接導(dǎo)入，某干細(xì)胞研究所在 24 小時內(nèi)完成了神經(jīng)干細(xì)胞三維培養(yǎng)支架的定制加工,。其制造的微柱陣列間距可精確控制在 5-50μm,，適配不同分化階段的細(xì)胞黏附需求。實(shí)驗(yàn)顯示,，使用該支架的神經(jīng)細(xì)胞軸突生長速度提升 30%,，為神經(jīng)再生機(jī)制研究提供了高效工具，相關(guān)技術(shù)已授權(quán)給生物芯片企業(yè)實(shí)現(xiàn)量產(chǎn),。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計算機(jī)輔助設(shè)計軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實(shí)驗(yàn)室,，并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會。河北德國POLOS光刻機(jī)MAX層厚可達(dá)到10微米Polos-BESM：基礎(chǔ)款高性價比,，適合高校實(shí)驗(yàn)室基礎(chǔ)微納加工,。

某半導(dǎo)體實(shí)驗(yàn)室采用 Polos 光刻機(jī)開發(fā)氮化鎵（GaN）基高電子遷移率晶體管（HEMT）。其激光直寫技術(shù)在藍(lán)寶石襯底上實(shí)現(xiàn)了 50nm 柵極長度的precise曝光,，較傳統(tǒng)光刻工藝線寬偏差降低 60%,。通過自定義多晶硅柵極圖案，器件的電子遷移率達(dá) 2000 cm2/(V?s),，擊穿電壓提升至 1200V,，遠(yuǎn)超商用產(chǎn)品水平。該技術(shù)還被用于 SiC 基功率器件的臺面刻蝕,，刻蝕深度均勻性誤差小于 ±3%,，助力我國新能源汽車電控系統(tǒng)core器件的國產(chǎn)化突破。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過無縫集成硬件和軟件組件，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計算機(jī)輔助設(shè)計軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實(shí)驗(yàn)室,，并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會。

Polos-BESM支持GDS文件直接導(dǎo)入和多層曝光疊加,，簡化射頻器件（如IDC電容器）制造流程,。研究團(tuán)隊(duì)利用類似設(shè)備成功制備高頻電路元件，驗(yàn)證了其在5G通信和物聯(lián)網(wǎng)硬件中的潛力,。其高重復(fù)性（0.1 μm）確?？蒲谐晒目赊D(zhuǎn)化性，助力國產(chǎn)芯片產(chǎn)業(yè)鏈突破技術(shù)封鎖56。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過無縫集成硬件和軟件組件，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計算機(jī)輔助設(shè)計軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實(shí)驗(yàn)室，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會,。低成本科研普惠：桌面化設(shè)計減少投入,，無掩膜工藝降低中小型實(shí)驗(yàn)室門檻。

無掩模激光光刻技術(shù)為研究實(shí)驗(yàn)室提供了一種多功能的納米/微米光刻工具,，可用于創(chuàng)建亞微米級特征,，并促進(jìn)電路和器件的快速原型設(shè)計。經(jīng)濟(jì)高效的桌面配置使研究人員和行業(yè)從業(yè)者無需復(fù)雜的基礎(chǔ)設(shè)施和設(shè)備即可使用光刻技術(shù),。應(yīng)用范圍擴(kuò)展至微機(jī)電系統(tǒng) (MEM),、生物醫(yī)學(xué)設(shè)備和微電子器件的設(shè)計和制造，例如以下領(lǐng)域：醫(yī)療（包括微流體）,、半導(dǎo)體,、電子、生物技術(shù)和生命科學(xué),、先進(jìn)材料研究,。全球無掩模光刻系統(tǒng)市場規(guī)模預(yù)計在 2022 年達(dá)到 3.3606 億美元，預(yù)計到 2028 年將增長至 5.0143 億美元,，復(fù)合年增長率為 6.90%,。由于對 5G、AIoT,、物聯(lián)網(wǎng)以及半導(dǎo)體電路性能和能耗優(yōu)化的需求不斷增長,，預(yù)計未來幾十年光刻市場將持續(xù)增長。電子學(xué)應(yīng)用：2μm 線寬光刻能力,，第三代半導(dǎo)體器件研發(fā)效率提升 3 倍,。德國BEAM光刻機(jī)基材厚度可達(dá)到0.1毫米至8毫米

光學(xué)超材料突破：光子晶體結(jié)構(gòu)precise制造，賦能超透鏡與隱身技術(shù)研究,。四川POLOSBEAM-XL光刻機(jī)MAX層厚可達(dá)到10微米

柔性電子是未來可穿戴設(shè)備的core方向,，其電路圖案需適應(yīng)曲面基底。Polos 光刻機(jī)的無掩模技術(shù)在聚酰亞胺柔性基板上實(shí)現(xiàn)了 2μm 線寬的precise曝光,，解決了傳統(tǒng)掩模對準(zhǔn)偏差問題,。某柔性電子研究中心利用該設(shè)備,，開發(fā)出可貼合皮膚的健康監(jiān)測貼片，其傳感器陣列的信號噪聲比提升 60%,。相比光刻膠掩模工藝,，Polos 光刻機(jī)將打樣時間從 72 小時壓縮至 8 小時，加速了柔性電路的迭代優(yōu)化,，推動柔性電子從實(shí)驗(yàn)室走向產(chǎn)業(yè)化落地,。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù)，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機(jī)輔助設(shè)計軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小，非常適合研究實(shí)驗(yàn)室,，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會,。四川POLOSBEAM-XL光刻機(jī)MAX層厚可達(dá)到10微米